JP2013019907A - ポリマー試料基板およびそれを用いた光学式分析試験装置 - Google Patents
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Abstract
新規な光学式分析試験装置等を提供する。
【解決手段】
本光学式分析試験装置のポリマー試料基板は、反応サイト側表面(24)を有すると共に、突起のあるマイクロ構造体(2)を備えた、反応サイト側表面の凹部にある少なくとも1つの反応サイト領域(5)を含み、選択された光学特性を有する追加層(31、31a、31b)により少なくとも部分的に覆われ、前記突起のあるマイクロ構造体および前記追加層が、前記基板の光学特性に寄与する。
【選択図】 図1b
Description
図3は、走査型光学式読取装置3と、マイクロ構造化された反応サイト領域5を備えたポリマー試料基板1とを含む光学式分析試験装置の例示的な設置を示す。試料基板1は、試料基板1の反応サイト領域5の全体が走査されるように、光学式読取装置3に対して移動可能であるように配置される。走査型光学式読取装置3は、基板のキャリア表面26を照射するように配置される励起光源6と、基板の反応サイト表面24から放出される光を集光するように配置される検出器デバイス7、たとえばPMTとを含んでいる。光学式読取装置3は、励起光を基板1上に集束させ、放出光を検出器および光学フィルタ10上に集束させるためのレンズ8および9をさらに含んでいる。
前記ポリマー試料基板が、反応サイト側表面(24)を有すると共に、突起のあるマイクロ構造体(2)を備えた、前記反応サイト側表面の凹部にある少なくとも1つの反応サイト領域(5)を含み、選択された光学特性を有する追加層(31、31a、31b)により少なくとも部分的に覆われ、前記突起のあるマイクロ構造体および前記追加層が、前記基板の光学特性に寄与する、
ポリマー試料基板。
(2) 実施態様1に記載のポリマー試料基板において、
光誘導デバイス(21、22)が、前記基板(1)を照射する光線の前記入射角(29)を調整するために表面(24、26)上に取り付けられることを特徴とする、
ポリマー試料基板。
(3) 実施態様1または2に記載のポリマー試料基板において、前記追加層(31b)が、前記基板(1)の前記突起のあるマイクロ構造体(2)を少なくとも部分的に覆うことを特徴とする、ポリマー試料基板。
(4) 実施態様1〜3のいずれか1項に記載のポリマー試料基板において、前記追加層(31)が、前記基板(1)のキャリア表面(26)を少なくとも部分的に覆うことを特徴とする、ポリマー試料基板。
(5) 実施態様1〜4のいずれか1項に記載のポリマー試料基板において、前記追加層(31)が、前記励起光線の屈折角(30)を増加させるために配置される光学的ぬれ層として付与されることを特徴とする、ポリマー試料基板。
(6) 実施態様1〜4のいずれか1項に記載のポリマー試料基板において、前記追加層(31、31b)が、選択された光学波長を吸収するように配置されることを特徴とする、ポリマー試料基板。
(7) 実施態様1〜6のいずれか1項に記載のポリマー試料基板において、前記追加層(31a、31b、31)が、前記基板(1)に取り付けられる好適な材料のテープから成ることを特徴とする、ポリマー試料基板。
(8) 実施態様2〜7のいずれか1項に記載のポリマー試料基板において、前記光誘導デバイスが、プリズム(22)を含むことを特徴とする、ポリマー試料基板。
(9) 実施態様2〜7のいずれか1項に記載のポリマー試料基板において、前記光誘導デバイスが、回折性または屈折性の表面の浮き彫り(21)を含むことを特徴とする、ポリマー試料基板。
(10) 光学式読取装置(33、43、53、63、73、83)とポリマー試料基板(1)とを含む光学式分析試験装置において、
前記ポリマー試料基板が、反応サイト側表面(24)を有し、突起のあるマイクロ構造体(2)を備えた、前記反応サイト側表面の凹部にある少なくとも1つの反応サイト領域(5)を含み、選択された光学特性を有する追加層(31、31a、31b)により少なくとも部分的に覆われ、前記突起のあるマイクロ構造体および前記追加層が、前記基板の光学特性に寄与し、
前記光学式読取装置が、前記ポリマー試料基板(1)を照射するための光源(6、11)を含むと共に、前記少なくとも1つの反応サイト領域から放出される光を検出するための検出器デバイス(7、12)を含み、前記光源(6、11)は、励起光線を反応サイト領域(5)の方向に誘導するように選択された、調整された入射角度(29)で、ポリマー試料基板(1)内に励起光線(28)を入射するように配置され、前記検出器デバイスが、前記少なくとも1つの反応サイト領域から放出される光を検出することを特徴とする、
光学式分析試験装置。
(11) 実施態様10に記載の光学式分析試験装置において、
光誘導デバイス(21、22)が、前記基板(1)を照射する光線の前記入射角(29)を調整するために表面(24、26)上に取り付けられることを特徴とする、
光学式分析試験装置。
(12) 実施態様10または11に記載の光学式分析試験装置において、前記追加層(31)が、前記励起光線の屈折角(30)を増加させるように配置される光学的ぬれ層として付与されることを特徴とする、光学式分析試験装置。
(13) 実施態様10〜12のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記追加層(31b)が、前記突起のあるマイクロ構造体(2)を少なくとも部分的に覆うことを特徴とする、光学式分析試験装置。
(14) 実施態様10〜13のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記追加層(31)が、前記基板(1)のキャリア表面(26)を少なくとも部分的に覆うことを特徴とする、光学式分析試験装置。
