JP2012512154A - 2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエートの製造方法 - Google Patents

2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエートの製造方法 Download PDF

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Abstract

2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール(TMPDグリコール)と2−エチルヘキサン酸との、中間体化合物2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール−2−エチルヘキサノエート(TMPDモノ−2−エチルヘキサノエート)を介した反応による2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエート(TMPDジ−2−エチルヘキサノエート)の収率を最大にする方法を開示する。該方法は、反応器内の水レベルを少なくとも0.10質量%、そして好ましくは0.20質量%超に維持することによって2,2,4−トリメチルペント−3−エニル−2−エチルヘキサノエート,不所望副生成物の形成を低減することを含む。

Description

本発明は、反応の水含有量を制御することを含む、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエートの製造方法に関する。
発明の背景
2−エチルヘキサン酸の、TMPDジ−2−エチルヘキサノエートによるエステル化は、ジエステルTMPDジ−2−エチルヘキサノエートおよび水を形成する(図1を参照のこと)。中間体モノエステル(TMPDモノ−2−エチルヘキサノエート)は反応中に形成され、これは続いてジエステルに転化される(図2を参照のこと)。合理的な製造量を実現するために、反応は温度範囲190℃〜210℃で実施する。200℃にて、反応物質から生成物への転化を完全に完了させるのに約24時間要する。反応の遅い速度に起因して、これは系の熱力学的速度によって制御され、何らの実体または伝熱の制限によっても制御されないということができる。
この種のエステル化のために、反応物質の1種を過剰に添加することによって反応を加速させるのが慣例である。上記の反応については、100%過剰の2−エチルヘキサン酸を反応器に添加する。反応はまた、系から水を連続的に除去することによって加速でき、よってルシャトリエの原理の利点を有し、順方向の反応を進行させる。これは、反応器に窒素をスパージして水を容器から吸収および除去することによって行う。速度を増大させる第3の方法は、反応の温度を増大させることである。反応は、大量の脱水されたモノエステルを生成させる分解機構によって実現されることを見出した(図3を参照のこと)。この脱水モノエステルの形成は、幾つかの問題を与える。第1に、収率損失の問題が存在し、これはある単位の生成物を製造するために、より多くの反応物質を使用することを必要にする。第2に、分離の問題が、脱水モノエステルを生成物から、これを販売できる前に分離することを必要にする。第3に、脱水モノエステルの形成速度が、主反応よりも温度に対して敏感であることを更に見出した。よって、反応速度を増大させるための鍵となる変数の1つを、分解収率損失を最小化するために中程度としなければならなかった。本発明はこれらの問題を解決しようとするものである。
発明の要約
本発明は、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエートの製造方法であって:
2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールグリコールと2−エチルヘキサン酸とを反応させて2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエートを形成することを含み、
水濃度を約0.1質量%以上に維持する、方法を対象とする。
図1は、エステル化反応(これにより2モルの2−エチルヘキサン酸が1モルのTMPDジ−2−エチルヘキサノエートと反応して1モルのジエステル(TMPDジ−2−エチルヘキサノエート)および2モルの水を形成する)を示す。 図2は、モノエステル2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール−2−エチルヘキサノエートを示す。 図3は、脱水モノエステル2,2,4−トリメチルペント−3−エニル−2−エチルヘキサノエートを示す。
詳細な説明
