JP2005517291A - 多数の鏡面を有する面鏡 - Google Patents

Abstract

【課題】多数の鏡面を有する面鏡
【解決手段】本発明は、複数の面（１１）を具備し且つマイクロリソグラフィの特にＥＵＶリソグラフィの投影設備（１）用の照明機器（３）に使用される面鏡（１０）に関する。各鏡面（１１）には、球形本体（１７）が設けられている。鏡表面（１２）が球形本体（１７）の窪み（１８）に配列されている。上記鏡表面（１２）とは反対側の球形本体（１７）の側部は、軸受装置（１５）に位置決めされている。１つのこのような面鏡（１０）を調整するための装置において、レバー要素（２３）が鏡面（１１）の各々に、鏡表面（１２）とは反対側の球形本体（１７）の側部に、配列されている。調整システム（２７）は、球形本体（１７）とは反対側の領域に、レバー要素（２３）に係合して、球形本体（１７）がこの中心軸を中心にして変位するのを可能にする。

Description

本発明は、マイクロリソグラフィの、特に、超紫外線の領域の放射線を利用するときのマイクロリソグラフィ用の、投影露光機の装置を照明するのに使用することができる多数の鏡面を有する面鏡に関する。本発明は、面鏡の鏡面を調整するための装置についても記載し、これは、マイクロリソグラフィの、特に、超紫外線の領域の放射線を利用するときのマイクロリソグラフィ用の、投影露光機用の装置を照明するのに使用される。

多数の鏡面を具備する面鏡用の鏡面としての傾斜鏡は、先行技術から公知である。

したがって、例えば、英国特許公開第２２５５１９５Ａ号には、このような面鏡が記載されており、個別の傾斜鏡と、面鏡用の適切な軸受要素とを有し、この用途は、特に、太陽エネルギ技術の分野に求められている。

傾斜鏡の各個別のものは、この場合、適切な軸受装置にしっかり留められた球形にロッドを介して接続される鏡表面を具備するように、構成されている。これら等を調整する可能性に関するこのような配列の正確度は、この場合、個別の傾斜鏡が比較的緩やかに保持され、調整不良が非常に容易に即座に生じうるため、極めて限定されている。

このような設計の場合、調整に必要であり、且つ、マイクロリソグラフィ用の投影露光機、特に、超紫外線（ＥＵＶ）の領域の放射線を使用するために、上述の発明のための用途の場合に必要である正確度を実現することは確かに不可能である。更に、調整中にこの反射表面の側部のみから個別の鏡面に近づくことが可能であり、このため、個別の鏡が照明されるときに整列配置することは比較的複雑であり困難である。

更に、欧州特許公開第０７２６４７９Ａ２号には、少なくとも１つの傾斜鏡と、基本本体と、傾斜鏡と基部との間で少なくとも実質的に固定された支点を備えた少なくとも１つの鏡軸受と、を有する傾斜鏡配列が記載されている。この文献によると、４０ｍｍ未満の特徴的な長さを備えた鏡表面の場合には、傾斜鏡軸受および傾斜鏡ハウジングの総配列の全体的なサイズは、鏡平面に突出するときには、これを越えて突出しないように、または、傾斜鏡が撓むときには、ほんのわずかだけ突出するように、反射表面の下に配列されている。このような傾斜鏡は、例えば、レーザ技術の分野に使用されている。

このような鏡は、適切であれば鏡軸受を介して対応して基本本体を装着しこれを再調整する可能性のために、照明されるときに調整することもできる。しかし、設計は非常に複雑であり、このため、これらの傾斜鏡から形成されることが可能な面鏡の場合には、軸方向における空間全体、調整要素およびコスト等に非常に高い費用が予想される。

独国特許第２３３６７６５号には、コヒーレントな光学システムの旋回可能な鏡用の軸受が開示されている。鏡は、この場合、球形セグメントの円形表面に配列されており、球の中心は反射表面にある。球形セグメントは、対応する直径の球形パンまたは球形キャップに装着されている。球形セグメントには、運動および制御のために、球に対して半径方向に配列されたレバー形状の拡張部が設けられている。この場合、拡張部は、鏡の中立位置の平面に対して平行な平面に作用する調整装置によって動かすことができる。

