JP2013032496A - 熱硬化性樹脂組成物、熱伝導性シート、及び、半導体モジュール - Google Patents
熱硬化性樹脂組成物、熱伝導性シート、及び、半導体モジュール Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013032496A JP2013032496A JP2012129078A JP2012129078A JP2013032496A JP 2013032496 A JP2013032496 A JP 2013032496A JP 2012129078 A JP2012129078 A JP 2012129078A JP 2012129078 A JP2012129078 A JP 2012129078A JP 2013032496 A JP2013032496 A JP 2013032496A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particles
- conductive sheet
- oxide particles
- heat
- heat conductive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 49
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 192
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims abstract description 63
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 63
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 57
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 57
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 25
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 24
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 23
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 15
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 93
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 65
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 65
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 55
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 42
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 21
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 16
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 16
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 15
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 13
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 8
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 4
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 238000012845 near infrared spectroscopy analysis Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 description 3
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- JDVIRCVIXCMTPU-UHFFFAOYSA-N ethanamine;trifluoroborane Chemical compound CCN.FB(F)F JDVIRCVIXCMTPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
【解決手段】窒化ホウ素粒子の一部又は全部が凝集粒子となって熱硬化性樹脂中に分散されてなる熱伝導性シートであって、金属酸化物粒子をさらに含有し、該金属酸化物粒子と前記窒化ホウ素粒子とが合計40体積%〜70体積%含有されており、且つ、前記金属酸化物粒子と前記窒化ホウ素粒子との体積比率が10:90〜50:50で、前記金属酸化物粒子のメジアン径が0.5μm〜30μmであることを特徴とする熱伝導性シートなどを提供する。
【選択図】 図1
Description
例えば、電気絶縁性と熱伝導性とが求められるような用途において、エポキシ樹脂に熱伝導性を向上させるための無機フィラーを分散させた熱硬化性樹脂組成物が広く用いられており、該熱硬化性樹脂組成物で熱伝導性シートや金属ベース回路基板の絶縁層を形成させることが広く行われている。
このことから熱伝導性シート等を薄肉化して熱伝導率を向上させるのには限界があり、従来、熱硬化性樹脂組成物に含有させる無機フィラーの材質や粒径等によって熱伝導率を向上させることが検討されている。
この無機フィラーとしては、窒化ホウ素粒子や窒化アルミニウム粒子などの熱伝導性に優れた窒化物粒子を採用することが従来検討されている。