本発明は、反応の水含有量を制御することを含む2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエートの製造方法に関する。更に、本発明は、2−エチルヘキサン酸とTMPDジ−エチルヘキサノエートとのエステル化に関連する問題を、反応器内の水含有濃度を約0.10質量%〜約0.50質量%の間に維持することによって解決しようとするものである。本発明の詳細な態様は、この生成物が極めて良好な全体収率および優れたカーボン効率および最小限の不所望副生成物で製造されることを可能にする。
一態様において、本発明は、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール(TMPD)を過剰の2−エチルヘキサン酸と、初期不活性ガススパージ(例えば乾燥窒素)で初期に反応の水を追い出して、反応させる方法に関する。水を除去する(例えば低沸点溶媒で水をストリッピングするか、または分画カラムを用いる)他の機構を用いることができる。TMPD当量当たり2当量である理論上の最小値を超える過剰の2−エチルヘキサン酸の量は、約5モル%〜約200モル%の範囲である。スパージガス流量は、反応物質体積1リットル当たり約0cc/分〜約400cc/分、1リットル当たり約10cc/分〜約200cc/分、または更に1リットル当たり約25cc/分〜約100cc/分に維持する。典型的には、窒素パージは、初期反応時間の間、蓄積する水を除去するために、より高いが、後には水生成がテールオフするに従って遅くなり、脱水を抑えるのに必要な最小量に近づく。反応の後期段階では、反応混合物中の適切な水濃度を維持するためにスパージを中止できる。
所望の反応温度は、約195℃〜約250℃、約220℃〜約245℃、または約230℃〜約240℃の範囲である。より高い反応温度を用いるに従って、反応速度、および従って生産性を増大させることができる。更に、より高い温度を用いるに従って、最適レベルの水を維持するために、より高い圧力およびより低い窒素パージ量を用いることができる。反応媒体中の水濃度を、約0.10質量%〜約0.50質量%の範囲に維持することは、不飽和モノエステル2,2,4−トリエチルペント−3−エニル−2−エチルヘキサノエートの形成を招来する不所望の脱水反応の最小化を可能にする。水濃度はまた、約0.10質量%〜約0.40質量%の範囲、または約0.20質量%〜約0.30質量%の範囲に維持できる。反応は、目的濃度の所望の2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエート(TMPDジ−2−エチルヘキサノエート)が生成するまで継続させる。不飽和モノエステルの生成は十分低く、中間体モノエステルのTMPDは、蒸留によって単離し、そしてプロセスの次のサイクルに戻す。プロセスは、バッチ式または連続式のいずれかで実施できる。連続式においては、段階分けした一連の反応器が、ジエステル生成物へのより完全な転化のために望ましい。プロセスは、雰囲気圧力または減圧にて操作できる。
上記のプロセスは、圧力約200Torr〜約760Torr、約300Torr〜約600Torr、または更に約400Torr〜約500Torrで操作できる。圧力は、水含有量が上記の最大に近い場合に、残りの水の更なる蒸発を抑えるために、増大できる。異なる圧力での操作は、反応の観点で、水の除去を助けること以外には何らの特有な利点も有さない。本発明の態様に従い、プロセスは約5.0時間〜約17時間、約7.0時間〜約14時間、または更に約9.0〜約11.0時間反応させることができる。高い転化レベル,例えば90%、95%または更に98%以上のTMPDに到達させるために、反応時間は、操作の温度、圧力、およびパージ量に従って変動させる。典型的には、反応は追加の溶媒なしで行う。しかし、所望であれば、任意の低粘度不活性溶媒を系に加えることができる。

本発明は、以下に与える具体例によってより詳細に更に説明できる。これらの例は例示の態様であり、発明の限定を意図しないが、特許請求の範囲の範囲および事項の範囲内で広く解釈すべきであることを理解すべきである。例における全ての部およびパーセントは、特記がない限り質量%基準である。例1における説明は、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエート(TMPDジ−2−エチルヘキサノエート)を、TMPDグリコールと2−エチルヘキサン酸との反応によってどのように製造するかの典型的なバッチ手順を与える。例1において、270mmHgの減圧下での操作により、および系を通じて高いスパージ量の窒素(200cc/分)を有することにより、系から可能な限り多くの水を取り除くための測定を行う。例2および3において、同様の手順に従うが、圧力および窒素スパージの量を変えた。条件の要約を、典型的な実験中の反応器内の水濃度の範囲および各実験の終了時に形成された脱水モノエステルの量とともに表1に与える。
Figure 2012512154
