TW201044122A - Lithographic apparatus and method - Google Patents

Description

201044122 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種微影裝置及方法。 【先前技術】

微影裝置為將所要圖案施加至基板上（通常施加至基板 之目標部分上）的機器。微影裝置可用於（例如）積體電路 (ic)之製造中。在該情況下，圖案化器件（其或者被稱作光 罩或比例光罩）可用以產生待形成於Ic之個別層上的電路 圖案。可將此圖案轉印至基板（例如，矽晶圓）上之目標部 分（例如，包含晶粒之部分、一個晶粒或若干晶粒）上。通 吊經由成像至提供於基板上之輻射敏感材料（抗蝕劑）層上 而進订圖案之轉印。—般而言，單—基板將含有經順次圖 案化之鄰近目標部分的網路。藉由投影系統執行圖案至基 板上之成像，該投影系統可包含複數個透鏡或鏡面。 生'攻〜被廣泛地遇為係在Ic以及其他器件及/或結構之製 中之關鍵步驟中的—者。然而，隨著使賴影所製造之 '的尺寸憂得愈來愈小，微影正變為用於使能夠製造小 型1C或其他器件及/或結構之更具決定性的因素。 圖案印刷極限之理論估計可藉由瑞立（Rayleigh)解析度 準則給出，如方程式⑴所示： CD=k!X/NAPS ⑴ 於$所使用之輪射的波長，NAPS為用以印刷圖案之 瑞立二先的數值孔#，kl為程序依賴性調整因數（亦被稱作 )且CD為經印刷特徵之特徵大小（或臨界尺 147210.doc 201044122 寸）。自方程式（l)可見，可以三種方式來獲得特徵之最小 可印刷大小的減小：藉由縮短曝光波長λ、藉由增加數值 孔徑NAPS ’或藉由降低h之值。 為了縮短曝光波長且因此減小最小可印刷大小，已提議 在微影裝置中使用極紫外線（EUV)輻射源。EUV輻射源經 組態以輸出約5奈米之輻射波長。因此，EUV輻射源可 構成針對達成小特徵之印刷的重要步驟。 由EUV微影裝置之投影系統所提供的聚焦深度可能相對 較小。此外，聚焦深度隨著投影系統之數值孔徑的增加而 降低（聚焦深度與1/(NAPS)2成比例）。 【發明内容】 需要提供一種能夠提供一較大有效聚焦深度之Euv微影 裝置及方法。 根據本發明之一實施例，提供一種使用一 Euv微影裝置 將-經圖案化輻射光束投影至一基板上之方法該euv微 影裝置具有包含複數個鏡面之一投影系統，該方法包含以 下步驟。i吏用該#影系統以將該經圖案化輻射光束投影至 该基板上，同時在實質上垂直於該基板之表面的—方向上 移動该投影系統之—最終鏡面。旋轉該最終鏡面以實質上 補償歸因於該鏡面之該移動而致使在該基板上該經投影之 經圖案化輻射光束之非想要平移。 根據本發明之另-實施例’提供—種贿微影裝置，該 EUV微影裝置包含：一投影系統，其具有複數個鏡面；及 -基板台，其經組態以切—基板。該投料統之一最終 147210.doc 201044122 ' 鏡面經配置以將一經圖案化輻射光束引導至該基板上。該 裝置進一步包含一致動器，該致動器經組態以在實質上垂 直於該基板之表面的一方向上移動該投影系統之該最終鏡 面’且經組態成以一方式來旋轉該最終鏡面，該方式將實 質上補償歸因於該鏡面之該移動而致使在該基板上該經投 影之經圖案化輻射光束之非想要平移。 下文參看隨附圖式來詳細地描述本發明之另外特徵及優 ^ 點，以及本發明之各種實施例之結構及操作。應注意，本 發月不限於本文中所描述之特定實施例。本文中僅出於說 明性目的而呈現此等實施例。基於本文中所含有之教示， 額外實施例對於熟習相關技術者將係顯而易見的。 【實施方式】 併入於本文中且形成本§兒明書之部分的隨附圖式說明本 發明，且連同實施方式進一步用以解釋本發明之原理且使 熟習相關技術者能夠製造及使用本發明。 〇 本說明書揭示併有本發明之特徵的一或多個實施例。該 (该等）所揭示實施例僅僅例示本發明。本發明之範疇不限 於該（該等）所揭示實施例。本發明係藉由此處附加之申請 專利範圍界定。 所描述之该（該等）貫施例及在本說明書中對「一實施 例」—貫例實施例」等等之參考指示所描述之該（該等） 實施例可能包括一特定特徵、結構或特性，但每一實施例 .可能未必包括該特定特徵、結構或特性。此外，此等短語 未必才曰代同一實施例。另外，當結合—實施例來描述_特 147210.doc 201044122 定特徵、結構或特性時，應理解，無論是否明確地進朴 述，結合其他實施例來實現此特徵、結構或特性均係在: 習此項技術者之認識範圍内。 本發明之實施例可以硬體、韌體、軟體或其任何組合加 以實施。本發明之實施例亦可實施為儲存於機器可^體 上之指令，該等指令可由-或多個處理器讀取及執行。