JP2012522257A - 光学アセンブリ - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 116
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 41
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 26
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 19
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 claims description 7
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 239000013529 heat transfer fluid Substances 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 2
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 14
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 7
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 7
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000009304 pastoral farming Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
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- G02—OPTICS
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- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
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- G02B27/18—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical projection, e.g. combination of mirror and condenser and objective
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
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Abstract
【選択図】図2
Description
[数1]
dt=1/m/c・σ・ε(T4−TN 4)・dA・dt (1)
となる。
dTは、各本体の温度変化、
dAは、観察した表面要素、
dtは、観察した時間要素、
Tは、観察した本体の温度、
TNは、周囲の温度、
mは、観察した本体の質量、
cは、観察した本体の熱容量、
σは、ボルツマン定数、
εは、観察した本体の熱放出係数である。
[数2]
ΔQjo=(h・A)jo・(TSi−Tjo)・Δt (2)
[数3]
ΔQju=(h・A)ju・(TSi−Tju)・Δt (3)
ΔQjoは、第1支持体部分31に向かう熱流、
ΔQjuは、第2支持体部分32に向かう熱流、
Δtは、観察した時間要素である。
[数4]
(h・A)source・(TO−TSi)−(h・A)jo・(TSi−Tjo)−(h・A)ju(TSi−Tju)−σ・εSi・−(TSi 4−TSN 4)・OSi=mSi・cSi・ΔTSi/Δt (4)
[数5]
(h・A)jo・(TSi−Tjo)−σ・εsteel・(Tjo 4−TN 4)・Ojo=mjo・Cjo・ΔTjo/Δt (5)
[数6]
(h・A)ju・(TSi−Tju)−σ・εsteel・(Tju 4−TN 4)・Oju=mju・Cju・ΔTju/Δt (6)
Aは、各接触面、
Oは、各表面であり、
添え字「source」は、本例で観察した熱源、換言すれば熱抵抗器素子45を示す。
mjo=0,13kgOjo=0,005m2cjo=c(鋼)=477J/kg/K
mju=0,14kgOju=0,007m2cju=c(鋼)=477J/kg/K
mSi=0,007kgOSi=0,001m2cSi=c(シリコン)=700J/kg/K
(h・A)jo=0,05J/K/sec
(h・A)ju=0,01J/K/sec
εSi=0.2
εsteel,top=0.15・5.5(微細構造43による表面部分41の熱放出係数)
εsteel,bottom=0.15(第2支持体部分32の非構造化表面38)
Claims (29)
- ミラー本体(26)を有する少なくとも1つのミラー(24;53、54)を備え、該ミラー(24;53、54)は、
支持体(30)により担持され、該支持体(30)は、
第1支持体部分(31)と、
第2支持体部分(32)と
を有する、光学アセンブリ(29)であって、
少なくとも部分的に熱分離する領域(33)を、前記2つの支持体部分(31、32)間に配置し、