例1および2における水含有量は、両実験の同様の条件を反映して殆ど同一である。各実験の終了時での脱水モノエステルの濃度は、それぞれ0.77質量%および2.01質量%であった。例3におけるより高い圧力およびより低い窒素スパージ量に対応して、溶液中の水含有量は例1または2のいずれよりも高い。例3において形成される脱水モノエステルの量はまた、例1および2におけるよりも大幅に低い。モノ−およびジ−エステルの濃度の範囲の小さい差異を、これらの実験の間で見ることができ、これは各実験が従った温度プロファイル(特に各実験の初期2時間の間)によって説明される。
表2において、例4〜8による条件および幾つかの結果を纏める。全ての実験は、雰囲気圧力下で行った。例3において、窒素スパージ量50cc/分を用いてこの圧力で十分な水を系から除去できることが分かったからである。表2における唯一の例外は、例4であり、これはスパージ量200cc/分を有した。例7および8において、窒素スパージは、それぞれ2時間後および1時間後に、水含有量が0.15質量%未満であったことが分かったため停止した。例6(8.42時間)を除き、表2中の全ての例は、表1中に示す例よりも大幅に長い滞留を有した。表2には、各実験の終了時のモノエステルおよびジエステルの濃度も示す。
Figure 2012512154
例4において、18.58時間後、脱水モノエステル量は0.25質量%であった。この例における平均の水含有量は0.24%であった。例5において、17.50時間後、脱水モノエステル量は0.38質量%であった。この例における平均の水含有量は0.21%であった。例4および5による結果は、反応時間が大幅に長く平均温度が高くても、例1および2におけるデータと極めて有利に比較される。
例7は、225.74℃で17.53時間の操作(平均の水濃度0.23%を有する)で、脱水モノエステル濃度は濃度1.36質量%に到達したことを示す。繰り返すが、これは例1および2によるデータと極めて有利に比較される。
一般的に、表2における結果は、脱水モノエステルの形成量が温度の関数であるが、これは、水を濃度0.10%超に維持することが、表1中のデータと比べたときの脱水モノエステルの形成量を顕著に抑えることができることを示す。
例1
3.8リットルのジャケット付容器に、424グラムの2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール(TMPDグリコール)を充填し、そして名目温度150℃まで加熱した。TMPDグリコールが溶融し始めた時点で、撹拌器のスイッチを入れて速度を400rpmにした。別の容器内で、1674グラムの2−エチルヘキサン酸(2−EH)を加熱した。2−EHの温度が175℃に到達した時点で、これを、明澄溶液を形成するTMPDグリコールに添加した。これが200℃に到達するまで溶液を加熱した。容器内容物の温度は、容器ジャケット内の流体の温度を操ることによって制御した。小さいパイプを介して窒素のスパージを確立し、これは200cc/分の窒素をインペラ下の容器の底部に放出した。容器の圧力を270mmHgに低減して容器からの水の除去を補助した。容器と減圧ポンプとの間のライン内に位置するコンデンサが、ガス中の任意の蒸気を凝縮して受入れ容器内に回収した。ここでこれは水性および水の層に分離した(水性および水の層は同じものである)。この説明は、水性層および有機層または水層および有機層のいずれかに理解すべきである。)。主に2−EHを含む有機層を、容器に戻し、一方水層を系から除去した。実験中、溶液のサンプルを不連続間隔で採取して反応の進行を監視した。この実験の結果を表3に示す。
Figure 2012512154
例2
3.8リットルのジャケット付容器に、424グラムの2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール(TMPDグリコール)を充填して、名目温度150℃に加熱した。TMPDグリコールが溶融し始めた時点で、撹拌器のスイッチを入れて速度を400rpmにした。別の容器内で、1674グラムの2−エチルヘキサン酸(2−EH)を加熱した。2−EHの温度が175℃に到達した時点で、これを、明澄溶液を形成するTMPDグリコールに添加した。これが200℃に到達するまで溶液を加熱した。容器内容物の温度は、容器ジャケット内の流体の温度を操ることによって制御した。小さいパイプを介して窒素のスパージを確立し、これは200cc/分の窒素をインペラ下の容器の底部に放出した。容器の圧力を300mmHgに低減して容器からの水の除去を補助した。容器と減圧ポンプとの間のライン内に位置するコンデンサが、ガス中の任意の蒸気を凝縮して受入れ容器内に回収した。ここでこれは水性および水の層に分離した。主に2−EHを含む有機層を、容器に戻し、一方水層を系から除去した。実験中、溶液のサンプルを不連続間隔で採取して反応の進行を監視した。この実験の結果を表4に示す。
Figure 2012512154