機 器可讀媒體可包括用於儲存或傳輸以可由機器（例如 算器件）讀取之形式之資訊的任何機構。舉例而言，機器 可讀媒體可包括：唯讀記憶體（R〇M)，·隨機存取記憶體 (RAM);磁碟儲存媒體；光學儲存媒體；快閃記憶體： 件；電學、光學、聲學或其他形式之傳播信號(例如，載 波、紅外線信號、數位信號’等等）；及其他者。另外， 韋刃體、軟體、常式、指令可在本文中被描述為執行特定動 作'然而’應瞭解’此等描述僅僅係出於方便起見，且此 等動作事實上係由計算器件、處判、控制器或執㈣ 體、軟體、常式、指令等等之其他器件引起。 然而’在更詳細地描述此等實施例之前，有指導性的係 呈現可實施本發明之實施例的實例環境。 圖1示意性地描繪體現本發明之微影裝置2。裝置2包 含：照明系統（照明器）IL，其經組態以調節輻射光、束B(: 如，極紫外線（EUV)輕射）；支撐結構（例如，光罩 其經建構以支#圖案化器件（例如’光罩）μα，且連接至經 組態以根據特定參數來準確地定位圖案化器件之第一定位 器ΡΜ;基板台（例如，晶圓台）资，其經建構以固持基板 147210.doc 201044122 (例如，塗布抗㈣之晶圓）w，且連接至經組態以根據特 定參數來準確地定位基板之第二定位器Pw ;及投影系統 (例如’反射投影透鏡系統）PS，其經組態以將藉由:案化 器件MA賦予至輻射光束B之圖案投影至基板w之目標部分 C(例如’包含一或多個晶粒）上。 照明系統可包括用於引導、塑形或控制輻射的各種類型 之光學組件，諸如折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他 〇 光學組件’或其任何組合。在大多數euv微影裝置 中，照明系統主要地係由反射光學組件形成。 支撐結構支撐(亦即，承載)圖案化器件。支撐結構以取 決於圖案化器件之定向、微影裝置2之設計及其他條件（諸 如圖案化器件是否被固持於真空環境中）的方式來固持圖 案化器件。支撐結構可使用機械、真空、靜電或其他炎持 術來口持圖案化器件。支撐結構可為（例如）框架或台， 其可根據需要而為固定或可移動的。支撐結構可確保圖案 〇化11件（例如）相對於投影线處於所要位置。可認為本文 中對術_比例光罩」或「光罩」之任何使用均與更通用 之術語「圖案化器件」同義。 户本，中所使用之術語「圖案化器件」應被廣泛地解釋為 、0用以在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以 :更在基板之目標部分中產生圖案的任何器件。應注意，例 如，若被軾予至輻射光束之圖案包括相移特徵或所謂的輔 徵，則圖案可能不會確切地對應於基板之目標部分中 、斤要圖案。通常’被賦予至輕射光束之圖案將對應於目 147210.doc 201044122 標部分尹所產生之考件 心益仵（诸如積體電路）中的 ^ 在_器件之實例包括光罩及可程式化鏡二功:層光罩 :微影中係熟知的，且通常在_射微影裝;= 射的。可程式化鏡面陳列 中將為反 置，兮箄實例使用小鏡面之矩陣配 置。亥等小鏡面中之每一者可個別地傾斜，以 向上反射入射輻射光束。傾 ° ^ ± 鏡面將圖案賦予於藉由镑面 矩陣所反射之輻射光束中。 错由鏡面 如此處所描繪，裝置2為 罩）。 耵頬型（例如，使用反射光 微影裝置可為具有兩個（雙載物二 u 一、 以戰物口）或兩個以上基板台(及/ 或兩個或兩個以上光罩台)的類型。在此等「多載物台」 機器中，可並行地使用額外台， a j在一或多個台上進行 預備步驟，同時將一或多個其他台用於曝光。 參看圖1，照明器IL藉由收隼哭 叹木态總成/輻射源so而自輻射 發射點接收輻射光束。輻射源與 、做,v裝置可為分離實體。 在此等情況下’不認為收集器總成形成微影裝置之部分， 且輪射光束係憑藉包含（例如）適當引導鏡面及/或光束擴展 器之光束傳送系統而自收集器總Μ⑽遞至。在 其他情況下’輻射源可為微影裝置之整體部分。收集器總 0CK包括輻射產生⑸及㈣器IL連同光束傳送系統（在 需要時）可被稱作輻射系統。 照明器IL可包含用於調整輪射光束之角強度分布的調整 器。通常，可調整照明器之光瞳平面中之強度分布的至少 外部徑向範圍及/或内部徑向範圍（通常分別被稱作σ外部 147210.doc 201044122 及σ内部）。此外，照明器几可包含各種其他組件，諸如積 光器及聚光器。照明器IL可用以調節輻射光束β，以在其 橫截面中具有所要均一性及強度分布。 輻射光束Β入射於被固持於支撐結構（例如，光罩台Μτ) 上之圖案化器件（例如，光罩ΜΑ)上’且係藉由圖案化器件 而圖案化。在由光罩ΜΑ反射後，輻射光束β傳遞通過投影 系統ps，投影系統PS將光束聚焦至基板w之目標部分c