なお、窒化ホウ素は、通常、その一次粒子の形状が大きさ20μm以下の平板状で、この一時粒子を凝集させた凝集粒子を無機フィラーとして採用することで熱伝導性シート等の厚み方向に良好な伝熱パスを形成させることができることからこの種の用途における利用が近年広く検討されている。
例えば、下記特許文献1、2には、窒化ホウ素の一次粒子とともに凝集粒子を含有させた熱伝導性シートを備えた半導体モジュールに係る発明が記載されており、内部に備えられた半導体素子の発する熱を放熱させるための放熱面に前記熱を伝達する熱伝導性シートが備えられている半導体モジュールが記載されている。
そうすると、熱伝導性シートや金属ベース回路基板の絶縁層にクラック等を生じさせやすく、例えば、前記のような半導体モジュールの絶縁信頼性を損なうおそれを有する。
このことに対して窒化ホウ素粒子と金属酸化物粒子とを併用して熱硬化性樹脂組成物に含有させることも考え得るが、単に金属酸化物粒子を含有させると熱伝導性シートや金属ベース回路基板の熱伝導性を大きく低下させてしまうおそれを有する。
従って、このような熱伝導性シートを備えさせることで、絶縁信頼性に優れた半導体モジュールを提供し得る。
図1は、金属箔付熱伝導性シート1の断面を表す断面図であり、図の符号10は、本発明の熱硬化性樹脂組成物によって形成されてなる高熱伝導性ポリマー層を表し、20は、前記金属箔からなる金属箔層を表している。
即ち、本実施形態においては、内部に半導体素子50を備え、該半導体素子50の発する熱を放熱させる放熱面に前記熱を伝達させるための金属箔付熱伝導性シートが備えられている半導体モジュール2を例示しつつ図面を参照して本発明について説明する。
図2は、半導体モジュール2の断面を示しており、この図にも示されているように本実施形態に係る半導体モジュール2は、平たい箱形で、上下を開口させた矩形枠状のプラスチックケース80によって周壁が形成されている。
そして、半導体モジュール2には、前記半導体素子50とヒートシンク30とが前記プラスチックケース80の内側に収容されている。
より詳しくは、前記ヒートシンク30は、プラスチックケース80によって形成されている周壁の高さの半分程度の厚みを有し、前記プラスチックケース80の開口面積よりもよりも一回り小さな矩形板状で、その上面中央部に前記半導体素子50を搭載して前記プラスチックケース内に収容されている。
さらに、前記ヒートシンク30は、前記端子70aの貫通している箇所と対向する位置において前記プラスチックケース80を水平方向に貫通する別の端子70bと前記半導体素子50とがボンディングワイヤー60によって電気的に接続されて、これらの端子間における電気の流路を形成している。
即ち、前記ヒートシンク30は、半導体モジュール2の通電時においては、内部に電流が流れるようになっており、前記半導体素子50による発熱に加え当該ヒートシンク30を流れる電流に伴うジュール熱による温度上昇を発生させることになる。
なお、半導体モジュール2は、前記プラスチックケース内にモールド樹脂90が充填されており、前記ヒートシンク30の下面側を残して前記半導体素子50等が前記モールド樹脂中に埋設されている。
該金属箔付熱伝導性シート1は、半導体モジュール2の下面において前記金属箔層20の表面を露出させており、該金属箔層20の表面20aを半導体モジュール2の放熱面として利用させ得るように備えられている。
即ち、本実施形態に係る半導体モジュール2の下面は、中央部において前記金属箔層20の表面20aを露出させており、その外縁部を構成している前記プラスチックケース80の下端面と前記金属箔層20の表面20aとの間にモールド樹脂90を露出させている。
なお、本実施形態に係る半導体モジュール2は、モールド樹脂90の前記露出面、前記金属箔層20の表面20a、及び、前記プラスチックケース80の下端面とが略面一となるように形成されており、その下面に放熱器等を装着させることで該放熱器の表面を前記金属箔層20の表面20aに面接させて半導体素子50が発する熱を金属箔付熱伝導性シート1を介して放熱させうるように形成されている。
なお、高熱伝導性ポリマー層10は、通常、その厚みが薄い方がヒートシンク30から金属箔層20への熱抵抗を低くすることができ、放熱に有利となる。
一方で、高熱伝導性ポリマー層10の厚みが薄いと電気絶縁性における信頼性を低下させるおそれを有する。
このようなことから、高熱伝導性ポリマー層10は、通常、熱硬化後における体積抵抗率が1×1014Ω・cm以上となる熱硬化性樹脂組成物によって、100〜300μmの厚みとなるように形成される。
従って、高熱伝導性ポリマー層10は、要すれば、単層構造としてもよいが、2層以上の多層構造とすることが好ましく、仮に、一つの層にピンホールが形成されていたとしても、他の層の健全な部分でこのピンホールをカバーさせて厚み方向に連続する欠陥を形成させないようにすることが好ましい。
このような高熱伝導性ポリマー層10は、例えば、当該高熱伝導性ポリマー層10の約半分の厚みを有する2枚のシートを本発明の熱硬化性樹脂組成物で形成させ、該2枚のシートを完全に熱硬化させてしまわないようにして熱プレスさせるなどして形成させることができる。
なかでも、トリフェニルメタン型フェノール樹脂は、耐熱性において有利であり、フェノールアラルキル樹脂は、ヒートシンクとの間に良好なる接着性を示す点において好ましく用いられ得る。
該硬化剤としては、例えば、ジアミノジフェニルスルホン、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルメタン、トリエチレンテトラミンなどのアミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤などを用いることができる。
前記硬化促進剤としては、例えば、イミダゾール類や、トリフェニルフォスフェイト(TPP)、三フッ化ホウ素モノエチルアミンなどのアミン系硬化促進剤が挙げられる。
即ち、前記熱硬化性樹脂組成物には、金属酸化物粒子と窒化ホウ素粒子とを合計40体積%〜70体積%含有させ、且つ、前記金属酸化物粒子と前記窒化ホウ素粒子とを体積比率が10:90〜50:50(金属酸化物粒子:窒化ホウ素粒子)となるように含有させることが重要である。
また、前記熱硬化性樹脂組成物に含有させる前記金属酸化物粒子は、メジアン径が0.5μm〜30μmであることが高熱伝導性ポリマー層10に優れた凝集破壊強度と良好なる熱伝導性とを付与する点において重要である。