本発明の目的は、先行技術の上述の不利点を回避し、且つ、多数の鏡面を有する面鏡を提供することであり、これは、非常に簡単な設計であり、光学的品質に対する、および、マイクロリソグラフィ、特にＥＵＶリソグラフィに発生するような個別の面鏡の調整の解像度に対する、非常に高い要求を満たすことができる。

この目的は、鏡面の各々が球形本体を有し、反射表面が球形本体の溝に配列され、反射表面からそらされた球形本体の側部が軸受装置に装着されているという事実によって、本発明にしたがって達成される。

反射表面は、一体的に、または中間要素で球形本体内に固定され、これは、同時に、軸受装置で鏡面を担持するための軸受本体として作用する。これは、各鏡面が、自由に他の鏡面とは無関係に調整されることができることを可能にする設計を形成する。鏡本体として１つの球体および軸受本体を具備する設計は、非常に簡単であり、この場合はコスト節約的である。

更に、上述の目的は、使用の同一の目的のためにこの種類の面鏡を調整するための装置と、反射表面からそらされた球形本体の側部で鏡面の各々に配列されている。レバー要素と、球形本体からそらされた領域のレバー要素に作用し且つ球形本体がこの中心点を中心にして動くのを達成するのを可能にする制御手段と、によって達成される。

レバー要素で調整する可能性のため、面鏡の光学的に活性な前面の領域には、放射線から応力をかけるように露出されるいずれの種類の追加アクチュエータまたはセンサは必要がない。いずれの種類の制御手段は、鏡面からそらされた面鏡の側部でレバー要素の領域に配列されている。ことが可能である。設計に依存して、純粋な調整不良に加えて、制御手段は、鏡面がこの所定の位置に、または、鏡面の各々の反射表面の表面法線の所定の整列配置に、確実に保持されることを可能にする。したがって、レバー要素はしたがって鏡面は、調整されることができるだけではなく、制御手段によって適所に保持されることができるため、空間を節約するように設計することができる簡単な構成の補助で、上述の要件を完全に満たし、更に、程度の高い長期の安定性を有し、衝撃および振動等による機械的な障害に対して非常によく保護される設計を達成することが可能である。

本発明の更に有利な改良点は、残りの従属請求項から、および、図面の補助で下記に例示された模範的な実施の形態から現れる。

マイクロリソグラフィ用の投影露光機１が、図１に例示されている。この機械は、感光性材料でコーティングされ、一般に、大部分がシリコンから構成され、ウェーハ２として示されている基板にパターンを露光するように作用し、目的は、例えばコンピュータチップ等の半導体構成要素を製造することである。

投影露光機１は、本質的に、この場合は、照明装置３と、グリッド状パターンが設けられたマスク、いわゆるレチクル５を収容し正確に位置決めし、ウェーハ２上に前記パターンを決定する装置４と、まさにこのウェーハ２を保持し、移動させ、かつ正確に位置決めするための装置６と、画像形成装置７と、から構成されている。

基本的な機能原則は、この場合、レチクル５に導入されたパターンがウェーハ２に露光されることを提供し、特に、パターンをオリジナルサイズの３分の１以下に減少することを伴う。投影露光機１に、特に画像形成装置７に据えるべき必要条件は、分解度に関して、この場合は、数ナノメートルの範囲である。

ウェーハ２が露光された後に、各々がレチクル５によって所定のパターンを有する複数の個別のフィールドが、同一のウェーハ２に露光されるように、ウェーハ２は更に動く。ひとたびウェーハ２の領域全体が露光されると、後者は投影露光機１から取り除かれ、複数の化学処理ステップを受け、一般に、エッチングによって材料が除去される。適切な場合には、多数のこれらの露光および取扱ステップは、複数のコンピュータチップがウェーハ２で製造されるまで、１つずつ検討される。ウェーハ２が投影露光機１内で徐々に前方へ動くため、後者はステッパーとしても表示されることが多い。

照明装置３は、例えば光のために投影ビーム８を提供し、または、ウェーハ２にレチクル５を画像形成するために類似の電磁気放射線を提供する。この放射線の源としてレーザ等を使用することができる。放射線は、投影ビーム８が、レチクル５に当たるときに、波形の直径、分極、形状等に関して所望の特性を有するように、光学素子を介して照明装置３により成形される。

投影ビーム８によって、レチクル５の画像が形成され、既に上記に説明されているように、画像形成装置７によって適切に縮小された形態で、ウェーハ２に転写される。画像形成装置７は、対物レンズと称すこともでき、この場合、複数の個別の屈折および／または回折の光学素子、例えば、レンズ、鏡、プリズム、鏡板等から構成されている。