上。憑藉第二定位器Pw及位置感測器IF2(例如，干涉量測 器件、線性編碼器或電容性感測器），基板台贾了可準確地 移動，例如，以使不同目標部分c定位在輻射光束B之路 徑中。類似地，第一定位器PM及另一位置感測器IFi可用 以（例如）在自光罩庫之機械擷取之後或在掃描期間相對於 輻射光束B之路徑而準確地定位光罩MA。_般而言，可馮 藉形成第一定位器P Μ之部分的長衝程模組（粗略定位）及短 衝程模組（精細定位）來實現光罩SMT之移動。類似地，可 使用形成第二定位器P W之部分的長衝程模組及短衝程模 組來實現基板台WT之移動。在步進器（相對於掃描器）之情 況下，光罩台MT可僅連接至短衝程致動器，或可為固定 的。可使用光罩對準標記Ml、M2及基板對準標記？1、p2 來對準光罩ΜΑ及基板W。儘管如所說明之基板對準標記 佔用專用目標部分，但其可位於目標部分之間的空間中 (此等標記被稱為切割道對準標記）。類似地，在一個以上 晶粒提供於光罩隐上之情形中，光罩對準標記可位於該 專晶粒之間。 147210.doc 201044122 根據本發明之一實施例的偵測器D提供於基板台WT中。 下文進一步描述該偵測器。 所描繪裝置2可用於以下模式中之至少一者中： 1·在步進模式中，在將被賦予至輻射光束之整個圖案 一次性投影至目標部分C上時，使光罩台MT及基板台资 保持基本上靜止（亦即，單次靜態曝光）。接著，使基板台 WT在基板之平面中移位，使得可曝光不同目標部分c。在 /進模式中’曝光％之最大大小限制單次靜態曝光中所成 像之目標部分c的大小。 .你外彳田供，在將被賦予至輻射光束之圖案投, 至目㈣分C上時，同步地掃描光罩台MT及基板台资（功 即，單次動態曝光）。可藉由投影系統^之放大率（縮小率 及影像反轉特性來判定基板台”相對於光罩台Μτ之速肩 及方向。在掃描模式中，曝光場之最大大小限制單次動能 曝光中之目標部分的寬度（在非掃描方向上），而掃描料 之長度判定目標部分之高度(在掃描方向上)。 至3目二二模式中，在將被賦予至11射光束之圖案投影 至目t部分c上時，使光罩台町保持基本上靜止，從而固

持可私式化圖案化器件，且移動或掃描基板台WT

模式中’通常使用脈衝式輻射源，且在基板台WT 移動之後或在掃描期間㈣次㈣脈衝之間 新可程式化圖案化器件。此操作模式可易於應 程式化圖案化器件(諸如上文所提及之類型呈: 面陣列）之無光罩微影。 式化鏡 147210.doc 201044122 亦可使用對上文所描述之使用模式之組合及/或變化或 完全不同的使用模式。 圖2更a羊細地展示根據本發明之一實施例的投影系統 PS杈衫系統PS包含六個鏡面Ui16，鏡面丨丨至“經配置 &將經圖案化輕射光束B自圖案化器件MA投影至基板w 上。 在圖2中（及在後續圖中）指示笛卡爾（Cartesian)座標。為 〇 了便於理解，可認為2方向垂直地向上，其中X方向及y方 向係水平的。然而，笛卡爾座標不限於此形式，且可定向 於任何適當方向上。 在此貫例中，技景^系統pS之第一鏡面1丨接收輻射光束 B，且經配置以將輻射光束對角地向上引導至投影系統之 第二鏡面12。第二鏡面12經配置以將輻射光束8對角地向 下引導至第二鏡面13，第三鏡面13經定位成鄰近於第二鏡 面12。第三鏡面13經配置以將輻射光束B對角地向上引導 〇 至第四鏡面14。第四鏡面14經配置以將輻射光束B對角地 向下引導朝向第五鏡面I5。第五鏡面15經配置以將輻射光 束B對角地向上引導朝向第六鏡面16。該第六鏡面經配置 • 以將輻射光束引導至基板W上。 ^ 在一實例中’鏡面11至16中之一或多者可為彎曲的。舉 例而言’第六鏡面16可為凹形的。第六鏡面16之曲率半徑 可與投影系統PS之數值孔控成比例’及/或與在第六鏡面 與基板W之間的距離成比例。第六鏡面16之直徑可關聯於 在第六鏡面與基板W之間的距離（較大距離引起較大直 147210.doc -11 - 201044122 徑）。 在此實例中技衫系統Ps之鏡面u 16的組合效應係在 基板W上形成圖案化器件MA之影像。可能為如下情況： 形成於基板W上之$像不精確地對應於圖案化器件mA上 之圖案。舉例而言’圖案化器件MA可包括所謂的辅助特 铽。亥等辅助特徵有助於在基板评上形成圖案特徵且其不 為在基板上所見之其本身。 在實施例中，第六鏡面16經組態成使得其可在圖案至