Figure 2012512154
例3
3.8リットルのジャケット付容器に、424グラムの2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール(TMPDグリコール)を充填して、名目温度150℃に加熱した。TMPDグリコールが溶融し始めた時点で、撹拌器のスイッチを入れて速度を400rpmにした。別の容器内で、1674グラムの2−エチルヘキサン酸(2−EH)を加熱した。2−EHの温度が175℃に到達した時点で、これを、明澄溶液を形成するTMPDグリコールに添加した。これが200℃に到達するまで溶液を加熱した。容器内容物の温度は、容器ジャケット内の流体の温度を操ることによって制御した。小さいパイプを介して窒素のスパージを確立し、これは50cc/分の窒素をインペラ下の容器の底部に放出した。容器の圧力は大気圧(760mmHg)であった。容器と減圧ポンプとの間のライン内に位置するコンデンサが、ガス中の任意の蒸気を凝縮して受入れ容器内に回収した。ここでこれは水性および水の層に分離した。主に2−EHを含む有機層を、容器に戻し、一方水層を系から除去した。実験中、溶液のサンプルを不連続間隔で採取して反応の進行を監視した。この実験の結果を表5に示す。
Figure 2012512154
Figure 2012512154
例4
3.8リットルのジャケット付容器に、424グラムの2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール(TMPDグリコール)を充填して、名目温度150℃に加熱した。TMPDグリコールが溶融し始めた時点で、撹拌器のスイッチを入れて速度を400rpmにした。別の容器内で、1674グラムの2−エチルヘキサン酸(2−EH)を加熱した。2−EHの温度が175℃に到達した時点で、これを、明澄溶液を形成するTMPDグリコールに添加した。これが200℃に到達するまで溶液を加熱した。容器内容物の温度は、容器ジャケット内の流体の温度を操ることによって制御した。小さいパイプを介して窒素のスパージを確立し、これは200cc/分の窒素をインペラ下の容器の底部に放出した。容器の圧力は大気圧(760mmHg)であった。容器と減圧ポンプとの間のライン内に位置するコンデンサが、ガス中の任意の蒸気を凝縮して受入れ容器内に回収した。ここでこれは水性および水の層に分離した。主に2−EHを含む有機層を、容器に戻し、一方水層を系から除去した。実験中、溶液のサンプルを不連続間隔で採取して反応の進行を監視した。この実験の結果を表6に示す。
Figure 2012512154
Figure 2012512154
Figure 2012512154
Figure 2012512154
例5
3.8リットルのジャケット付容器に、424グラムの2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール(TMPDグリコール)を充填して、名目温度150℃に加熱した。TMPDグリコールが溶融し始めた時点で、撹拌器のスイッチを入れて速度を400rpmにした。別の容器内で、1674グラムの2−エチルヘキサン酸(2−EH)を加熱した。2−EHの温度が175℃に到達した時点で、これを、明澄溶液を形成するTMPDグリコールに添加した。これが210℃に到達するまで溶液を加熱した。容器内容物の温度は、容器ジャケット内の流体の温度を操ることによって制御した。小さいパイプを介して窒素のスパージを確立し、これは50cc/分の窒素をインペラ下の容器の底部に放出した。容器の圧力は大気圧(760mmHg)であった。容器と減圧ポンプとの間のラインに位置するコンデンサが、ガス中の任意の蒸気を凝縮して受入れ容器内に回収した。ここでこれは水性および水の層に分離した。主に2−EHを含む有機層を、容器に戻し、一方水層を系から除去した。実験中、溶液のサンプルを不連続間隔で採取して反応の進行を監視した。この実験の結果を表7に示す。
Figure 2012512154
Figure 2012512154
Figure 2012512154
Figure 2012512154
例6
3.8リットルのジャケット付容器に、424グラムの2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール(TMPDグリコール)を充填して、名目温度150℃に加熱した。TMPDグリコールが溶融し始めた時点で、撹拌器のスイッチを入れて速度を400rpmにした。別の容器内で、1674グラムの2−エチルヘキサン酸(2−EH)を加熱した。2−EHの温度が175℃に到達した時点で、これを、明澄溶液を形成するTMPDグリコールに添加した。これが220℃に到達するまで溶液を加熱した。容器内容物の温度は、容器ジャケット内の流体の温度を操ることによって制御した。小さいパイプを介して窒素のスパージを確立し、これは50cc/分の窒素をインペラ下の容器の底部に放出した。容器の圧力は大気圧(760mmHg)であった。容器と減圧ポンプとの間のライン内に位置するコンデンサが、ガス中の任意の蒸気を凝縮して受入れ容器内に回収した。ここでこれは水性および水の層に分離した。主に2−EHを含む有機層を、容器に戻し、一方水層を系から除去した。実験中、溶液のサンプルを不連続間隔で採取して反応の進行を監視した。この実験の結果を表8に示す。