上記のようにして窒化ホウ素粒子と金属酸化物粒子とを含有させることにより、熱硬化後における高熱伝導性ポリマー層10の熱伝導率を、通常、4.5W/mK以上とすることができ、例えば、3oz(105μm)の厚みの電解銅箔のマット面との間の接着力(90度ピール強度)を5.7N/cm以上とすることができる。
なお、窒化ホウ素の一次粒子は、通常、六角板状となっており、前記凝集粒子はこの一次粒子が複数集合した球状に近い形状を示していることから、当該高熱伝導性ポリマー層10の断面を顕微鏡観察するなどすれば、窒化ホウ素粒子が凝集粒子として含有されているかどうかを容易に判別することができる。
上記のようにこの凝集粒子は、良好なる伝熱パスを形成させるのに有効な成分であり、高熱伝導性ポリマー層10に優れた熱伝導性を発揮させ得る点において含有させる窒化ホウ素粒子の内、50質量%以上を凝集粒子の状態で含有させることが好ましい。
なかでも、酸化ケイ素粒子や酸化アルミニウム粒子で、且つ、メジアン径が0.5〜30μmの金属酸化物粒子が好ましく、メジアン径が0.5〜10μmのものが特に好ましい。
このメジアン径については、レーザー回折散乱式粒度分布計による測定によって求めることができる。
特に、メジアン径が0.5〜30μmの酸化アルミニウム粒子と、メジアン径が0.5μm未満のヒュームドシリカとの混合粒子は、熱硬化性樹脂組成物に優れた熱伝導率と優れた凝集破壊強度とをバランス良く付与することが容易となる点において本実施形態の熱伝導性シートに用いる金属酸化物粒子として好適なものであるといえる。
この酸化アルミニウム粒子やシリカ粒子は粒子表面に水酸基などの凝集破壊強度の向上に有効な官能基を有しており、JIS K 1150に規定されているシラノール基の求め方によって算出される水酸基の数が無機フィラー全体での平均において1mol/g以上となるように高熱伝導性ポリマー層に含有させることが好ましく1.5mol/g以上となるように含有させることが特に好ましい。
なお、この無機フィラー全体での平均水酸基数については、具体的には実施例記載の方法によって確認することができる。
例えば、窒化アルミニウム粒子、窒化ケイ素粒子、窒化ガリウム粒子、炭化ケイ素粒子、ダイヤモンド粒子などの無機フィラーを本発明の効果が著しく損なわれない範囲において含有させることができる。
なお、窒化ホウ素粒子及び金属酸化物粒子以外の無機フィラーは、過度に含有させると損なわれるおそれを有することから、これらを含有させる場合であれば、熱硬化性樹脂組成物中の全無機フィラーに占める割合が5体積%以下となるように含有させることが好ましく、2体積%以下となるように含有させることがさらに好ましく、1体積%以下となるように含有させることが最も好ましい。
また、これら以外に、分散剤、粘着性付与剤、老化防止剤、酸化防止剤、加工助剤、安定剤、消泡剤、難燃剤、増粘剤、顔料などといった樹脂製品に一般に用いられる配合薬品を本発明の効果を損なわない範囲において高熱伝導性ポリマー層10を形成させる熱硬化性樹脂組成物に適宜含有させることができる。
該金属箔としては、異種金属が貼り合わされてなるクラッド箔や異種金属をメッキしたメッキ箔であってもよい。
また、この金属箔層20を構成させる金属箔としては、高熱伝導性ポリマー層10との接着力を向上させるべく、高熱伝導性ポリマー層10との界面側の表面が粗化されていることが好ましい。
この表面粗化については、金属箔の表面をサンドブラスト処理や酸化処理するなどして施すことができる。
また、その場合には、表面平滑なシャイニング面(光沢面)を放熱面として利用することができる点においても好適である。
本実施形態においては、比較的安価であり、耐腐蝕性にも優れ、高い熱伝導性を有する点において、この金属箔層20の形成に電解銅箔を用いることが好ましい。
さらに、この電解銅箔としては、マット面にジンケート処理が施されているものを用いることが好ましい。
前記金属箔付熱伝導性シートを作製するには、例えば、下記a)〜e)の工程を順に実施する方法が挙げられる。
a)前記エポキシ樹脂や前記フェノール樹脂を溶解可能な有機溶媒に所望の濃度となるようにエポキシ樹脂とフェノール樹脂とを溶解させるとともにこの樹脂溶液に前記窒化ホウ素粒子や前記金属酸化物粒子等を分散させてコーティング液を作製するコーティング液作製工程、
b)金属箔層20を形成させるための金属箔上に前記コーティング液をコーティングするコーティング工程、
c)前記コーティング液がコーティングされた金属箔を乾燥炉に導入して前記有機溶媒を除去し前記コーティング液の乾燥被膜を金属箔上に形成させる乾燥工程、
d)前記乾燥被膜の形成された金属箔を2枚用意し、前記乾燥被膜が内側になるように重ね合わせ、熱プレスして2層の乾燥被膜を積層一体化させて高熱伝導性ポリマー層を形成させる熱プレス工程、
e)前記熱プレス工程後に、一方の余分な金属箔を剥離することにより金属箔層と高熱伝導性ポリマー層とが積層された金属箔付熱伝導性シートを形成させる剥離工程。
ただし、コーティング液に過度にせん断が加えられると窒化ホウ素の凝集粒子を破砕してしまうおそれを有することから、そのようなことが起こり難い装置を選択することが好ましい。
また、装置の運転条件としても凝集粒子の破砕が生じないように調整することが好ましい。
前記熱プレス工程は、高熱伝導性ポリマー層を2層構成として、厚み方向に貫通する欠陥を形成させないようにする上においても有効なものではあるが、上記の空隙部を原因として高熱伝導性ポリマー層中にボイドなどの欠陥が形成されることを抑制させる上においても有効となる。
また、窒化ホウ素粒子どうしを接近させて、特に凝集粒子を主体とした伝熱パスを形成させるのにも該熱プレス工程は有効なものであるといえる。
従って、熱プレス工程は、ヒートスプレッダに対する接着性が損なわれない範囲の条件で実施することが好ましい。
より詳しくは、AOTF−NIRによって、4611cm-1近傍に出現する芳香族由来の吸収ピークと4525cm-1近傍に出現するエポキシ基由来の吸収ピークとの強度比で硬化の進行度合いを判定することが好ましい。
従って、作業効率の観点からは、ヒートスプレッダへの接着条件を一定化させることが好ましく、金属箔付熱伝導性シートの作製後ヒートスプレッダへの接着前に、高熱伝導性ポリマー層の硬化度合いを調整する硬化度調整工程をさらに設けることが好ましい。