土板W上之杈衫期間被致動於ζ方向上。藉由雙頭式箭頭A 來指示第六鏡面16之移動。在圖案至基板W上之投影期間 於Z方向上移動第六鏡面16會增加投影系統ps之有效聚隹 深度。 … 已知的係藉由使基板台傾斜來增加習知(非euv)微影裴 f之投影系統之聚焦深度（該傾斜係圍繞橫向於基板台之 掃描方向的軸線）。此傾斜具有如下效應：導致曝光輕射 在ζ方向上入射於基板上之各種位置處，藉此提供有效聚 焦深度之增加。以此方式使基板台傾斜不會顯著地減小將 圖案形成於基板上之準;度。此係因為藉由微影裝置所照 明之曝光區域的形狀相對於傾斜之軸線對稱（術語「曝光 區域」指代藉由輻射光束所照明的基板之區域）。 ^看圖2,本發明之實施例之EUV微影裝置之基板台wt 的掃描方向可為7方向。曝光區域可具有圍繞延伸於父方向 上之軸線不對稱的形狀。由於對稱性之此缺乏，基板台 WT之傾斜將顯著地減小將圖案投影至基板W上之準確 1472】 0.doc 201044122 度。本發明之實施例藉由使用完全不同之方法（亦即，經 由第六鏡面16在ζ方向上之移動）來增加投影系統ps之聚焦 深度而解決此問題。 圖3示意性地展示根據本發明之一實施例的投影系統p s 之曝光區域20之一實例。在此實例中，曝光區域2〇具有彎 曲形狀。自圓3可看出，曝光區域2〇圍繞延伸於乂方向上之 軸線不對稱。曝光區域20之寬度被指示為〇。

在-實例中，在微影裝置之操作期間，基板台·(見圖 W在掃描運動中移動於y方向上（術語「掃描料」意欲意 谓以穩定速度之運動）。圖3中藉由箭頭3來指示此運動。 由於此掃描運動，曝光區域2G移動遍及基板之表面。舉例 ^言:#光區域可相對於基板移動距離D，如藉由已位移 曝光區域20a所表示。 動：離，第六鏡面16可經組態成使得其在基板评移 費之時f”即’移動等於曝光區域20之寬度的距離)所花 費之時間期間於z方向上行進通過一移動循環(… ::ment)。術語「移動循環」意欲意謂第六鏡面16自一 起點移動、通過在 點。 在2方向上之—位置範圍且返回至該起 費之可經組態成使得其在基板你移動距離D所花 而言，㈣IS方向上行進通過複數個移動循環。舉例 何其他=可為2個循環、6個循一環或任 在一實例中，第六鏡面16之2位置可遵循正弦量變曲線 147210.doc •13- 201044122 (slnusoidai profile) 〇 第丄於 處於移動循環之頂置 瞬時地加速至特定針對將第六鏡面16 ^ 度之需要(在移動循環之頂部或底邻 處鏡面之起始速度為零）。 在一實例令，在ζ方向 至其祐弟八鏡面16之移動可引起投影 ^基板W上之影像在π向上之非想要 ^ 域之y方向平移)。舉例而 U於曝Μ 奈米之致動可引起影像在上 == 〇 二=除(或顯著地減小)影像之非想要的卿移千 弟^鏡面16可經組態以在 夕 旋轉。嗲旌鐘叮图法 冑於2方向上的同時經歷某種 ^ ^轉可圍繞延伸於^向上之行。 了、&配置U貫質上補償影像之非想要的y方向 不存在影像之淨方向平 夕 侍 方向平銘、 千移(或存在影像之顯著減小量心 R二二可A旋轉與2方向移動。此可表達為 轉，Ai 圍繞X抽及相對於㈣的第六鏡面之旋 轉z為相對於中間位置的第丄_ 常數。 1的弟，、鏡面之4向位移，且A為