前記支持体部分(31、32)の少なくとも一方又はそれに熱的に結合した本体(23、50、67)の、少なくとも1つの表面部分(38、41、44、46〜48、52、68)を、変更表面部分(38、41、44、46〜48、52、68)の熱放出係数εmが非変更表面部分の熱放出係数εuと少なくとも10パーセント異なるよう局所的に変更した、光学アセンブリ。 - 請求項1に記載の光学アセンブリにおいて、前記変更表面部分(38、41、44、46〜48、52、68)は、加工により変えた表面を有することを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項2に記載の光学アセンブリにおいて、前記加工表面部分(38、41、44、46〜48、52、68)は、微細構造(43)を有することを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項2又は3に記載の光学アセンブリにおいて、前記加工表面部分(38、41、44、46〜48、52、68)は、前記ミラー(24;53、54)が反射する放射線(25a)の波長に一致した回折構造を有することを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項1又は2に記載の光学アセンブリにおいて、前記加工表面部分(38、41、44、46〜48、52、68)は、ナノ構造を有することを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項1又は2に記載の光学アセンブリにおいて、前記加工表面部分(38、41、44、46〜48、52、68)は、mm構造又はcm構造を有することを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項1又は2に記載の光学アセンブリにおいて、前記変更表面部分(38、41、44、46〜48、52、68)は、その化学組成に関してその下の前記支持体とは異なる表面層(42)を有することを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項1に記載の光学アセンブリにおいて、前記変更表面部分(41)は、該変更表面部分(41)を有する前記支持体部分(31)に対して変位可能な少なくとも1つの被覆体(50)と熱的に接触するため、前記変更表面部分(41)の前記熱放出係数εmは、前記変更表面部分(41)を有する前記支持体部分(31)に対する前記被覆体(50)の相対位置に応じて決まることを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項8に記載の光学アセンブリにおいて、前記被覆体(50)は、前記熱放出係数を変えるよう変更した少なくとも1つの表面部分(52)を有することを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載の光学アセンブリにおいて、前記第1支持体部分(31)及び前記第2支持体部分(32)両方の少なくとも1つの表面部分(38、41)を、前記加工表面部分(38、41)の熱放出係数εmが前記2つの支持体部分(31、32)非変更表面部分の熱放出係数εuと少なくとも10パーセント異なるよう変更したことを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項10に記載の光学アセンブリにおいて、前記第1支持体部分(31)の前記加工表面部分(41)の熱放出係数εmは、前記第2支持体部分(32)の前記加工表面部分(38)の熱放出係数εmと少なくとも10パーセント異なることを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載の光学アセンブリにおいて、該光学アセンブリの少なくとも1つの他の本体(26、31、32)への所定の熱放射流を有する少なくとも1つの熱放射体(23、67)があることを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項12に記載の光学アセンブリにおいて、前記熱放射体(23、67)は、前記熱放出係数を変えるよう変更した少なくとも1つの表面部分(46、47;68)を有することを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項1〜13のいずれか1項に記載の光学アセンブリにおいて、前記ミラー本体(26)は、前記ミラー(24)の反射面(25)に隣接して、第1接触部分(34)を介して前記第1支持体部分(31)に当接し、該第1接触部分(34)よりも前記反射面(25)から離れた第2接触部分(37)を介して前記第2支持体部分(32)に当接することを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項1〜13のいずれか1項に記載の光学アセンブリにおいて、関連する前記支持体部分(31、32)にのみ接触部分(55、56)を介して当接する少なくとも1つのミラー(53、54)自体を、前記支持体部分(31、32)のそれぞれに関連付けることを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項2〜15のいずれか1項に記載の光学アセンブリにおいて、前記加工表面部分は、ポケット構造(57)として構成し、該ポケット構造(57)は、前記支持体部分の一方(31)と、該支持体部分間に位置する少なくとも部分的に熱分離する領域(33)とを貫通し、ポケット開口(59)を介して前記支持体(30)の周囲に通じることを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項16に記載の光学アセンブリにおいて、前記ポケット開口(59)を所定の開口幅(62)で閉じるよう変位可能に構成した少なくとも1つの蓋体(60、61)を特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項16又は17に記載の光学アセンブリにおいて、前記ポケット開口(59)を有する前記支持体部分(31)への所定の熱放射流を有する少なくとも1つの熱放射体(67)を、前記ポケット開口(59)に対向して配置したことを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項1〜18のいずれか1項に記載の光学アセンブリにおいて、前記支持体部分(31、32)の少なくとも一方の温度に影響を及ぼす能動温度制御デバイス(49;66)を特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項19に記載の光学アセンブリにおいて、前記能動温度制御デバイス(66)は、熱媒体流体により温度制御するよう構成したことを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項20に記載の光学アセンブリにおいて、前記能動温度制御デバイス(66)は、熱媒体流体の案内用に、前記支持体部分の一方(32)に少なくとも1つの温度制御チャネルとして構成したことを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項1〜21のいずれか1項に記載の光学アセンブリにおいて、前記変更表面部分(69)は、該光学アセンブリの動作温度での最大の熱放出に対応する波長用のコーティングとして構成したことを特徴とする、光学アセンブリ。