図２は、図１に類似した設計の原則の図を示すが、ここでは、波長が超紫外線（ＥＵＶ）の領域にある投影ビーム８と共に使用するためのものである。一般に約１３ｎｍのこれら波長の場合、屈折光学素子の使用はもはや可能ではなく、このためすべての素子は、反射素子として設計されなければならない。これは、ここでは、多数の鏡９によって例示されている。投影ビーム８のコースを除いて、ここに例示された投影露光機１は、ＥＵＶリソグラフィ用に使用されることができ、図１で既に説明した投影露光機１の設計に匹敵する。この場合、装置の同一の要素は、同一の参照符号を有し、この接合では、より詳細な説明を省略する。

この場合、ここで点破線で示された照明装置３の領域に配列されている。のは、投影ビーム８の品質および均一性のために非常に重要である面鏡１０である。下記の説明は、マイクロリソグラフィで非常に一般的に使用することができる面鏡１０の設計に関し、特にＥＵＶリソグラフィ用の照明装置３用である。

図３は、例として、個別の鏡面１１を有する面鏡１０の可能な設計を示す。鏡面１１の各々は、放射線の反射に適切である反射表面１２を有する。反射表面１２の設計は、例えば、光、ＵＶ放射線、Ｘ放射線等の使用される放射線の種類に依存して、かえられうる。ここでは、一部は、基板に与えられた、例えば基板の上に蒸着された多数のマルチレーヤーコーティングを含む様々な設計を考えることが可能である。反射表面１２は、この場合、鏡面１１に直接与えることができるか、または、中間要素１３（ここには例示せず、図６参照のこと）に与えられる。ここでは、反射表面１２の表面品質に、したがってこの反射表面１２の下の表面にも、非常に高い需要を置く必要があるため、中間要素１３の使用は、この場合は、特に、非常に短い波の放射線、例えば、超紫外線（ＥＵＶ）の領域の放射線が使用される場合には、非常に好ましい。しかし、中間要素１３が使用されるときには、ＥＵＶ放射線の反射に必要であるような効果的なやり方でこの表面を処理するのを可能にする材料から鏡面１１全体を製造する費用が排除される。

面鏡１０を形成するために、鏡面１１の各個別の１つは、この場合、鏡面１１用の軸受装置１５としての収容開口１４内に座す。収容開口１４は、ここでは、キャリアプレート１６に配列されている。個別の鏡面１１は、ここではこのうちの２、３のみが例示されているが、少なくとも軸受装置１５に座している領域に、窪み１８（ここでは識別できない。図４に例示されている）内に、直接または中間要素１３に、反射表面１２を担持する球形本体１７の形態を有する。

面鏡１０の一部は、代替の実施の形態で図４に例示されている。特に、鏡面１１の構成は、ここでは、よりはっきりと明確になっている。ここに例示された模範的な実施の形態の詳細において、面鏡１０は、３つの鏡面１１を有する。鏡面１１の各々は、今度は球形本体１７として形成されている。球形本体１７の各々に窪み１８が位置し、これには、球形本体１７の１つでのみ参照符号が付されており、球形本体１７は点線の補助が追加されて、球の断面形状を作る。この窪み１８の領域において球形本体１７の残りの表面は、次いで、反射表面１２を形成し、これは、各場合に図４においてこの表面法線ｎによって更に記号で表されている。面鏡１０を使用するための目的に依存して、反射表面１２は、球形平面または非球形反射表面１２を生成するように構成されることが可能である。一般に、反射表面１２は、ＥＵＶリソグラフィでは使用の好ましい目的のために球形構造になり、反射表面１２の半径は、球形本体１７の半径よりも非常に大きい。

鏡面１１の各々は、軸受装置１５に装着されている。ここに例示された模範的な実施の形態において、軸受装置１５は、キャリアプレート１６内に導入される円錐内腔１９を具備する。球形本体１７はこの円錐内腔１９にあり、より大きな開口直径は、この場合、球形本体１７は円錐内腔１９にあるが、それを通って落ちることができないように、配列されている。したがって、円錐内腔１９または軸受装置１５の領域において、環状座表面２０は、球形本体１７とキャリアプレート１６との間に作られている。

