JP2013004938A - 撮像素子、電子機器、製造方法、および検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】イメージセンサにおいては、光電変換部の受光素子上に、中央部分に凹部(窪み)が形成された平凸形状の構造体が形成されている。構造体の凹部を除く表面には、光反射性の薄膜が形成されている。そして、構造体の凹部には、測定対象のゲル状、または液体状の試料が貯留されている。本開示は、例えば、試料を測定対象とする検査装置に適用することができる。
【選択図】図1
Description
1.第1の実施の形態(撮像素子)
2.第2の実施の形態(検査装置)
[撮像素子の構成例]
図1は、本開示を適用した撮像素子としてのイメージセンサの一実施の形態の構成を模式的に示す断面図である。
図9は、本開示を適用した撮像素子としてのイメージセンサの他の実施の形態の構成を模式的に示す断面図である。
[検査装置の構成例]
図10は、本開示を適用した撮像素子としてのイメージセンサを用いた検査装置の一実施の形態の構成を模式的に示す断面図である。
(1) 複数の受光素子と、
前記受光素子に入射した光を電気信号に変換する光電変換部と、
前記受光素子を覆うように形成された平凸形状の構造体と
を備え、
前記構造体は、前記平凸形状の中央部分に凹部を有し、
前記構造体の表面のうち、前記凹部を除いた領域は、光反射材料によって覆われている
撮像素子。
(2) 前記構造体は、光透過材料により形成されている
前記(1)に記載の撮像素子。
(3) 前記構造体と前記光電変換部との間に、特定波長領域を吸収する、あるいは、特定波長領域を透過する光機能性材料により形成される層
をさらに備える前記(1)または(2)に記載の撮像素子。
(4) 前記構造体は、特定波長領域を吸収する、あるいは、特定波長領域を透過する光機能性材料により形成される
前記(1)に記載の撮像素子。
(5) 前記構造体は、前記受光素子の単一画素、または複数画素毎に形成されている
前記(1)乃至(4)のいずれかに記載の撮像素子。
(6) 複数の受光素子と、
前記受光素子に入射した光を電気信号に変換する光電変換部と、
前記受光素子を覆うように形成された平凸形状の構造体とからなり、
前記構造体は、前記平凸形状の中央部分に凹部を有し、前記構造体の表面のうち、前記凹部を除いた領域は、光反射材料によって覆われている撮像素子
を備える電子機器。
(7) 受光素子および光電変換部が形成されたウェハ上に、有機高分子材料層を形成し、
前記有機高分子材料層上における前記光電変換部の直上領域の所定の位置に、その中央部分以外を遮光するレジストパターンを形成し、
前記レジストパターンをリフローすることにより、前記受光素子を覆うように形成され、前記中央部分に凹部を有する平凸形状の構造体を生成し、
前記構造体の表面のうち、前記凹部を除いた領域に光反射材料を付加する
撮像素子の製造方法。
(8) 複数の受光素子と、前記受光素子に入射した光を電気信号に変換する光電変換部と、前記受光素子を覆うように形成された平凸形状の構造体とからなり、前記構造体は、前記平凸形状の中央部分に凹部を有し、前記構造体の表面のうち、前記凹部を除いた領域は、光反射材料によって覆われている撮像素子と、
前記凹部に充填された試料に対して光を照射する光源と、
前記光源と前記撮像素子とを制御する制御部と
を備える検査装置。
Claims (8)
- 複数の受光素子と、
前記受光素子に入射した光を電気信号に変換する光電変換部と、
前記受光素子を覆うように形成された平凸形状の構造体と
を備え、
前記構造体は、前記平凸形状の中央部分に凹部を有し、
前記構造体の表面のうち、前記凹部を除いた領域は、光反射材料によって覆われている
撮像素子。 - 前記構造体は、光透過材料により形成されている
請求項1に記載の撮像素子。 - 前記構造体と前記光電変換部との間に、特定波長領域を吸収する、あるいは、特定波長領域を透過する光機能性材料により形成される層
をさらに備える請求項2に記載の撮像素子。 - 前記構造体は、特定波長領域を吸収する、あるいは、特定波長領域を透過する光機能性材料により形成される
請求項1に記載の撮像素子。 - 前記構造体は、前記受光素子の単一画素、または複数画素毎に形成されている
請求項1に記載の撮像素子。 - 複数の受光素子と、
前記受光素子に入射した光を電気信号に変換する光電変換部と、
前記受光素子を覆うように形成された平凸形状の構造体とからなり、
前記構造体は、前記平凸形状の中央部分に凹部を有し、前記構造体の表面のうち、前記凹部を除いた領域は、光反射材料によって覆われている撮像素子
を備える電子機器。 - 受光素子および光電変換部が形成されたウェハ上に、有機高分子材料層を形成し、
前記有機高分子材料層上における前記光電変換部の直上領域の所定の位置に、その中央部分以外を遮光するレジストパターンを形成し、
前記レジストパターンをリフローすることにより、前記受光素子を覆うように形成され、前記中央部分に凹部を有する平凸形状の構造体を生成し、
前記構造体の表面のうち、前記凹部を除いた領域に光反射材料を付加する
撮像素子の製造方法。 - 複数の受光素子と、前記受光素子に入射した光を電気信号に変換する光電変換部と、前記受光素子を覆うように形成された平凸形状の構造体とからなり、前記構造体は、前記平凸形状の中央部分に凹部を有し、前記構造体の表面のうち、前記凹部を除いた領域は、光反射材料によって覆われている撮像素子と、
前記凹部に充填された試料に対して光を照射する光源と、
前記光源と前記撮像素子とを制御する制御部と
を備える検査装置。
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