Q f根據本發明之—實施例的在— 面16之移動，連_繞延伸於4向上之軸線的第 Sa t傾斜。在此實例中，第六鏡面始於初始位： :“立置16a處於弟六鏡面之移動循環 之角度α傾斜。第六鏡面通過中間= 之:動：，:广底w 移動一的底部。在中間位置16b處，第六鏡面之傾斜 I47210.doc * 14 - 201044122 .Γ第零二即，不存在相對於y軸之傾斜)。在底部位置-弟/、鏡面以相對於y轴之角度-«傾斜。 鏡面返回至頂部位置16a，藉此完成在z方 循環且完成一傾屏宁& π s 移動 •专貝斜疋向循環。術語「傾斜定向循環」意欲 .鏡面16自-起始定向移動、通過一傾斜範圍且返 回至該起始定向。 動彳中’第六鏡面16可經組態成使得其在基板卿 €) ㈣，移動等於曝光區域20之寬度的距離）所花 費之時間期間傳遞通過一傾斜定向循環。第六鏡面16可經 組怨成使得其在基板w移動距離〇所花費之時間期間行進 通過複數個傾斜定向循環。舉例而言，循環之數目可為η 個循環，或任何其他適當數目。 再次參看圖3,歸因於在2方向上的第六鏡面此移動， 在曝光區域20之外部部分21處可能會發生影像之某種非想 要放大。舉例而言，沿著X軸可能存在放大之放大誤差， ❹此導致影像之非想要放大。放大誤差可與第六鏡面16之2 移動成比例。此非想要放大之效應為在曝光期間沿著圓案 影像之X方向的衰退。所得對比度損耗可又導致經印刷特 徵之臨界尺寸誤差。可藉由調整傳送至曝光區域20之輕射 強度來補償此非想要放大之此效應。舉例而言，曝光區域 之外部部分21中的輕射強度可大於曝光區域之中心處的輕 射強度。輻射強度之此增加抵消非想要放大之效應(例 如，減小曝光區域之外部部分21處的臨界尺寸）。 在一實例中’可藉由將不透明指狀物（〇paque如㈣引 147210.doc -15- 201044122 入至輻射光束中來調整傳送至曝光區域21之輻射強度，藉 此減小在特定空間部位處輻射光束之強度。舉例而言，不 透明指狀物可位於投影系統PS外部，接近於圖案化器件 MA。在一實施例中，為了向曝光區域2〇之外部部分21提 供強度高於向曝光區域之其他部分所提供之輻射強度的輕 射’使用不透明指狀物來減小曝光區域之該等其他部分中 的輻射強度。 在一實例中，第六鏡面16可（例如）被致動通過約2〇〇奈 米之移動範圍（例如，中心位置之任一側被致動通過約1〇〇 奈米）。第六鏡面之傾斜可足以補償每1〇〇奈米的第六鏡面 之z方向移動約15奈米（例如，總計約3〇奈米）的在y方向上 〜像之平移舉例而s，第六鏡面之傾斜可為每1 〇 〇奈米 之Z方向移動約10奈弧度（nrad)(例如，中心位置之任—側 傾斜約10奈弧度）。 基板台wt之掃描速度可（例如）為約25〇毫米/秒且曝光 區域20之寬度D可（例如）為約14毫米。因此，基板台冒了移 動距離D所花費之時間將為約5 6毫秒。在z方向上的第六 鏡面16之一移動循環及一對應傾斜循環可以約5·6毫秒發 生。此對應於约178赫茲之頻率。 在一貫例中，可藉由致動器3〇來調整第六鏡面16之位置 及定向，致動器30可藉由控制系統31控制。控制系統叫 包含低頻組件及高頻組件。低頻組件可用於(例如)以校正 投影系統PS之緩慢變化之光學屬性的方式來移動第六鏡面 .高頻組件可用於以上述方式在ζ方向上移動第六鏡面 147210.doc -16· 201044122 • 16且圍繞x軸旋轉第六鏡面16。 圖5展示根據本發明之一實施例的控制系統3丨之實例。 控制系統3 1之低頻組件係由點線lf環繞，且高頻組件係由 虛線HF環繞。 在此實例中，低頻組件包含第一設定點產生器1〇〇及第 一前饋控制器102 ^高頻組件HF包含第二設定點產生器1〇3 及第二前饋控制器104。設定點產生器100、ι〇3兩者均將 輸入提供至回饋控制器ιοί，回饋控制器ιοί連接至第六鏡 ^ 面 16。 在此貫例中，在使用中，比較第一設定點產生器J 0 i及 第二設定點產生器1〇3之組合位置輸出pSPG、pFD與第六 鏡面16之實際位置協定（positi〇n pact)，且將差£傳遞至回 饋控制器ιοί。回饋控制器101產生輸出FFB，輸出ffb用 以相應地調整第六鏡面16之位置。 在一實例中，第一前饋控制器102使用第一設定點產生 Q 器1〇0之加速度量變曲線輸出aSPG以產生位置調整輸出。 第二前饋控制器104使用第二設定點產生器1〇3之加速度量 變曲線輸出aFD以產生額外位置調整輸出。組合此等輸出 . 且將其添加至來自回饋控制器101之輸出’以提供調整第 . 六鏡面16之位置的組合輸出。 在貫施例中，第六鏡面具有靜止的中心位置（圖4中之 位置16b)。第一设定點產生器i 及前饋控制器^ 提供輸 出信號，該等輪出信號將第六鏡面移動至（例如）在中心位 置（圖4令之位置16a)上方約1〇〇奈米。此位置i6a為第六鏡 147210.doc -17· 201044122 面16之初始位置。第二設定點產生器丨及前饋控制器1 輸出信號’該等信號以（例如）178赫兹之頻率將第六鏡面移 動至在中心位置（圖4中之位置16c)下方約200奈米且返回至 初始位置’等等。第二設定點產生器1〇3及前饋控制器⑽ 亦導致第六鏡面以對應頻率貫穿相對於_之所要角度而 傾斜。 又 ^ 一貫例中’在基板W之目標部分c(見圖υ之曝光開始 之别，將第六鏡面移動至初始位置16a。當基板之目標部 为之曝光開始時，第六鏡面通過圖4所示之位置循環的移 動開始。 在-實例中’高頻組件103、104可經配置以在特定頻率 I#作。舉例而言’該頻率可在基板台WT移動對應於曝 -區域20(見圖3)之寬度的距離所花費的時間期間提供一或 夕個移動循環。在特定頻率下操作高頻組件103、1〇4可提 供如下優點··有可能 有了此判疋進入弟六鏡面之其他自由度中的 限=)串擾且補償此串擾(串擾可能起因於第六鏡面之有 率之操作頻率可變化。舉例而言，該操作頻 ^ 〇案至基板上之投影可不同。舉例而言，當投 二第：案時’可使用基板台资之第—掃描速度，且當 又：圖案時，可使用基板台资之第二不同掃描速 :寬^地：當投影第-圖案及第二圖㈣，曝光區域2。 得二：问。可調整高頻組件103、1〇4之操作頻率，使 “鏡面之移動及傾斜以對應於等於曝光區域之寬度之 147210.doc 201044122 .基板移動的猶環發生。若改變高頻系統之操作頻率，則亦 可相應地修改串擾之補償。 在以上描述中，已將第六鏡面16之移動描述為處於Z方 .肖上。術語「Z方向」可被理解為意謂實質上垂直於基板 W之表面的方向。