更に、ここに例示された模範的な実施の形態において、面鏡１０は、球形本体１７を確実に保持するための装置を有する。ここに例示された模範的な実施の形態にしたがって、これらの装置は、保持プレート２２内に導入される更なる円錐内腔２１として構成されている。更なる円錐内腔２１のより大きな開口直径は、キャリアプレート１６に面するように配列されている。

操作の理想的なモードには、調整装置が鏡表面１２からそらされたこの側部で鏡面１１の各々に装着サレテイルノが、特に好ましい。この調整装置は、例えば、球形本体１７に接続されたレバー要素２３として構成されることが可能である。キャリアプレート１６の円錐内腔１９を通って突出するこのようなレバー要素２３を介して、面鏡１０はしたがって、照明下で、背部から調整されることができ、すなわち、照明からそらされた側部からであり、すなわち、正しい操作のために設けられた状況下である。反射表面１２またはこの表面法線ｎの運動とレバー要素２３の撓みとの間の速度伝達比は、この場合、レバー要素２３の長さによって設定することができる。この場合、レバー要素２３が反射表面１２の表面法線ｎと整列配置して構成され、このため、表面法線ｎおよびレバー要素２３の運動の方向が反対方向に平行して走るときに、特に合理的である。容易に理解される非常に簡単な調整可能性が、それによって確実にされる。この場合、鏡面の傾斜角度用に達成される位置正確度は、秒の範囲である。

反射表面１２の位置が、球形本体１７からそらされたレバー要素２３の側部で適切な力によって調整されるときに、特に有利である。これらの力は、例えば、ここでは原則として矢印Ａによって示されるアクチュエータを介して、レバー要素２３に加えることができる。ここでアクチュエータとして考えられるのは、すべての公知の形態のアクチュエータ、または、受動または能動の制御手段であって、例えば、空気圧力、水圧力、圧電力、磁力、または機械力を使用するものである。

このような面鏡１０を装着し調整する手順は、鏡面１１をキャリアプレート１６の円錐内腔１９内に挿入するようなものである。この後、円錐内腔２１を備えた保持プレート２２が、鏡面１１より上に位置決めされて、下降される。次いで、２枚のプレート１６、２２は、鏡面１１が、反射表面１２の表面法線ｎの整列配置に対してレバー要素２３を介して依然として変動することができるように、互いにゆるく位置する。照明された面鏡１０全体で、面鏡１０の各個別の反射表面１２は、次いで、レバー要素２３にかかる適切な力作用を介して調整される。すべての鏡面１１の位置が所望のやり方で調整されるや否や、この位置は、第１および第２のプレート１６、２２を互いに押圧することによって固定される。この場合、キャリアプレート１６が、球形本体１７の材料よりもかなり柔らかい材料から構成されるときに、特に有利である。ここで、例えば、球形本体１７用のセラミックまたは結晶性物質と、キャリアプレート１６用の軟金属例えば真鍮、銅またはアルミニウムとの材料組み合わせが考えられる。それと比較して、保持プレート２２は、キャリアプレート１６用の材料よりは幾分硬いが、球形本体１７用の材料よりもかなり柔らかい材料から構成されなければならない。これによって、２枚のプレート１６、２２が一緒に押圧されるときに、球形本体１７は容易にキャリアプレート１６内に押圧されることが確実になり、次いで、この位置の固定は、摩擦力によって確実にされる（振動、衝撃等の場合においても）。

プレート１６、２２が一緒に押圧されたときに鏡面１１の最終位置またはこの表面法線ｎの整列配置が調整不良を起した場合、例えば、２枚のプレート１６、２３を一緒にねじることによって、何かが発生する可能性があり、次いで、このねじった関係をほどくことによって、且つ、例えばこの間に導入された圧縮空気によって２枚のプレート１６、２２を離して押圧することによって、調整が行われた後に２枚のプレート１６、２２が次いで互いに押圧されるかまたは再度互いにねじられる前に、新たな調整が可能であるような程度まで、キャリアプレート１６と球形本体１７との間の摩擦が減少される状態を達成することが可能である。

個別の鏡面の最終的に設定された位置を確実にするために、個別の鏡面は同様に、プレート１６、２２の少なくとも一方に結合されるかまたはハンダ付けされることが可能である。

