JP2012524988A5

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Info

Publication number: JP2012524988A5
Application number: JP2012506419A
Authority: JP
Filing date: 2010-03-18
Publication date: 2013-05-02

Claims

複数のミラーを含む投影システムを有するＥＵＶリソグラフィ装置を用いて基板上にパターン付き放射ビームを投影する方法であって、
前記投影システムの最終ミラーを、前記基板の表面に実質的に垂直な方向に移動させる間に、前記投影システムを用いて、前記パターン付き放射ビームを前記基板上に投影させることと、
前記ミラーの前記移動に因る前記基板上での前記投影されたパターン付き放射ビームの望ましくない並進を実質的に補償するように前記最終ミラーを回転させることと、
を含む方法。
前記最終ミラーの前記回転は、前記最終ミラーの前記移動と同期される、請求項１に記載の方法。
前記リソグラフィ装置は、スキャン動作で前記基板を前記投影システムに対して移動させるスキャニング装置であり、前記最終ミラーの前記回転は、前記基板のスキャン動作の方向に実質的に垂直な軸周りである、請求項１または２に記載の方法。
露光領域の外側部分における放射の強度は、前記露光領域のその他の部分における放射の強度より大きい、請求項１から３のいずれに記載の方法。
前記基板の前記スキャン動作の速度は、時間間隔Ｔの間に、前記基板が前記パターン付き放射ビームによって画定される露光領域の幅に対応する距離を移動するような速度であり、
前記時間間隔Ｔの間に、前記最終ミラーは、初期位置から、前記初期位置から変位した位置に、また前記初期位置に戻るまで１以上の移動サイクルを経て移動し、前記最終ミラーは前記時間間隔Ｔの終わりにおいて、前記初期位置に戻る、請求項３に記載の方法。
前記基板の前記スキャン動作の速度は、時間間隔Ｔの間に、前記基板が前記パターン付き放射ビームによって画定される露光領域の幅に対応する距離を移動するような速度であり、
前記時間間隔Ｔの間に、前記最終ミラーは、初期向きから回転された向きに、また前記初期向きに戻るまで１以上の向きサイクルを経て移動し、前記最終ミラーは前記時間間隔Ｔの終わりにおいて、前記初期向きに戻る、請求項３または５に記載の方法。
前記基板の位置は、ターゲット部分の露光時は前記投影システムに対して固定され、前記ターゲット部分の前記露光は、時間間隔Ｔの間に行われ、
前記時間間隔Ｔの間に、前記最終ミラーは、初期位置から、前記初期位置から変位した位置に、また前記初期位置に戻るまで１以上の移動サイクルを経て移動し、前記最終ミラーは前記時間間隔Ｔの終わりにおいて、前記初期位置に戻る、請求項１または２に記載の方法。
前記基板の前記位置は、ターゲット部分の露光時は前記投影システムに対して固定され、前記ターゲット部分の前記露光は、時間間隔Ｔの間に行われ、
前記時間間隔Ｔの間に、前記最終ミラーは、初期向きから回転された向きに、また前記初期向きに戻るまで１以上の向きサイクルを経て移動し、前記最終ミラーは、前記時間間隔Ｔの終わりにおいて、前記初期向きに戻る、請求項２または７に記載の方法。
前記最終ミラーの前記初期位置は、前記最終ミラーの移動サイクルの間に前記最終ミラーが経験する様々な位置の１つの極端にある、請求項５または６に記載の方法。
複数のミラーを有する投影システムと、
基板を支持する基板テーブルと、
を含むＥＵＶリソグラフィ装置であって、
前記投影システムの最終ミラーが、パターン付き放射ビームを前記基板上に誘導するように構成され、
前記装置は、
前記投影システムの前記最終ミラーを、前記基板の表面に実質的に垂直な方向に移動させ、かつ前記ミラーの前記移動に因る前記基板上での前記投影されたパターン付き放射ビームの望ましくない並進を実質的に補償するような態様で前記最終ミラーを回転させるアクチュエータをさらに含む、装置。
前記アクチュエータは、前記最終ミラーの前記回転を、前記最終ミラーの前記移動と同期させるように構成される、請求項１０に記載の装置。
前記リソグラフィ装置は、スキャン動作で前記基板を前記投影システムに対して移動させるスキャニング装置であり、前記最終ミラーの前記回転は、前記基板のスキャン動作の方向に実質的に垂直な軸周りである、請求項１０または１１に記載の装置。
前記アクチュエータは、前記最終ミラーの初期位置が、前記最終ミラーの移動サイクルの間に前記最終ミラーが経験する様々な位置の１つの極端にあるように構成される、請求項１０から１２のいずれかに記載の装置。
前記投影システムは、少なくとも４つのミラーを含む、請求項１０から１３のいずれかに記載の装置。
前記アクチュエータは、高周波コンポーネントおよび低周波コンポーネントを含む制御システムによって制御される、請求項１０から１４のいずれかに記載の装置。