(15) 実施態様10〜14のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記追加層(31a、31b、31)が、選択された光学波長を吸収するように配置されることを特徴とする、光学式分析試験装置。
(16) 実施態様10〜15のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記追加層(31a、31b、31)が、前記基板(1)に取り付けられる好適な材料のテープから成ることを特徴とする、光学式分析試験装置。
(17) 実施態様1〜16のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光源(6)が、前記基板内への励起光線の屈折角(30)を調整するために配置される光誘導デバイス(21、22)を通してポリマー試料基板(1)を照射することに適していることを特徴とする、光学式分析試験装置。
(18) 実施態様17に記載の光学式分析試験装置において、前記光誘導デバイスが、前記基板の表面(24、26)上に配置されるプリズム(22)を含むことを特徴とする、光学式分析試験装置。
(19) 実施態様17に記載の光学式分析試験装置において、前記光誘導デバイスが、前記基板の表面(24、26)上に設けられる回折性または屈折性の表面の浮き彫り(21)を含むことを特徴とする、光学式分析試験装置。
(20) 実施態様10〜19のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光源(6、11)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記基板の前記反応サイト側表面(24)を照射する位置を有することを特徴とする、光学式分析試験装置。
(21) 実施態様10〜19のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光源(6、11)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記基板のキャリア表面(26)を照射する位置を有することを特徴とする、光学式分析試験装置。
(22) 実施態様10〜19のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光源(6)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記基板の縁部壁(27)を照射する位置を有することを特徴とする、光学式分析試験装置。
(23) 実施態様10〜21のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記反応サイト側表面(24)またはキャリア表面(26)を照射する光線の屈折角(30)が臨界角を越える配置が、前記ポリマー試料基板(1)内で起こることを特徴とする、光学式分析試験装置。
(24) 実施態様10〜23のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記検出器デバイス(7、12)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記基板(1)の反応サイト領域(5)から放出される蛍光または燐光を集光する位置を有し、前記放出光が、前記光学基板特性により前記検出器デバイスの方向に誘導されることを特徴とする、光学式分析試験装置。
(25) 実施態様10〜23のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記検出器デバイス(7、12)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記基板の前記キャリア表面(26)から漏れる、放出された蛍光または燐光を受光する位置を有することを特徴とする、光学式分析試験装置。
(26) 実施態様10〜23のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記検出器デバイス(7、12)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記基板の縁部壁(27)から漏れる、放出された蛍光または燐光を受光する位置を有することを特徴とする、光学式分析試験装置。
(27) 実施態様10〜26のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光源(6)が、前記ポリマー試料基板(1)について、第一表面(24、26)または縁部壁(27)を照射する位置を有しており、前記検出器デバイス(7、12)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記同じ第一表面(24、26)または縁部壁(27)から漏れる、放出された蛍光または燐光を受光する位置を有することを特徴とする、光学式分析試験装置。
(28) 実施態様10〜26のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光源(6)が、前記ポリマー試料基板(1)について、第一表面(24、26)または縁部壁(27)を照射する位置を有し、前記検出器デバイス(7、12)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記第1の表面の反対側のもう一つの表面または前記第1の縁部の反対側のもう一つの縁部壁(27)から漏れる、放出された蛍光または燐光を受光する位置を有することを特徴とする、光学式分析試験装置。
(29) 実施態様10〜28のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光学式読取装置が、撮像光学式読取装置として配置されることを特徴とする、光学式分析試験装置。
(30) 実施態様10〜28のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光学式読取装置が、走査型光学式読取装置として配置されることを特徴とする、光学式分析試験装置。