- 請求項1〜21のいずれか1項に記載の光学アセンブリにおいて、前記変更表面部分(78)は、前記変更表面部分(69)からその方向に関して異方性である熱放出を得るよう変更したことを特徴とする、光学アセンブリ。
- 反射有効面(25)及び他の表面部分(69;78)を有するミラー本体(26)を有する少なくとも1つのミラー(24;53、54)を備える、光学アセンブリ(29)であって、
前記他の表面部分(69;78)の少なくとも一方を、該変更表面部分(69;78)の熱放出係数εmが非変更表面部分の熱放出係数εuと少なくとも10パーセント異なるよう局所的に変更した、光学アセンブリ。 - 請求項1〜24のいずれか1項に記載の少なくとも1つの光学アセンブリ(29)を備える照明光学系(14)。
- 請求項1〜24のいずれか1項に記載の少なくとも1つの光学アセンブリ(29)を備える投影露光系(15)。
- 有効放射線ビーム束(3)を生成する放射線源(2)と、
物体平面(12)内の物体視野(11)を照明する照明光学系(14)と、
前記物体視野(11)を像平面(17)内の像視野(16)に結像する投影光学系(15)と、
を備える、投影露光装置(1)であって、
請求項1〜24のいずれか1項に記載の光学アセンブリ(29)を特徴とする、投影露光装置。 - 構造コンポーネントを製造する方法であって、
感光性材料の層を少なくとも部分的に施したウェーハ(18)を設けるステップと、
結像すべき構造を有するレチクル(13)を設けるステップと、
請求項27に記載の投影露光装置(1)を設けるステップと、
前記投影露光装置(1)を用いて前記ウェーハ(18)の前記層の一領域に前記レチクル(13)の少なくとも一部を投影するステップと、
を含む、方法。 - 請求項28に記載の方法により製造した微細構造又はナノ構造コンポーネント。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16392909P | 2009-03-27 | 2009-03-27 | |
DE102009014701.2 | 2009-03-27 | ||
US61/163,929 | 2009-03-27 | ||
DE102009014701A DE102009014701A1 (de) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | Optische Baugruppe |
PCT/EP2010/001604 WO2010108612A1 (en) | 2009-03-27 | 2010-03-13 | Optical assembly |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012522257A true JP2012522257A (ja) | 2012-09-20 |
JP5639145B2 JP5639145B2 (ja) | 2014-12-10 |
Family
ID=42664017
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012501162A Active JP5639145B2 (ja) | 2009-03-27 | 2010-03-13 | 光学アセンブリ |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8964162B2 (ja) |
JP (1) | JP5639145B2 (ja) |
KR (1) | KR101353156B1 (ja) |
CN (1) | CN102365565B (ja) |
DE (1) | DE102009014701A1 (ja) |
WO (1) | WO2010108612A1 (ja) |
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- 2010-03-13 WO PCT/EP2010/001604 patent/WO2010108612A1/en active Application Filing
- 2010-03-13 KR KR1020117022509A patent/KR101353156B1/ko active IP Right Grant
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5639145B2 (ja) | 2014-12-10 |
CN102365565A (zh) | 2012-02-29 |
WO2010108612A1 (en) | 2010-09-30 |
KR101353156B1 (ko) | 2014-01-22 |
US20120019799A1 (en) | 2012-01-26 |
CN102365565B (zh) | 2015-11-25 |
KR20110133572A (ko) | 2011-12-13 |
DE102009014701A1 (de) | 2010-09-30 |
US8964162B2 (en) | 2015-02-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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A602 | Written permission of extension of time |
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