在以上描述中，已將第六鏡面16之旋轉描述為圍繞X 軸。術語「X軸」可被理解為意謂實質上垂直於基板台资 之掃描運動方向的軸線。 〇 & 儘官有可能藉由移動其他鏡中之一者來增加由 f影系統PS所提供之有效聚焦深度，但該等鏡面中之一或 f者之移動可能引起投影至基板上之影像的實質上失真或 貫質上非想要平移。在-實施例中，第六鏡面16之移動因 此係較佳的。 本發明之上述實施例係關於一種包含六個鏡面丨丨至“之 投影系統。然而，該投影系統可包含任何其他適當數目之 〇 鏡面。舉例而言，投影系統可包含4個或4個以上鏡面。投 影系統可包含8個或8個以下鏡面。在每一情況下，其為複 數個鏡面中之最終鏡面（亦即，將圖案引導至基板上之鏡 面）’該最終鏡面移動於z方向上且旋轉。 本發明之上述實施例係關於一種在掃描模式中操作之微 衫裝置（在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分c上 時，同步地掃描光罩台Μτ及基板sWT)e然而，本發明之 實施例亦、可用於在步進模式中操作之微影裝置中（在將被 賦予至輻射光束之整個圖案—次性投影至目標部分0上 147210.doc -19· 201044122 吩，使光罩台MT及基板台WT保持基本上靜止）。在此情況 下，微影裝置可具有類似於圖2所示之投影系統的投影系 統ps。第六鏡面16可移動於2方向上，且可圍繞延伸於X方 向上之軸線旋轉（以便補償投影至基板W上之影像在y方向 上之非想要平移）。可使第六鏡面之旋轉與第六鏡面之4

向移動同步。第六鏡面16可經組態成使得其在目標部分C 被^所花費之時間期間於z方向上行進通過複數個移動 擔％。類似地’第六鏡面16可經組態成使得其在目標部分 C被曝光所花費之時間期間行進通過複數個旋轉循環。舉 例而言，循環之數目可為2個循環、6個循環、12個循環， 或任何其他適當數目。 在以上描述中，街古五「ρΤτΛ

^°° Ευν」意欲指代極紫外線輻射。 儘管微影裝置中$搞I 备' 外線輻射通常係以約13 · 5奈米為中 =但術語「極紫外線輕射」可涵蓋其他波長（例如，在$ 不米至20奈米之範圍内的波長）。 儘管在本文中可特定地參考微影裝置在積體電路製造中 應用，諸如製造整述之微影裝置可具有其他 摘測圖案、平㈣^予^於磁噚記憶體之導引及 等等。 、液晶顯示器（LCD)、薄膜磁頭， 應瞭解’[實施方式1查γΓ 要]章節意欲_解容]及[中文發明 發明摘w章節I專利乾圍。[發明内容]及[中 ]述如由發明人所預期的本發明之一 147210.doc -20* 201044122 乡個而非所有例示性實施例，且因此，不意欲以任何方式 來限制本發明及附加申請專利範圍。 大 上文已憑藉說明指定功能及其關係之實施的功能建置區 -&來描述本發明。本文中6為了便於描述而任意地界定此 ，建置區塊之邊界。只要適當地執行指定功能及其關 係，便可界定替代邊界。 /、關 特定實施例之前述描述將因此充分地揭露本發明之—般 ❹擁：在不脫離本發明之—般概念的情況下，其他人可藉 由應用熟習此項技術者之知識針對各種應用而容易地修^ 及/或調適此等特定實施例，而無不當實驗。因此，基於 本文：所呈現之教示及指導，此等調適及修改意欲係在所 厂、只她例之等效物的意義及範圍内。應理解，本文中之 措辭或術語係出於描述而非限制之目的，使得本說明金之 術語或措辭待由熟習此項技術者按照該等教示及該 行解釋。 〇 本發月之廣度及範彆不應由上述例示性實施例中之任一 者限制，而應僅根據以下申請專利範圍及其等效物進行界 定。 1 【圖式簡單說明】 圖1示意性地描繪根據本發明之一實施例的微影裝置，· 圖2為圖丨之微影裝置之更詳細的示意性說明； 圖3不意性地描繪根據本發明之一實施例的藉由微影裝 置所照明之曝光區域； 圖4示意性地描繪根據本發明之一實施例的微影裝置之 1472l0.doc •21 · 201044122 鏡面之移動；及 圖5示意性地描繪根據本發明之 控制系統。 實施例的微影裝置之 根據上文在結合該等圖式時所 闡述之實施方式，本發明 之特徵及優點將變得更顯 件符號始終識別對應元件 而易見，在該等圖式中，相似元 。在該等圖式中，相似元件符號 通常指示相同、功能上類似及/或結構上類似之元件。一 儿件第一次出現時之圖式係藉由對應元件符號中之最左邊 數位進行指示。 【主要元件符號說明】 2 微影裝置 11 第一鏡面 12 第二鏡面 13 第三鏡面 14 第四鏡面 15 弟五鏡面 16 第六鏡面 16a 初始位置/頂部位置 16b 中間位置 16c 底部位置 20 曝光區域 20a 已位移曝光區域 21 曝光區域之外部部分 30 致動器 147210.doc •22· 201044122 31 控制系統 100 第一設定點產生器 101 回饋控制器 102 第一前饋控制器 103 第二設定點產生器/高頻組件 ' 104 第二前饋控制器/高頻組件 B 輻射光束 C 目標部分 O ifi 位置感測器 IF2 位置感測器 IL 照明系統/照明器 Ml 光罩對準標記 M2 光罩對準標記 MA 圖案化器件/光罩 MT 支撐結構/光罩台 〇 P1 基板對準標記 P2 基板對準標記 PM 第一定位器 . PS 投影系統 PW 第二定位器 so 收集器總成/輻射源 w 基板 WT 基板台 147210.doc -23-