Claims (30)
- 光学式分析試験装置のためのポリマー試料基板において、
前記ポリマー試料基板が、反応サイト側表面(24)を有すると共に、突起のあるマイクロ構造体(2)を備えた、前記反応サイト側表面の凹部にある少なくとも1つの反応サイト領域(5)を含み、選択された光学特性を有する追加層(31、31a、31b)により少なくとも部分的に覆われ、前記突起のあるマイクロ構造体および前記追加層が、前記基板の光学特性に寄与する、
ポリマー試料基板。 - 請求項1に記載のポリマー試料基板において、
光誘導デバイス(21、22)が、前記基板(1)を照射する光線の前記入射角(29)を調整するために表面(24、26)上に取り付けられることを特徴とする、
ポリマー試料基板。 - 請求項1または2に記載のポリマー試料基板において、前記追加層(31b)が、前記基板(1)の前記突起のあるマイクロ構造体(2)を少なくとも部分的に覆うことを特徴とする、ポリマー試料基板。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載のポリマー試料基板において、前記追加層(31)が、前記基板(1)のキャリア表面(26)を少なくとも部分的に覆うことを特徴とする、ポリマー試料基板。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載のポリマー試料基板において、前記追加層(31)が、前記励起光線の屈折角(30)を増加させるために配置される光学的ぬれ層として付与されることを特徴とする、ポリマー試料基板。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載のポリマー試料基板において、前記追加層(31、31b)が、選択された光学波長を吸収するように配置されることを特徴とする、ポリマー試料基板。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載のポリマー試料基板において、前記追加層(31a、31b、31)が、前記基板(1)に取り付けられる好適な材料のテープから成ることを特徴とする、ポリマー試料基板。
- 請求項2〜7のいずれか1項に記載のポリマー試料基板において、前記光誘導デバイスが、プリズム(22)を含むことを特徴とする、ポリマー試料基板。
- 請求項2〜7のいずれか1項に記載のポリマー試料基板において、前記光誘導デバイスが、回折性または屈折性の表面の浮き彫り(21)を含むことを特徴とする、ポリマー試料基板。
- 光学式読取装置(33、43、53、63、73、83)とポリマー試料基板(1)とを含む光学式分析試験装置において、
前記ポリマー試料基板が、反応サイト側表面(24)を有し、突起のあるマイクロ構造体(2)を備えた、前記反応サイト側表面の凹部にある少なくとも1つの反応サイト領域(5)を含み、選択された光学特性を有する追加層(31、31a、31b)により少なくとも部分的に覆われ、前記突起のあるマイクロ構造体および前記追加層が、前記基板の光学特性に寄与し、
前記光学式読取装置が、前記ポリマー試料基板(1)を照射するための光源(6、11)を含むと共に、前記少なくとも1つの反応サイト領域から放出される光を検出するための検出器デバイス(7、12)を含み、前記光源(6、11)は、励起光線を反応サイト領域(5)の方向に誘導するように選択された、調整された入射角度(29)で、ポリマー試料基板(1)内に励起光線(28)を入射するように配置され、前記検出器デバイスが、前記少なくとも1つの反応サイト領域から放出される光を検出することを特徴とする、
光学式分析試験装置。 - 請求項10に記載の光学式分析試験装置において、
光誘導デバイス(21、22)が、前記基板(1)を照射する光線の前記入射角(29)を調整するために表面(24、26)上に取り付けられることを特徴とする、
光学式分析試験装置。 - 請求項10または11に記載の光学式分析試験装置において、前記追加層(31)が、前記励起光線の屈折角(30)を増加させるように配置される光学的ぬれ層として付与されることを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜12のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記追加層(31b)が、前記突起のあるマイクロ構造体(2)を少なくとも部分的に覆うことを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜13のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記追加層(31)が、前記基板(1)のキャリア表面(26)を少なくとも部分的に覆うことを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜14のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記追加層(31a、31b、31)が、選択された光学波長を吸収するように配置されることを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜15のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記追加層(31a、31b、31)が、前記基板(1)に取り付けられる好適な材料のテープから成ることを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項1〜16のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光源(6)が、前記基板内への励起光線の屈折角(30)を調整するために配置される光誘導デバイス(21、22)を通してポリマー