この硬化度調整工程は、金属箔付熱伝導性シートを所定の温度で所定の時間加熱することで実施可能であり、その際の加熱温度や加熱時間については、前記のAOTF−NIRによる硬化度判定結果に基づいて設定すればよい。
即ち、本発明に係る熱硬化性樹脂組成物が用いられてなる金属箔付熱伝導性シート1を半導体モジュール2に備えさせ、該半導体モジュール2の内部において半導体素子50が発する熱を前記金属箔付熱伝導性シート1を介して放熱面に伝達させるようにすることで当該半導体モジュール2を、放熱性に優れ、且つ、絶縁信頼性に優れたものとすることができる。
例えば、金属箔層を備えていない前記高熱伝導性ポリマー層単体からなる熱伝導性シートを本発明の熱硬化性樹脂組成物で形成させることも可能であり、金属ベース回路基板の絶縁層を本発明の熱硬化性樹脂組成物で形成させることも可能である。
即ち、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、金属ベース回路基板の絶縁層の形成に用いられるような場合においても優れた熱伝導率を有するとともに凝集破壊強度に優れた絶縁層が得られる点については熱伝導シートの形成に利用される場合と同様の効果を期待することができるものである。
または、製造に要する手間を簡略化させるべく、高熱伝導性ポリマー層を単層構成としてもよい。
なお、高熱伝導性ポリマー層を複数層構成とする場合には、本実施形態に例示のごとく全ての層の配合内容を共通させる必要はなく、一つの層と他の層とで配合内容を異ならせていてもよい。
略全体が凝集粒子となっている窒化ホウ素粒子(メジアン径:24μm)と酸化アルミニウム粒子(メジアン径:0.9μm)との合計が固形分に占める割合が60体積%となるように、窒化ホウ素粒子、酸化アルミニウム粒子、エポキシ樹脂(トリフェニルメタン型エポキシ樹脂)、フェノール樹脂(フェノールアラルキルタイプフェノール樹脂)を有機溶媒に分散させてワニスを形成させた。
なお、窒化ホウ素粒子と酸化アルミニウム粒子との合計に占める窒化ホウ素粒子の体積比率(BN比率)は、50%とした。
サンドブラストによってマット処理されたPETフィルムにこのワニスを塗布・乾燥し前記PETフィルム上に熱硬化性樹脂組成物からなる乾燥被膜を形成させた。
この乾燥被膜の形成されたPETフィルムを2枚用意し、乾燥被膜どうしが接するように重ね合わせ、熱プレスして2層の乾燥被膜を積層一体化させた後にPETフィルムを剥離することにより厚み150μmの熱伝導性シートを形成させた。
実施例1の熱伝導性シートを厚み105μmの電解銅箔とアルミニウム板との間に挟んで熱プレスして、該アルミニウム板の表面と電解銅箔のマット面とに熱伝導性シートを接着させて該熱伝導性シートに含有されているエポキシ樹脂を熱硬化させ凝集破壊強度の評価用テストピースを作製した。
このテストピースを用い、JIS C 6481に基づく銅箔の引き剥がし強さ(90度ピール強度)の測定を実施し、凝集破壊強度を評価した。
結果を、下記表1に示す。
凝集破壊強度の評価用テストピースと同様のテストピースを作製し、TO−220型トランジスタを接触させるための10mm×15mmの領域を除いて他の部分の銅箔をエッチングにより除去した。
残った10mm×15mmの銅箔にTO−220型トランジスタの放熱板をハンダ付けするとともに背面側のアルミニウム板表面に放熱グリスを塗布して放熱器を取り付けた。
この放熱器を20℃に保った冷却水に浸漬させた状態でTO−220型トランジスタが約10W〜約40Wの仕事率となるように通電し、熱伝導性シートを挟んでトランジスタ側と放熱器側との間に生じる温度差を測定した。
この仕事率、温度差、放熱面積(10mm×15mm)、及び、熱伝導性シートの厚み(150μm)から熱伝導性シートを形成している熱硬化性樹脂組成物の熱伝導率を算出した。
結果を、下記表1に示す。
熱伝導性シートを形成させるための熱硬化性樹脂組成物の配合を表1に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様に熱伝導性シートを作製し、実施例1と同様に評価した。
なお、実施例7では、金属酸化物粒子を酸化アルミニウム粒子ではなく酸化ケイ素粒子とした。
熱伝導性シートを形成させるための熱硬化性樹脂組成物の配合を表2に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様に熱伝導性シートを作製し、実施例1と同様に評価した。
ただし、比較例2、4では、熱伝導性シートの作製自体が不可能で凝集破壊強度及び熱伝導性についての評価を実施することが出来なかった。
そして、JIS K1150に基づいて粒子表面の水酸基密度を算出した。
即ち、この減少した質量が全て水分であり、且つ、この全ての水分が元々は2個の水酸基として酸化アルミニウム粒子や酸化ケイ素粒子の表面に存在していたと仮定し、これらの比表面積から、粒子表面の水酸基密度を下記式に基づき算出した。
水酸基密度=2×100×強熱減量÷18(g/mol)÷比表面積(m2/g)
表3の酸化アルミニウム粒子1とヒュームドシリカ1との混合粒子(金属酸化物粒子)、略全体が凝集粒子となっている窒化ホウ素粒子(メジアン径:24μm)、エポキシ樹脂(トリフェニルメタン型エポキシ樹脂)、フェノール樹脂(フェノールアラルキルタイプフェノール樹脂)、及び、有機溶媒を用いてワニスを形成させた。
このとき前記混合粒子と前記窒化ホウ素粒子との合計が、ワニスの固形分に占める割合が60体積%となるように配合してワニスを形成させた。
なお、窒化ホウ素粒子(A)、酸化アルミニウム粒子1(B1)、及び、ヒュームドシリカ1(C1)の合計に占めるそれぞれの体積比率は、(A:B1:C1)=50:50:0.4となるようにワニスを作製した。
サンドブラストによってマット処理されたPETフィルムにこのワニスを塗布・乾燥し前記PETフィルム上に熱硬化性樹脂組成物からなる乾燥被膜を形成させた。
この乾燥被膜の形成されたPETフィルムを2枚用意し、乾燥被膜どうしが接するように重ね合わせ、熱プレスして2層の乾燥被膜を積層一体化させた後にPETフィルムを剥離することにより厚み150μmの熱伝導性シートを形成させた。