Claims (1)

1. 201044122 七、申請專利範圍： 1. 一種使用一EUV微影裝置將一經圖案化輻射光束投影至 一基板上之方法，該EUV微影裝置具有包含複數個鏡面 之一投影系統’該方法包含： Ο 使用該投影系統以將該經圖案化輻射光束投影至該基 板上，同時在實質上垂直於該基板之表面的—方向上移 動"亥技衫系統之一最終鏡面，及旋轉該最終鏡面以實質 上補償歸因於該鏡面之該移動而致使在該基板上該經投 〜之Ik圖案化輻射光束之非想要平移。 2. 如請求項1之方法，其中使該最終鏡面之該旋轉與該最 終鏡面之該移動同步。 3·=求項1或2之方法，其中該微影裝置為一掃描裝置， ::拖裝置在—掃描移動中相對於該投影系統來移動該 :板’且該最終鏡面之該旋轉係圍繞實 板之該掃描移動方向的一輔線而進行。 、該基 I 2=之方法，其中一曝光區域之外部部分處的 度。a大於該曝光區域之其他部分處的一輻射強 1 二方二’τ其中該基板之該掃描移動的速度係 圖案化：::nr移動對應於藉由該經 且其中在該時間週期;;；曝光區域之寬度的一距離， 通過-或多個移動循環=該最終鏡面自一初始位置 置且返回至該初始位置，該最終鏡面在該時間週期丁 147210.doc 201044122 結束時返回至該初始位置。 6. ^請求項3之方法’其中該基板之卿描移動 圖索^ ，祕板移動對應於藉由該經 =匕轄射光束所界定之一曝光區域之寬度的—距離， :中在該時間週期丁期間’該最終鏡面自一初始定向 心1多個W循環而移動至—經旋轉定向且返回至 心始定向’該最終鏡面在該時間週射結束時返回至 該初始定向。 I 項1或2之方法，其中該基板之位置在-目標部分 *先期間相對於該投影系統固^，該目標部分之該曝 光遍及—時間週期τ發生，且其中在該時間週期丁期間;*、 5亥取終鏡面自一初始位置通過-或多個移動循環而移動 至自該初始位置所位移之位置且返回至該初始位置1 最終鏡面在該時間週期丁結束時返回至該初始位置。 8.如請求項2之方法，其中該基板之位置在—目標部分之 曝光期間相對於該投影系統固定，該目標部分之該曝光 遍及—時間週射發生，且其中在該時間週期丁期^、該 :終鏡面自一初始定向通過一或多個定向循環而移動至 一經旋轉定向且返回至該初始定向’該最終鏡面在該時 間週期Τ結束時返回至該初始定向。 9.如請求項5之方法，其中該最終鏡面之該初始位置處於 位置範圍之一極端，該最終鏡面在該最終鏡面之一移 動循環期間傳遞通過該位置範圍。 1〇*如請求項1或2之方法，其中該投影系統包含至少4個鏡 147210.doc 201044122 面 Π·如請求項1〇之方法，其中該投影系統包含6個鏡面。 12. 一種咖微影裝置，其包含：―投影系統，其具有複數 ㈣面；及一基板台，其經組態以支撐-基板，該投影 系統之-最終鏡面經配置以將-經圖案化輻射光束引導 至該基板上，其中«置進—步包含„致動器，該致動 器經組態以在實質上垂直於該基板之表面的一方向上移 Ο 動该投影系統之該最終鏡面’且經組態成以—方式來旋 轉該最終鏡面，該方式將實質上補償歸因於該鏡面之該 移動而致使在該基板上該經投影之經㈣化輻射光束之 非想要平移。 如請求項12之裝置，其中該致動器經組態以使該最終鏡 面之該旋轉與該最終鏡面之該移動同步。 14. 如請求項12或13之裝置，其中該微影裝置為_掃描裝 置，該掃描裝置經配置以在一掃描移動中相對於該投影 Q 系統來移動該基板，且該最終鏡面之該旋轉係圍繞實質 上垂直於该基板之該掃描移動方向的一軸線而進行。 15. 如請求項12或π之裝置，其中該致動器經組態成使得該 最終鏡面之一初始位置處於一位置範圍之一極端，該最 終鏡面在該最終鏡面之一移動循環期間傳遞通過該位置 範圍。 16.如請求項12或13之裝置，其中該投影系統包含至少4個 鏡面。 17·如請求項16之裝置，其中該投影系統包含6個鏡面。 1472l0.doc 201044122 18·如研求項12或13之裝置，其中該致動器係藉由―控制系 統控制，該控制系統包含高頻組件及低頻組件。 