試料基板(1)を照射することに適していることを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項17に記載の光学式分析試験装置において、前記光誘導デバイスが、前記基板の表面(24、26)上に配置されるプリズム(22)を含むことを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項17に記載の光学式分析試験装置において、前記光誘導デバイスが、前記基板の表面(24、26)上に設けられる回折性または屈折性の表面の浮き彫り(21)を含むことを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜19のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光源(6、11)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記基板の前記反応サイト側表面(24)を照射する位置を有することを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜19のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光源(6、11)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記基板のキャリア表面(26)を照射する位置を有することを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜19のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光源(6)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記基板の縁部壁(27)を照射する位置を有することを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜21のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記反応サイト側表面(24)またはキャリア表面(26)を照射する光線の屈折角(30)が臨界角を越える配置が、前記ポリマー試料基板(1)内で起こることを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜23のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記検出器デバイス(7、12)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記基板(1)の反応サイト領域(5)から放出される蛍光または燐光を集光する位置を有し、前記放出光が、前記光学基板特性により前記検出器デバイスの方向に誘導されることを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜23のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記検出器デバイス(7、12)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記基板の前記キャリア表面(26)から漏れる、放出された蛍光または燐光を受光する位置を有することを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜23のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記検出器デバイス(7、12)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記基板の縁部壁(27)から漏れる、放出された蛍光または燐光を受光する位置を有することを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜26のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光源(6)が、前記ポリマー試料基板(1)について、第一表面(24、26)または縁部壁(27)を照射する位置を有しており、前記検出器デバイス(7、12)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記同じ第一表面(24、26)または縁部壁(27)から漏れる、放出された蛍光または燐光を受光する位置を有することを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜26のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光源(6)が、前記ポリマー試料基板(1)について、第一表面(24、26)または縁部壁(27)を照射する位置を有し、前記検出器デバイス(7、12)が、前記ポリマー試料基板(1)について、前記第1の表面の反対側のもう一つの表面または前記第1の縁部の反対側のもう一つの縁部壁(27)から漏れる、放出された蛍光または燐光を受光する位置を有することを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜28のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光学式読取装置が、撮像光学式読取装置として配置されることを特徴とする、光学式分析試験装置。
- 請求項10〜28のいずれか1項に記載の光学式分析試験装置において、前記光学式読取装置が、走査型光学式読取装置として配置されることを特徴とする、光学式分析試験装置。
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