参考例1の熱伝導性シートを厚み105μmの電解銅箔とアルミニウム板との間に挟んで熱プレスして、該アルミニウム板の表面と電解銅箔のマット面とに熱伝導性シートを接着させて該熱伝導性シートに含有されているエポキシ樹脂を熱硬化させ凝集破壊強度の評価用テストピースを作製した。
このテストピースを用い、JIS C 6481に基づく銅箔の引き剥がし強さ(90度ピール強度)の測定を実施し、凝集破壊強度を評価した。
凝集破壊強度の評価用テストピースと同様のテストピースを作製し、TO−220型トランジスタを接触させるための10mm×15mmの領域を除いて他の部分の銅箔をエッチングにより除去した。
残った10mm×15mmの銅箔にTO−220型トランジスタの放熱板をハンダ付けするとともに背面側のアルミニウム板表面に放熱グリスを塗布して放熱器を取り付けた。
この放熱器を20℃に保った冷却水に浸漬させた状態でTO−220型トランジスタが約10W〜約40Wの仕事率となるように通電し、熱伝導性シートを挟んでトランジスタ側と放熱器側との間に生じる温度差を測定した。
この仕事率、温度差、放熱面積(10mm×15mm)、及び、熱伝導性シートの厚み(150μm)から熱伝導性シートを形成している熱硬化性樹脂組成物の熱伝導率を算出した。
酸化アルミニウム粒子1に代えて酸化アルミニウム粒子2を用いた点以外は参考例1と同様に熱伝導性シートを作製し、凝集破壊強度、熱伝導性の評価を実施した。
窒化ホウ素粒子(A)、酸化アルミニウム粒子2(B2)、及び、ヒュームドシリカ1(C1)の体積比率を(A:B2:C1)=50:50:1とした点以外は参考例2と同様に熱伝導性シートを作製し、凝集破壊強度、熱伝導性の評価を実施した。
酸化アルミニウム粒子1に代えて酸化アルミニウム粒子2を用い窒化ホウ素粒子(A)、酸化アルミニウム粒子2(B2)、及び、ヒュームドシリカ1(C1)の体積比率を(A:B2:C1)=50:50:1.5とした点以外は参考例1と同様に熱伝導性シートを作製し、凝集破壊強度、熱伝導性の評価を実施した。
窒化ホウ素粒子(A)、酸化アルミニウム粒子2(B2)、及び、ヒュームドシリカ1(C1)の体積比率を(A:B2:C1)=60:40:1.5とした点以外は参考例4と同様に熱伝導性シートを作製し、凝集破壊強度、熱伝導性の評価を実施した。
窒化ホウ素粒子(A)、酸化アルミニウム粒子2(B2)、及び、ヒュームドシリカ1(C1)の体積比率を(A:B2:C1)=70:30:1.5とした点以外は参考例4と同様に熱伝導性シートを作製し、凝集破壊強度、熱伝導性の評価を実施した。
酸化アルミニウム粒子及びヒュームドシリカ1を含有させずに、窒化ホウ素粒子(メジアン径:24μm)のみを固形分に占める割合が60体積%となるように配合して熱伝導性シートを作製し、凝集破壊強度、熱伝導性の評価を実施した。
また、窒化ホウ素粒子、酸化アルミニウム粒子、及び、ヒュームドシリカを合わせた全無機フィラーの単位質量当たりの水酸基量(mol/g)を窒化ホウ素粒子の水酸基をゼロと仮定して算出した結果を併せて下記表4に示す。
即ち、表3に示した水酸基密度に比表面積を乗じて酸化アルミニウム粒子やヒュームドシリカ粒子の単位質量当たりの水酸基数(mol/g)を求め、その値に無機フィラー全体に占める質量割合を乗じることで無機フィラー全体での平均水酸基数を算出した。
このグラフにおいては、右肩上がりの傾向が示されており、平均水酸基数を1.0mol/g以上に調整することが高いピール強度を得る上において有利であり、平均水酸基数を1.5mol/g以上とすることで、熱伝導性シートに優れた凝集破壊強度を優れた熱伝導性とともにバランス良く付与しうることがわかる。
Claims (5)
- 窒化ホウ素粒子の一部又は全部が凝集粒子となって熱硬化性樹脂中に分散されてなる熱伝導性シートであって、
金属酸化物粒子をさらに含有し、該金属酸化物粒子と前記窒化ホウ素粒子とが合計40体積%〜70体積%含有されており、且つ、前記金属酸化物粒子と前記窒化ホウ素粒子との体積比率が10:90〜50:50で、前記金属酸化物粒子のメジアン径が0.5μm〜30μmであることを特徴とする熱伝導性シート。 - 前記熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂とフェノール樹脂とが含有されている請求項1記載の熱伝導性シート。
- アルミナ粒子及びシリカ粒子の内の少なくとも一方が前記金属酸化物粒子として含有されている請求項1又は2記載の熱伝導性シート。
- 半導体素子が備えられており、該半導体素子の発する熱を放熱させる放熱面に前記熱を伝達させるための熱伝導性シートが備えられている半導体モジュールであって、
前記熱伝導性シートが請求項1乃至3のいずれか1項に記載の熱伝導性シートであることを特徴とする半導体モジュール。 - 窒化ホウ素粒子の一部又は全部が凝集粒子となって熱硬化性樹脂中に分散されてなる熱硬化性樹脂組成物であって、
金属酸化物粒子をさらに含有し、該金属酸化物粒子と前記窒化ホウ素粒子とが合計40体積%〜70体積%含有されており、且つ、前記金属酸化物粒子と前記窒化ホウ素粒子との体積比率が10:90〜50:50で、前記金属酸化物粒子のメジアン径が0.5μm〜30μmであることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012129078A JP6276498B2 (ja) | 2011-06-27 | 2012-06-06 | 熱硬化性樹脂組成物、熱伝導性シート、及び、半導体モジュール |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011141982 | 2011-06-27 | ||
JP2011141982 | 2011-06-27 | ||
JP2012129078A JP6276498B2 (ja) | 2011-06-27 | 2012-06-06 | 熱硬化性樹脂組成物、熱伝導性シート、及び、半導体モジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013032496A true JP2013032496A (ja) | 2013-02-14 |