Figure 2012512154
Figure 2012512154
例7
3.8リットルのジャケット付容器に、424グラムの2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール(TMPDグリコール)を充填して、名目温度150℃に加熱した。TMPDグリコールが溶融し始めた時点で、撹拌器のスイッチを入れて速度を400rpmにした。別の容器内で、1674グラムの2−エチルヘキサン酸(2−EH)を加熱した。2−EHの温度が175℃に到達した時点で、これを、明澄溶液を形成するTMPDグリコールに添加した。これが230℃に到達するまで溶液を加熱した。容器内容物の温度は、容器ジャケット内の流体の温度を操ることによって制御した。小さいパイプを介して窒素のスパージを確立し、これは50cc/分の窒素をインペラ下の容器の底部に放出した。窒素パージを操作の2時間後に打ち切った。容器の圧力は大気圧(760mmHg)であった。容器と減圧ポンプとの間のラインに位置するコンデンサが、ガス中の任意の蒸気を凝縮して受入れ容器内に回収した。ここでこれは水性および水の層に分離した。主に2−EHを含む有機層を、容器に戻し、一方水層を系から除去した。実験中、溶液のサンプルを不連続間隔で採取して反応の進行を監視した。この実験の結果を表9に示す。
Figure 2012512154
Figure 2012512154
Figure 2012512154
例8
3.8リットルのジャケット付容器に、424グラムの2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール(TMPDグリコール)を充填して、名目温度150℃に加熱した。TMPDグリコールが溶融し始めた時点で、撹拌器のスイッチを入れて速度を400rpmにした。別の容器内で、1674グラムの2−エチルヘキサン酸(2−EH)を加熱した。2−EHの温度が175℃に到達した時点で、これを、明澄溶液を形成するTMPDグリコールに添加した。これが240℃に到達するまで溶液を加熱した。容器内容物の温度は、容器ジャケット内の流体の温度を操ることによって制御した。小さいパイプを介して窒素のスパージを確立し、これは50cc/分の窒素をインペラ下の容器の底部に放出した。窒素パージを操作の1時間後に打ち切った。容器の圧力は大気圧(760mmHg)であった。容器と減圧ポンプとの間のラインに位置するコンデンサが、ガス中の任意の蒸気を凝縮して受入れ容器内に回収した。ここでこれは水性および水の層に分離した。主に2−EHを含む有機層を、容器に戻し、一方水層を系から除去した。実験中、溶液のサンプルを不連続間隔で採取して反応の進行を監視した。この実験の結果を表10に示す。
Figure 2012512154
Figure 2012512154
Figure 2012512154
本発明を詳細に説明してきたが、本明細書に開示および説明される本発明の範囲および精神から逸脱することなく本発明の種々の側面に改変をなすことができることを当業者は理解するであろう。従って、本発明の範囲は、例示および説明される具体的な態様に限定されることを意図せず、本発明の範囲は特許請求の範囲およびその均等のものによって決定されることを意図する。
例1
3.8リットルのジャケット付容器に、424グラムの2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール(TMPDグリコール)を充填し、そして名目温度150℃まで加熱した。TMPDグリコールが溶融し始めた時点で、撹拌器のスイッチを入れて速度を400rpmにした。別の容器内で、1674グラムの2−エチルヘキサン酸(2−EH)を加熱した。2−EHの温度が175℃に到達した時点で、これを、明澄溶液を形成するTMPDグリコールに添加した。これが200℃に到達するまで溶液を加熱した。容器内容物の温度は、容器ジャケット内の流体の温度を操ることによって制御した。小さいパイプを介して窒素のスパージを確立し、これは200cc/分の窒素をインペラ下の容器の底部に放出した。容器の圧力を270mmHgに低減して容器からの水の除去を補助した。容器と減圧ポンプとの間のライン内に位置するコンデンサが、ガス中の任意の蒸気を凝縮して受入れ容器内に回収した。ここでこれは水性および有機層に分離した。主に2−EHを含む有機層を、容器に戻し、一方水層を系から除去した。実験中、溶液のサンプルを不連続間隔で採取して反応の進行を監視した。この実験の結果を表3に示す。