19. 一種方法，其包含： 使用-投影系統以將—經圖案化光束投影至一基板 上；及 旦在實質上垂直於該基板之一表面的一方向上移動該投 影系統之一鏡面， 藉以，該鏡面之旋轉實質上補償歸因於該鏡面之該移 動而致使在該基板上該經圖案化光束之非想要平移。 2〇·如請求項19之方法，其進—步包含使該鏡面之該旋轉與 s亥鏡面之該移動同步。 2 1 ·如請求項1 9之方法，中料旦〈驻 -中诞衫裝置為-掃描裝置，該掃 W置在-掃㈣料相料該投㈣絲移動該基 板乂該最終鏡面之該旋轉係圍繞實質上垂直於該基板 之该掃描移動方向的一軸線而進行。 θ长項19之方法，其中一曝光區域之外部部分處的一 =度大於該曝光區域之其他部分處的—韓射強度。 23.如凊求項22之方法，其中： 該基板之該掃描移動的速度係使得在一時間週期 間，該基板移動對應於藉由該經圖案化光束所界定之— 曝光區域之寬度的一距離；且 在該時間週期T期間，該鏡面自一初始位 多個移動循環而移動至自該初始位置所位移之位置且X 回至該初始位置，該鏡面在該時間週期丁結束時返二 I47210.doc 201044122 該初始位置。 24.如請求項22之方法，其中： 該基板之該掃描移動的速度係使得在一時間週期τ期 間，該基板移動對應於藉由該，經圖案化光束所界定之— 曝光區域之寬度的一距離；且 在該時間週期τ期間，該鏡面自—初始定向通過_或 多個定向循環而移動至一經旋轉定向且返回至該初始定 肖’該鏡面在該時間週期T結束時返回至該初始定向。 2 5.如請求項19之方法，其中： 該基板之位置在一目標部分之曝光期間相對於該投影 系統固定； / 該目標部分之該曝光遍及一時間週期丁發生；且 在該時間週期T期間，該鏡面自一初始位置通過—或 多個移動循環而移動至自該初始位置所位移之位置且返 回至該㈣位置，該鏡面在該時間週期了結束時返回至 ❹ 該初始位置。 26.如請求項20之方法，其中： -亥基板之位置在-目標部分之曝光期間相對於該投影 系統固定； "衾目軚部分之該曝光遍及一時間週期τ發生；且 在該時間週期T期間，該鏡面自一初始定向通過一或 多個定向循環而移動至一經旋轉定向且返回至該初始定 肖’該鏡面在該時間週期T結束時返回至該初始定向。 .27·如請求項23之方法，其中該鏡面之該初始位置處於一位 147210.doc 201044122 移動循環期 置範圍之一極端，該鏡面在該鏡面之 遞通過該位置範圍。 間傳 4個鏡 28.如請求項19之方法，其中該投影系統包含至小 面 29·如請求項28之方法，其中該投影系統包含6個鏡面 30_ —種EUV微影裝置，其包含： 面為—最$ 一投影系統，其具有複數個鏡面，— 終 面； 一基板台’其經組態以支撐一基板；及 一致動器， 其中δ亥複數個鏡面中之—蠢炊於品3 - 〈&終鏡面經配置以將—細 案化光束引導至該基板上， ，，、二 其中該致動器經組態以在實質上垂直於該基 =二向上移動該最終鏡面且以一方式來旋轉I 面’该方式將實質上補償歸因於該最終鏡面之”動 ==基板上該經圖案化韓射光束之非移。 3 1 ·如凊未項30之裝置，1 ^ 罝/、中&亥致動器經組態以使該最玖^ 該旋轉與該最終鏡面之該移_步。 ς 32.如請求項3〇之裝置，其中： 掃=^置為_掃描裝置，該掃“置_置《在-相對於該投影系統來移動該基板;且 婦描移動方向的—轴線而直於該基板之髮 33.如請求項3〇之裝置，其: ^致動器經組態成使得該最终 147210.doc 201044122 鏡面之〜初始位置處於一位置範圍之一極端，該最終鏡 面在該最終鏡面之一移動循環期間傳遞通過該位置範 圍。 34.如凊求項3〇之裝置，其中該投影系統包含至少4個鏡 面。 3 5.如睛求項3 4之裝 36.如請求項3〇之裝 制，該控制系統

   置，其中該投影系統包含6個鏡面。 置，其中該致動器係藉由一控制系統控 包含向頻組件及低頻組件。

   147210.doc