JP6276498B2 JP6276498B2 (ja) | 2018-02-07 |
Family
ID=47788613
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012129078A Active JP6276498B2 (ja) | 2011-06-27 | 2012-06-06 | 熱硬化性樹脂組成物、熱伝導性シート、及び、半導体モジュール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6276498B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015105106A1 (ja) * | 2014-01-08 | 2015-07-16 | Jnc株式会社 | 熱伝導性シート用樹脂組成物、熱伝導性シート、樹脂被膜金属、電子機器 |
JP2016000784A (ja) * | 2014-06-12 | 2016-01-07 | 日東電工株式会社 | 封止用樹脂シート |
JP2016029721A (ja) * | 2014-07-24 | 2016-03-03 | 日東シンコー株式会社 | 絶縁放熱シートの製造方法、半導体モジュールの製造方法、及び、原料シート |
KR20160149201A (ko) * | 2014-04-30 | 2016-12-27 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 열전도성 중합체 조성물 및 열전도성 성형체 |
WO2018235919A1 (ja) | 2017-06-23 | 2018-12-27 | 積水化学工業株式会社 | 放熱シート、放熱シートの製造方法及び積層体 |
WO2018235920A1 (ja) | 2017-06-23 | 2018-12-27 | 積水化学工業株式会社 | 樹脂材料、樹脂材料の製造方法及び積層体 |
WO2018235918A1 (ja) | 2017-06-23 | 2018-12-27 | 積水化学工業株式会社 | 樹脂材料、樹脂材料の製造方法及び積層体 |
WO2021251454A1 (ja) | 2020-06-10 | 2021-12-16 | 日東シンコー株式会社 | 熱伝導性シート、及び、該熱伝導性シートを備える半導体モジュール |
WO2022203031A1 (ja) * | 2021-03-25 | 2022-09-29 | 三菱ケミカル株式会社 | 熱伝導性樹脂組成物、熱伝導性樹脂シート、積層放熱シート、放熱性回路基板およびパワー半導体デバイス |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0873621A (ja) * | 1994-09-07 | 1996-03-19 | Toshiba Corp | 樹脂シート |
JPH0959425A (ja) * | 1995-08-28 | 1997-03-04 | Tatsumori:Kk | 高熱伝導性複合粒子 |
JPH0964245A (ja) * | 1995-08-28 | 1997-03-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 半導体装置封止用樹脂組成物及び半導体装置 |
JP2005343983A (ja) * | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 無機質粉末及びその用途 |
JP2008297429A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Kyocera Chemical Corp | 接着剤組成物、接着剤シートおよび接着剤つき銅箔 |
JP2009062436A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Sekisui Chem Co Ltd | 絶縁シート及び積層構造体 |
JP2009161578A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-23 | Sekisui Chem Co Ltd | 絶縁シート及び積層構造体 |
JP2011127053A (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Sekisui Chem Co Ltd | 樹脂シート及び積層体 |
JP2011231196A (ja) * | 2010-04-27 | 2011-11-17 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 樹脂複合組成物及びその用途 |
WO2012046814A1 (ja) * | 2010-10-06 | 2012-04-12 | 日立化成工業株式会社 | 多層樹脂シート及びその製造方法、樹脂シート積層体及びその製造方法、多層樹脂シート硬化物、金属箔付き多層樹脂シート、並びに半導体装置 |
WO2012133587A1 (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-04 | 日立化成工業株式会社 | 樹脂組成物、樹脂シート、樹脂シート硬化物、樹脂シート積層体、樹脂シート積層体硬化物及びその製造方法、半導体装置、並びにled装置 |
WO2012132691A1 (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-04 | 日立化成工業株式会社 | 多層樹脂シート、樹脂シート積層体、多層樹脂シート硬化物及びその製造方法、金属箔付き多層樹脂シート、並びに半導体装置 |
JP2012219251A (ja) * | 2011-04-14 | 2012-11-12 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | 加熱加圧成形用プリプレグおよび積層板 |
-
2012
- 2012-06-06 JP JP2012129078A patent/JP6276498B2/ja active Active