図５は、鏡面１１に対しておよび軸受装置１５の両方に対する鏡面１１の代替の実施の形態を例示する。ここで、再度、鏡面１１は、球形本体１７を具備し、調整のためにレバー要素２３が設けられている。しかし、先に例示した鏡面１１とは対照的に、ここでは、既に上述した中間要素１３が見られ、これは、反射表面１２を担持し、球形本体１７の窪み１８内に導入されている。中間要素１３は、一般に鏡基板を具備し、この場合は、従来の方法を使用して球形本体１７の窪み１８の領域内に導入されることが可能である。反射表面１２によって反射されず中間要素１３の領域に吸収される放射線が熱に転換され、理想的には球形本体１７で分散することができるように、絞り出し、結合またはハンダ付け等の方法を使用することが特に都合がよいことが明らかである。これは、熱応力等のために、反射表面１２の形状の障害を最小限にする。

図５に例示された模範的な実施の形態において、鏡面１１の球形本体１７は今や軸受装置１５に載置され、この補助で、球形本体１７は、例えばボールとして構成されることが可能な３つの軸受要素２４の領域において少なくともほぼ点状接触を形成する。

同一の鏡面１１が、再度図６の平面図に例示されている。ここで、３つの座本体２４が真の３点軸受として構成され、各場合に互いに１２０度の角度で配列されているのが、はっきり見られる。このような３点軸受の特に好ましい特性は、ここではそれ自体が知られており、このような種類の公知の軸受装置１５に似たやり方で図５および６に例示された実施の形態に使用される。

図７は、キャリアプレート１６の鏡面１１の１つの位置を調整するための装置２５を例示する。また、図７には、軸受装置１５の更なる実施の形態も見られる。ここに例示された模範的な実施の形態において、収容開口１４は、直径が鏡面１１の球形本体１７の直径に対応する球形キャップ２６として構成されている。

更に、今まで原則として矢印Ａを介してのみ示されたアクチュエータが、下記の模範的な実施の形態に具体的な制御手段２７として例示されている。図７および８の模範的な実施の形態にしたがって、装置２５は、ここではねじとして構成される制御手段２７の１つと、レバー２８として構成される伝達要素と、ばね手段２９と、を具備する。今説明した制御手段２７、レバー２８およびばね手段２９から構成されるこの設計は、この場合、図８に見られるように、ここに例示された模範的な実施の形態にしたがって、三重の存在を有する。

制御手段による力の作用は、力矢印Ｆ_ｓを介して図７に例示されている。この位置決め力ｓは、レバー２８に作用する。ここに例示された模範的な実施の形態において、これは、レバー２８の長いアームに作用する。レバー２８は、ここでは、キャリアプレート１６に対して静止である支点３０を中心にして回転することができる。レバー２８の短い足は、ばね手段２９に接続されており、そこで、鏡面１１のレバー要素２３がレバー２８の方向に動くようにばね手段に応力をかける運動を行う。したがって、鏡面１１は、撓む。

この設計は、図８に更により効果的に見られるものである。ここに描かれるのは、それぞれの力、Ｆ_１、Ｆ_２およびＦ_３であり、これらは、図７の模範的な実施の形態におけるのと同じように作用する位置決め力Ｆ_３に基づいて設定されている。同様に３つある制御手段２７の作動は、次いで、反射表面１２の表面法線ｎの整列配置に対して鏡面１１の正確な位置決めに達することが可能であることを意味する。

図９は、装置２５の代替の実施の形態の更なる機能的原則の非常に簡略化した概略例示を示す。ここにあるのは、同様に、レバー２８であり、これは、キャリアプレート１６（図示せず）に対して固定された支点３０を中心にして回転することができる。レバー２８は、今度は、制御手段２７によって作動され、制御手段２７はそれ自体任意であり、ここでは位置決め力Ｆ_ｓによってのみ示される。レバーは、既に述べたように、支点３０を中心にして回転し、ここに例示された模範的な実施の形態では圧縮ばね手段として実現されるばね手段２９の補助で鏡面１１のレバー要素２３へ向けて動く。設計のため、ここで、図７および８の説明で既に上記に表されているものに匹敵する調整の可能性を達成することが可能である。

図１０は、図９の設計の更なる代替の実施の形態を例示し、ここでは、更に、装置２５全体を小型化するために、注意が払われている。ここで、同様に、設計は、上述の実施の形態に匹敵し、レバー２８の実施の形態は矩形ブロックとして実現されている。この矩形ブロックは、レバー２８を構成しており、この場合、鏡面１１の最大直径の突起表面下に嵌るように小さく形成されることができ、このため、装置２５が必要とする全体的空間は、極めて小さい。

図１０の設計は、この場合、これが圧縮ばね手段として構成されたばね手段２９も有するため、図９によると、既に上述された設計と同一の機能的原則にしたがう。

しかし、原則として、図９および１０に例示されたような設計を使用するときには、２つのみの制御手段または位置決め力Ｆ_ｓで取り扱うことが考えられる。図１１は、このような設計を示す。２つのレバー２８がまた、図１０の矢印ＸＩの図で図１１に見られる。位置決め力Ｆ_ｓの作用は図面の平面に対して垂直であるため、それから生じる力Ｆ_ｘおよびＦ_Ｙがここに例示され、これらの力は、レバー２８によってレバー要素２３にかけられている。レバー２８の整列配置のため、これらの２つの力の作用は互いに９０度であり、このため、制御手段２７（ここでは図示せず）の一方の補助でレバー要素２３がｘ方向（Ｆ_ｘ）に動くことと、他方の制御手段２７（ここでは図示せず）の補助でレバー要素２３がｙ方向（Ｆ_Ｙ）に動くことと、を実現することが可能である。

この場合、ここで例示された設計が与えられると、圧縮ばね手段２９を使用しないことも可能であり、このため、例示された力Ｆ_ｘおよびＦ_Ｙの方向に作用するためにレバー２８の代わりに専用の制御手段を使用することも考えられる。ここに例示された模範的な実施の形態において、各場合に、力Ｆ_ｘおよびＦ_Ｙに対して１３５度の角度に、レバー要素２３の中心の方向に力Ｆ_Ｖの作用をかけるばね手段３１が位置する。このばね手段３１は、例えば、レバー要素２３に対する平行に向けてわずかな角度で傾斜して走り、したがってレバー要素２３を２つのレバー２８に対して押圧するバースプリングであってもよい。位置決め力として作用する力Ｆ_ｘおよびＦ_Ｙとばね手段３１のために偏倚力Ｆ_Ｖとから構成されるこのような設計は、結果として、制御手段２７がレバー要素２３をデカルト座標で直接調整するのを可能にする設計になる。

装置２５の更なる代替の実施の形態は、図１２に例示されている。装置２５のこの設計において、反射表面１２からそらされたレバー要素２３の端には、ここで例示された場合には反射表面１２の方向にテーパする円錐３２が設けられている。ここで、ねじ頭３４の領域では球形構成である止めねじ３３が、面鏡１１のレバー要素２３に平行に走る。ねじ頭３４の球形表面は、この場合、円錐３２に接触し、これは、面鏡１１のレバー要素２３に配列されている。止めねじ３３を調整することによって、位置づけ表面は、円錐に沿って、球形ねじ頭３４と円錐３２との間に、反射表面１２の方向にまたは反対方向に、移動する。

できるだけ少ない構成要素で取り扱うために、原則として図１１に示されたものに対応する設計は、鏡面１１の位置または反射表面１２の表面法線ｎを設定するために選択されている。この設計は、図１３に示され、２つの止めねじ３３を有する。これらの止めねじ３３は、次いで、レバー要素２３に偏倚力Ｆ_Ｖを生成するために、対応するばね手段３１によって対抗されている。操作のモードおよび配列は、図１１の操作のモードに匹敵する。したがって、デカルト座標での直接設定は、構成要素にかかる最小経費で行うことができる。

止めねじ３３が球形ねじ頭３４を担持する程度および円錐３２がレバー要素２３に嵌る程度は、ここでは重要ではない。図１４に原則として示されるように、レバー要素２３の球形に構成された表面３２’が止めねじ３３の領域で対応する円錐表面３４’に突き当たるように、これが逆になることも完全に考えられるものである。また、操作のモードは、原則として円錐３２または３４’の整列配置によって影響されず、すなわち、円錐３２または３４’が反射表面１２の方向にテーパするか拡張するという事実によって影響されない。

図１０の設計と同様に、図１２、１３および１４の設計は、極めて空間節約的であり、このため、この表面法線ｎが自由に調整可能であるという事実にかかわらず、個別の鏡面１１を面鏡１０にまったく直接配置することができる。

次に図１５は、原則として設けられた、各場合に球形キャップ２６の最後に例示された模範的な実施の形態で、球形本体１７と軸受装置１５との間に幾分高い程度の摩擦が発生するのを確実にするために使用することができる可能性を例示し、このため、鏡面１１の各々の位置は、それがひとたび設定されると確実に保持される。ここに例示された模範的な実施の形態において、ばね手段３５は、鏡面１１を保持するための装置のように、円錐３２とキャリアプレート１６との間に嵌る。このばね手段３５は、ここでは圧縮ばね手段として構成されており、球形本体１７が球形キャップ２６をしっかりと押圧し、これらの２つの要素の間に発生する摩擦が対応して増大するように、力を円錐３２に加え、したがってこれに接続したレバー要素２３に加える。鏡面１１はこのようにして、振動および／または衝撃の事象にあってさえ、この位置にしっかりと保持されている。

図１６は、図１５の構成に類似するが、円錐３２の代わりに各鏡面１１が各場合に面本体１７からそらされたガイド部材２３の側部に球形軸受部材としてボール３６を有し、これは、保持プレート３７の円錐レセプタクルに装着されている。ばね手段３５は、面本体１７用の軸受装置１５とボール３６との間に当接として偏倚を確実にする。ガイド部材２３は、キャリアプレート１６に遊びを備えて配列されている。これは、位置決め力が鏡面１１の対称軸３８を横切って作用し保持プレート３７を設定表面３９に沿ってキャリアプレート１６と保持プレート３７との間に変位するときに、ガイド部材２３は、正確な設定および調整のためにキャリアプレート１６に対して傾斜することができることを意味する。この設定および調整は、したがって、各鏡面１１用に別個に行うことができる。図１６は、３つの例示された鏡面１１用にこの傾斜方向に対して３つの異なる位置を例示する。

感光性材料でコーティングされたウェーハに構造物を露光するのに使用することができるマイクロリソグラフィ用の投影露光機のブロック図である。 超紫外線の領域の放射線とともに利用するときに使用することができるような、マイクロリソグラフィ用の投影露光機のブロック図である。 本発明の面鏡の可能な設計を示す図である。 特に、本発明の面鏡の可能な代替の設計を通る断面図である。 代替的に構成された軸受装置における鏡面の代替の実施の形態を通る断面図である。 図５の鏡面の平面図である。 更に代替的に構成された軸受装置における鏡面の１つの位置を調整するための装置を示す図である。 図７の装置の一部を下から示す図である。 鏡面の１つの位置を調整するための装置の代替の改良の一部を示す図である。 鏡面の１つの位置を調整するための装置の更に代替の改良の一部を示す図である。 図１０の装置の一部を下から示す図である。 鏡面の１つの位置を調整するための装置の更なる代替の改良の一部を示す図である。 原則として図１２の線ＸＩＩＩ−ＸＩＩＩの断面を例示する図である。 図１２の装置の改良の詳細の代替設計を示す図である。 軸受装置における鏡面の摩擦を増大するための可能な装置の原則の図である。

Claims (23)

1. 多数の鏡面（１１）を有する面鏡（１０）であって、マイクロリソグラフィの、特に、超紫外線の領域の放射線を利用するマイクロリソグラフィの、投影露光機（１）用の照明装置（３）に使用され、前記鏡面（１１）の少なくとも一部は、球形本体（１７）を有し、反射表面（１２）が前記球形本体（１７）の窪み（１８）に配列され、前記反射表面（１２）からそらされた前記球形本体（１７）の側部は軸受装置（１５）内に装着されている面鏡。
2. レバー要素（２３）が、前記反射表面（１２）からそらされた前記球形本体（１７）の側部で前記鏡面（１１）の少なくとも一部に配列されている。ことを特徴とする請求項１記載の面鏡。
3. 前記レバー要素（２３）と前記球形本体（１７）とは、一体的に構成されることを特徴とする請求項２記載の面鏡。
4. 前記レバー要素（２３）は、前記反射表面（１２）の表面法線（ｎ）に整列配置して構成されることを特徴とする請求項２または３に記載の面鏡。
5. 前記反射表面（１２）は、前記球形本体（１７）の前記窪み内に直接固定されることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の面鏡。
6. 前記反射表面（１２）は、基板から、中間要素（１３）に加えられ、前記球形本体（１７）の前記窪み（１８）内に挿入されそれに接続されることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の面鏡。
7. 前記球形本体（１７）の前記窪み（１８）内の前記中間要素（１３）は、前記球形本体（１７）にねじられることを特徴とする請求項６記載の面鏡。
8. 前記軸受装置（１５）は、直径が前記球形本体（１７）の直径に対応する球形キャップ（２６）として構成されることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の面鏡。
9. 前記軸受装置は、前記球形本体（１７）が前記軸受装置（１５）とともに、少なくともほぼ環状の封止表面（２０）を形成するように、構成されることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の面鏡。
10. 前記軸受装置（１５）は、キャリアプレート（１６）の前記反射表面（１２）の方向に円錐内腔（１９）開口として構成されることを特徴とする請求項９記載の面鏡。
11. 前記軸受装置は、前記球形本体（１７）は前記軸受装置（１５）とともに、正確に３つの少なくともほぼ点状の座表面（座要素２４）を形成するように構成されることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の面鏡。
12. ばね手段を介して前記軸受装置の方向に前記球形本体（１７）の各々に力が加えられることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の面鏡。
13. 面鏡（１０）の鏡面（１１）を調整するための装置（１５）であって、マイクロリソグラフィの、特に、超紫外線の領域の放射線を利用するマイクロリソグラフィの、投影露光機（１）用の照明装置（３）に使用され、前記鏡面（１１）の各々は球形本体（１７）を具備し、反射表面（１２）が前記球形本体（１７）の窪み（１８）に配列され、前記反射表面（１２）からそらされた前記球形本体（１７）の側部は軸受装置（１５）に装着され、レバー要素（２３）が、前記反射表面（１２）からそらされた前記球形本体（１７）の側部で前記鏡面（１１）の少なくとも一部に配列され、制御手段（Ａ、２７）が、前記球形本体（１７）からそらされた領域で前記レバー要素（２３）に作用し前記球形本体（１７）がこの中心点を中心にして動くのを達成するのを可能にする装置。
14. 前記制御手段（２７）は、伝達手段（レバー２８）を介して前記レバー要素（２３）に作用することを特徴とする請求項１３記載の装置。
15. 前記伝達手段は、レバー（２８）として構成されることを特徴とする請求項１４記載の装置。
16. 前記制御手段（２７）は、ばね手段（２９）を介して前記レバー要素（２３）に作用することを特徴とする請求項１３、１４または１５に記載の装置。
17. ３つの制御手段（２７）が、これらの力（Ｆ_１、Ｆ_２、Ｆ_３）の作用が、互いに各１２０度の角度であり、前記レバー要素（２３）の長手方向軸に対して少なくともほぼ垂直である（中立位置である）ように、前記レバー要素（２３）に作用することを特徴とする請求項１６記載の装置。
18. ２つの制御手段（２７）が、これらの力（Ｆ_ｘ、Ｆ_ｙ）の作用が、互いに９０度の角度であり、前記レバー要素（２３）の長手方向軸に対して少なくともほぼ垂直である（中立位置である）ように、前記レバー要素（２３）に作用し、前記レバー要素（２３）は、この作用の点の方向における力（Ｆ_ｘ、Ｆ_ｙ）の作用に対して各場合に１３５度の角度でばね手段（３１）によって押圧されることを特徴とする請求項１３ないし１６のいずれか１項に記載の装置。
19. 前記制御手段（Ａ、２７）は、止めねじとして構成されることを特徴とする請求項１３ないし１８のいずれか１項に記載の装置。
20. 前記制御手段（Ａ、２７）は、アクチュエータとして構成されることを特徴とする請求項１３ないし１８のいずれか１項に記載の装置。
21. 前記制御手段は、基本位置に整列配置した前記レバー要素（２３）に少なくともほぼ平行な方向に動くことができ、球形本体と円錐表面との間の接触を介して前記レバー要素（２３）に作用することを特徴とする請求項１３ないし１８のいずれか１項に記載の装置。
22. 前記制御手段は、前記レバー要素（２３）に接触する領域で球形構造である止めねじ（３３）として構成され、前記レバー要素（２３）は、前記接触領域で、鏡の方向にテーパする円錐（３２）を有することを特徴とする請求項２１記載の装置。
23. 前記制御手段は、前記レバー要素（２３）に接触する領域で、鏡の方向にそれぞれテーパする円錐（３４’）を有する止めねじ（３３）として構成され、前記レバー要素（２３）は、前記接触領域で球形構造である請求項２１記載の装置。

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