本発明を詳細に説明してきたが、本明細書に開示および説明される本発明の範囲および精神から逸脱することなく本発明の種々の側面に改変をなすことができることを当業者は理解するであろう。従って、本発明の範囲は、例示および説明される具体的な態様に限定されることを意図せず、本発明の範囲は特許請求の範囲およびその均等のものによって決定されることを意図する。
本発明は以下の態様を有する。
[1] 2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエートの製造方法であって:
2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールグリコールと2−エチルヘキサン酸とを反応させて2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエートを形成して2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエートを生成することを含み、
水濃度を約0.1質量%以上に維持する、方法。
[2] 水濃度を約0.10質量%〜約0.40質量%に維持する、上記[1]に記載の方法。
[3] 水濃度を約0.20質量%〜約0.30質量%に維持する、上記[2]に記載の方法。
[4] 水濃度を不活性スパージガスによって維持する、上記[1]に記載の方法。
[5] スパージガスが窒素である、上記[4]に記載の方法。
[6] スパージガス流量を、反応物質体積1リットル当たり約0cc/分〜約400cc/分の量で維持する、上記[4]に記載の方法。
[7] スパージガス流量を、1リットル当たり約10cc/分〜約200cc/分の量で維持する、上記[6]に記載の方法。
[8] スパージガス流量を、1リットル当たり約25cc/分〜約100cc/分の量で維持する、上記[7]に記載の方法。
[9] 該反応が温度約195℃〜約250℃である、上記[1]に記載の方法。
[10] 該温度が約220℃〜約245℃である、上記[9]に記載の方法。
[11] 該温度が約230℃〜約240℃である、上記[10]に記載の方法。
[12] 該反応が圧力約200Torr〜約760Torrである、上記[1]に記載の方法。
[13] 該反応が圧力約300Torr〜約600Torrである、上記[12]に記載の方法。
[14] 該反応が圧力約400Torr〜約500Torrである、上記[13]に記載の方法。
[15] バッチ法または連続式法である、上記[1]に記載の方法。

Claims (15)

  1. 2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエートの製造方法であって:
    2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールグリコールと2−エチルヘキサン酸とを反応させて2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエートを形成して2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ−2−エチルヘキサノエートを生成することを含み、
    水濃度を約0.1質量%以上に維持する、方法。
  2. 水濃度を約0.10質量%〜約0.40質量%に維持する、請求項1に記載の方法。
  3. 水濃度を約0.20質量%〜約0.30質量%に維持する、請求項2に記載の方法。
  4. 水濃度を不活性スパージガスによって維持する、請求項1に記載の方法。
  5. スパージガスが窒素である、請求項4に記載の方法。
  6. スパージガス流量を、反応物質体積1リットル当たり約0cc/分〜約400cc/分の量で維持する、請求項4に記載の方法。
  7. スパージガス流量を、1リットル当たり約10cc/分〜約200cc/分の量で維持する、請求項6に記載の方法。
  8. スパージガス流量を、1リットル当たり約25cc/分〜約100cc/分の量で維持する、請求項7に記載の方法。
  9. 該反応が温度約195℃〜約250℃である、請求項1に記載の方法。
  10. 該温度が約220℃〜約245℃である、請求項9に記載の方法。
  11. 該温度が約230℃〜約240℃である、請求項10に記載の方法。
  12. 該反応が圧力約200Torr〜約760Torrである、請求項1に記載の方法。
  13. 該反応が圧力約300Torr〜約600Torrである、請求項12に記載の方法。
  14. 該反応が圧力約400Torr〜約500Torrである、請求項13に記載の方法。
  15. バッチ法または連続式法である、請求項1に記載の方法。
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