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0873621A (ja) * | 1994-09-07 | 1996-03-19 | Toshiba Corp | 樹脂シート |
JPH0959425A (ja) * | 1995-08-28 | 1997-03-04 | Tatsumori:Kk | 高熱伝導性複合粒子 |
JPH0964245A (ja) * | 1995-08-28 | 1997-03-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 半導体装置封止用樹脂組成物及び半導体装置 |
JP2005343983A (ja) * | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 無機質粉末及びその用途 |
JP2008297429A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Kyocera Chemical Corp | 接着剤組成物、接着剤シートおよび接着剤つき銅箔 |
JP2009062436A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Sekisui Chem Co Ltd | 絶縁シート及び積層構造体 |
JP2009161578A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-23 | Sekisui Chem Co Ltd | 絶縁シート及び積層構造体 |
JP2011127053A (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Sekisui Chem Co Ltd | 樹脂シート及び積層体 |
JP2011231196A (ja) * | 2010-04-27 | 2011-11-17 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 樹脂複合組成物及びその用途 |
WO2012046814A1 (ja) * | 2010-10-06 | 2012-04-12 | 日立化成工業株式会社 | 多層樹脂シート及びその製造方法、樹脂シート積層体及びその製造方法、多層樹脂シート硬化物、金属箔付き多層樹脂シート、並びに半導体装置 |
WO2012133587A1 (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-04 | 日立化成工業株式会社 | 樹脂組成物、樹脂シート、樹脂シート硬化物、樹脂シート積層体、樹脂シート積層体硬化物及びその製造方法、半導体装置、並びにled装置 |
WO2012132691A1 (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-04 | 日立化成工業株式会社 | 多層樹脂シート、樹脂シート積層体、多層樹脂シート硬化物及びその製造方法、金属箔付き多層樹脂シート、並びに半導体装置 |
JP2012219251A (ja) * | 2011-04-14 | 2012-11-12 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | 加熱加圧成形用プリプレグおよび積層板 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015105106A1 (ja) * | 2014-01-08 | 2015-07-16 | Jnc株式会社 | 熱伝導性シート用樹脂組成物、熱伝導性シート、樹脂被膜金属、電子機器 |
JPWO2015105106A1 (ja) * | 2014-01-08 | 2017-03-23 | Jnc株式会社 | 熱伝導性シート用樹脂組成物、熱伝導性シート、樹脂被膜金属、電子機器 |
KR20160149201A (ko) * | 2014-04-30 | 2016-12-27 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 열전도성 중합체 조성물 및 열전도성 성형체 |
KR102300447B1 (ko) * | 2014-04-30 | 2021-09-10 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 열전도성 중합체 조성물 및 열전도성 성형체 |
JP2016000784A (ja) * | 2014-06-12 | 2016-01-07 | 日東電工株式会社 | 封止用樹脂シート |
JP2016029721A (ja) * | 2014-07-24 | 2016-03-03 | 日東シンコー株式会社 | 絶縁放熱シートの製造方法、半導体モジュールの製造方法、及び、原料シート |
KR20200022369A (ko) | 2017-06-23 | 2020-03-03 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 수지 재료, 수지 재료의 제조 방법 및 적층체 |
WO2018235918A1 (ja) | 2017-06-23 | 2018-12-27 | 積水化学工業株式会社 | 樹脂材料、樹脂材料の製造方法及び積層体 |
WO2018235920A1 (ja) | 2017-06-23 | 2018-12-27 | 積水化学工業株式会社 | 樹脂材料、樹脂材料の製造方法及び積層体 |
KR20200022370A (ko) | 2017-06-23 | 2020-03-03 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 수지 재료, 수지 재료의 제조 방법 및 적층체 |
KR20200023264A (ko) | 2017-06-23 | 2020-03-04 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 방열 시트, 방열 시트의 제조 방법 및 적층체 |
WO2018235919A1 (ja) | 2017-06-23 | 2018-12-27 | 積水化学工業株式会社 | 放熱シート、放熱シートの製造方法及び積層体 |
US11459443B2 (en) | 2017-06-23 | 2022-10-04 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Resin material, method for producing resin material, and laminate |
US11492528B2 (en) | 2017-06-23 | 2022-11-08 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Heat dissipation sheet, method for producing heat dissipation sheet, and laminate |
KR102476070B1 (ko) | 2017-06-23 | 2022-12-12 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 방열 시트, 방열 시트의 제조 방법 및 적층체 |
WO2021251454A1 (ja) | 2020-06-10 | 2021-12-16 | 日東シンコー株式会社 | 熱伝導性シート、及び、該熱伝導性シートを備える半導体モジュール |
WO2022203031A1 (ja) * | 2021-03-25 | 2022-09-29 | 三菱ケミカル株式会社 | 熱伝導性樹脂組成物、熱伝導性樹脂シート、積層放熱シート、放熱性回路基板およびパワー半導体デバイス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6276498B2 (ja) | 2018-02-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6276498B2 (ja) | 熱硬化性樹脂組成物、熱伝導性シート、及び、半導体モジュール | |
JP6402763B2 (ja) | 多層樹脂シート、樹脂シート積層体、多層樹脂シート硬化物及びその製造方法、金属箔付き多層樹脂シート、並びに半導体装置 | |
JP5971067B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR101597390B1 (ko) | 다층 수지 시트 및 그 제조 방법, 다층 수지 시트 경화물의 제조 방법, 그리고, 고열전도 수지 시트 적층체 및 그 제조 방법 | |
JP6023474B2 (ja) | 熱伝導性絶縁シート、金属ベース基板及び回路基板、及びその製造方法 | |
US20060165978A1 (en) | Insulating sheet and method for producing it, and power module comprising the insulating sheet | |
JP2011216619A (ja) | 積層構造体及びその製造方法 | |
JP2009049062A (ja) | 金属ベース回路用基板の製造方法及び金属ベース回路用基板 | |
WO2015056523A1 (ja) | エポキシ樹脂組成物、樹脂層付きキャリア材料、金属ベース回路基板および電子装置 | |
TW201904765A (zh) | 散熱片材、散熱片材之製造方法及積層體 | |
KR20170131475A (ko) | 접착 조성물 시트 및 그의 제조 방법, 및 반도체 장치 | |
JP2014099504A (ja) | 接着剤層付放熱部材、及び、半導体装置 | |
JP2013254921A (ja) | 回路基板及び電子部品搭載基板 | |
JP6829998B2 (ja) | 基材付接着シート及び半導体モジュール | |
TW201905055A (zh) | 樹脂材料、樹脂材料之製造方法及積層體 | |
JP6088731B2 (ja) | 放熱用部材、及び半導体モジュールの製造方法 | |
JP5942641B2 (ja) | 樹脂シート及びその製造方法、樹脂シート硬化物、並びに放熱用部材 | |
JP5130173B2 (ja) | 半導体モジュール及び半導体モジュール製造方法 | |
JP2011211190A (ja) | 積層構造体及びその製造方法 | |
WO2021149690A1 (ja) | 熱伝導性シート、積層体、及び半導体装置 | |
JP6059964B2 (ja) | 接着剤層付放熱部材の製造方法、及び、半導体装置の製造方法 | |
JPWO2020145083A1 (ja) | 樹脂組成物、該樹脂組成物の製造方法、及び、熱伝導性シート | |
WO2021241298A1 (ja) | 金属板付熱伝導性シートおよび熱伝導性シートの製造方法 | |
JP2015026780A (ja) | 絶縁放熱基板 | |
WO2022255450A1 (ja) | 樹脂シート、積層体、及び半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150603 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160217 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160411 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160603 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160729 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20161202 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180112 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6276498 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |