JP2012503538A - 洗浄用表面構造 - Google Patents

Abstract

改良された接触洗浄用表面構造および表面を洗浄するための改良された方法が記載されている。特に、汚染された表面から微視的大きさの汚染物質を捕集および／または除去するよう構成された微構造表面を備える接触洗浄用表面構造が記載されている。

Description

本発明は、改良された接触洗浄用表面構造および改良された表面を洗浄するための方法に関するものである。特に、本発明は、汚染された表面から微視的な大きさの汚染物質を捕集および／または除去するのに適合された微細構造の表面を備える接触洗浄用表面構造に関するものである。

それらの機能、特に、それらの光学的特性を増進させるために、繊維状物にナノ粒子を含むコーティングを適用する傾向が増加している。これらのコーティングは非常に薄く、それ自体は繊維状物の表面上での微細粒子の汚染によって発生する欠陥の影響を大変受けやすい。影響を受けやすい繊維状物の表面からそのような小さい粒子を除去する唯一の効果的な方法は、接触洗浄技術の使用の中にある。しかしながら、この技術は洗浄ローラーによる繊維状物の表面との接触を含むため、ローラーと非常に薄いコーティング層の品質上有害な影響を有する基板との間の界面反応がある。そのため、接触洗浄技術において、界面反応を軽減し、一方、サブミクロンのレベルまでの粒子を除去する必要性が高まっている。

特に、プラスチック製電子機器、太陽光発電およびフラットパネルディスプレイに対する市場の拡大は、より薄く、より両立性があり、欠陥のないコーティングへの厳しい要求によって、繊維状物へのコーティング業を現在のコーティング技術の限界へ突進させている。この品質のレベルは、歩留まりに影響を与え、そのため、コーティングを行う企業にコストの増加を強いている。

接着ロールを用いた接触洗浄は、一般に、電子部品の製造において基板表面を洗浄するために使用される。例えば、特許文献１、特許文献２および特許文献３にそれぞれ開示された技術を参照することができる。しかしながら、現存するシステムは、約１０ｎｍから約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）の範囲のような小さい粒子を効果的に除去することができない。

例えば、空気中に浮遊するダスト粒子を捕捉するための空気濾過を使用して、表面の汚染を最小限にする予防策がとられているが、洗浄すべき基板表面に対する影響や洗浄すべき基板表面の崩壊を避ける方法で、表面を洗浄できることが望ましく、簡単に実行できることが好ましい。

国際公開公報ＷＯ９９／２４１７８号 国際公開公報ＷＯ２００７／０３４２４４号 国際公開公報ＷＯ２００８／０４１０００号

本発明の少なくとも１つの実施態様の目的は、上述した問題点の少なくとも１つ以上を取り除くか軽減することである。

本発明の少なくとも１つの実施態様の他の目的は、汚染された表面の改良された洗浄を提供することができる接触洗浄用表面構造を提供することである。

本発明の少なくとも１つの実施態様の他の目的は、汚染された表面から微視的大きさの汚染物質を捕集および／または除去することができる接触洗浄用表面構造を提供することである。

本発明の少なくとも１つの実施態様のさらに他の目的は、汚染された表面の改良された洗浄を提供することができる接触洗浄方法を提供することである。

本発明の少なくとも１つの実施態様のさらに他の目的は、汚染された表面から微視的大きさの汚染物質を捕集および／または除去することができる接触洗浄方法を提供することである。

本発明の第１の実施形態に係る接触洗浄用表面構造は、洗浄用表面を備え、
洗浄用表面の少なくとも一部が微視的に粗面となっており、微視的な粗面が、汚染された面から小さい汚染粒子の捕集および／または除去の増進を可能にすることを特徴とするものである。

接触洗浄用表面構造は、そのため、微視的大きさの粒子で汚染された表面を洗浄するために使用することができる。特に、本発明で規定する接触洗浄用表面構造は、プラスチック製電子機器、太陽光発電およびフラットパネルディスプレイのような電子部品を形成することを意図する洗浄用表面構造として大変実用的であることを見出した。

本発明は、そのため、それらの機能、特に、それらの光学的特性を増進させるために、繊維状物にナノ粒子を含むコーティングを適用する増加する傾向に有効に適用することができる。

通常は、洗浄用表面の全体または実質的に全体が微視的に粗面となっており、汚染粒子の捕集および／または除去の効率を増加させる。

微視的に粗面とされた洗浄用表面が、洗浄用表面および汚染を起こす小さい粒子との間の接触表面積を増加および／または最大とする。この構成が、汚染した粒子の捕集および／または除去を驚くべきほど増加させることを見出した。理論に縛られることを望むわけではないが、この改良は、増加した接触表面積による接触洗浄用表面構造と汚染した粒子との間のファン・デル・ワールス力の増加によるものと思われる。先行技術で現在使用されている完全に滑らかな表面構造と比べて、ファン・デル・ワールス力の増加は少なくとも約５０％のオーダーの増加となる。

接触表面積を増加するために、例えば小さい汚染粒子を捕捉および／または除去するために使用される表面上の小さいくぼみを与える目的で、洗浄用表面はそのために粗面とされる。微視的粗面は、そのため、例えば任意または一定のパターンで複数のそのようなくぼみを備える。ここでくぼみとは、穴、Ｖ字型の切り込み、溝、切り込み、凹部、へこみ、ディップ、刻み目および／またはピットのいずれかのタイプを意味する。

くぼみの形状および／または大きさは実質的に均一または実質的に不均一である。くぼみの形状および／または大きさが実質的に不均一な実施例において、くぼみの形状および／または大きさは、そのため、その形状および／または大きさの範囲が広がり、それによって、汚染粒子の異なる大きさの範囲にわたって、汚染粒子の捕集および／または除去の増進を可能にする洗浄用表面構造を提供する。

微視的に粗面とされた洗浄用表面構造は、そのため、小さい汚染された粒子を捕集および／または除去を改良および／または最大化するよう構成された複数の小さいくぼみを備える。

洗浄用表面は、好適な機械的および／または化学的技術を使用して、微視的粗面とされている。例えば、好適な機械手段、成形手段、および／または、レーザ構造化手段のいずれをも、洗浄用表面を微視的に粗面とするために使用できる。

微視的に粗面とされた表面は、そのため、微視的大きさの断面直径および深さを有する一連のあるいは複数のくぼみを備えている。くぼみの形状は汚染粒子の形状と一致するように特別に設計されていると大変好ましい。これは、汚染粒子がくぼみにひったりとはめ込まれ、そのため、汚染粒子が汚染された表面から除去されることを意味する。汚染粒子は、そのため、洗浄プロセス中くぼみ内にとどまりおよび／または付着される。本発明は、そのため、洗浄用表面と汚染粒子との間の付着力を増加する方法として考えることができ、そのような付着力は、汚染粒子とそれらが初めに付着した汚染した表面との間の力より大きくなる。

例えば、微視的粗面は：約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）未満；約５μｍ（５，０００ｎｍ）未満；約１μｍ（１，０００ｎｍ）未満；約０．１μｍ（１００ｎｍ）未満；約０．０１μｍ（１０ｎｍ）未満；または約０．００５μｍ（５ｎｍ）未満；のいずれかの範囲あるいはいずれかを組み合わせた範囲に存在する断面の直径および／または深さを有するくぼみを備えることができる。あるいは、微視的粗面は：約１ｎｍから約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約１μｍ（１，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約０．１μｍ（１００ｎｍ）；または約１ｎｍから約０．０１μｍ（１０ｎｍ）；のいずれかの範囲あるいはいずれかを組み合わせた範囲に存在する断面の直径および／または深さを有するくぼみを備えることができる。上述したように、微視的粗面は、異なる大きさの汚染粒子を捕集および／または除去できるように、異なる断面直径および／または深さの組合せを有するくぼみを備えている。断面直径とは、くぼみによって形成される最大直径を意味する。深さとは、くぼみの底部と洗浄用表面の頂部との間の垂直距離を意味する。

特定の実施例において、接触洗浄用表面のｃｍ^２当たり、約１０から約１００，０００個のくぼみ、約１００から約１０，０００個のくぼみ、あるいは、約１００から約１０，０００個のくぼみである。

捕集される小さい汚染粒子は、くぼみの形状および／または大きさと実質的に一致しており、そのため、約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）未満；約５μｍ（５，０００ｎｍ）未満；約１μｍ（１，０００ｎｍ）未満；約０．１μｍ（１００ｎｍ）未満；約０．０１μｍ（１０ｎｍ）未満；または約０．００５μｍ（５ｎｍ）未満；のいずれかの範囲あるいはいずれかを組み合わせた範囲に存在する断面直径を有することができる。あるいは、捕集される小さい粒子は、約１ｎｍから約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約１μｍ（１，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約０．１μｍ（１００ｎｍ）；または約１ｎｍから約０．０１μｍ（１０ｎｍ）；のいずれかの範囲あるいはいずれかを組み合わせた範囲に存在する断面直径を有することができる。

好都合なことに、くぼみは、汚染粒子の量の約２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％または８０％がくぼみによって形成された溝中にはめ込み可能な大きさおよび形状を有する。これは、汚染粒子の表面積の約２０％、３０％、４０％、５０％、６０％７０％または８０％が洗浄用表面上のくぼみの表面と接触することが可能であることを意味する。

洗浄用表面は、また、汚染粒子の捕集および／または除去を助けるために、電気的に帯電させることができる。

洗浄用表面はいかなる好適な物質からも形成することができる。例えば、洗浄用表面が、エラストマー材料から成るか、あるいは、エラストマー材料を備えることができる。

特定の実施例において、洗浄用表面を、洗浄すべき表面に対し、回転および／または押し付けが可能なローラーまたは実質的に円筒形状のローラーの形にすることができる。

洗浄用表面は、そのため、好適な手段を使用して、表面に対し接触した位置に位置決めされおよび／または押し付けられる。

本発明の第２の実施形態に係る小さい粒子で汚染された表面の洗浄方法は：
汚染された表面からの小さい汚染粒子の捕集および／または除去を増進するため、微視的粗面とした洗浄用表面を準備し；
汚染された表面に対し、洗浄用表面を接触させ、および／または、押し付け；
汚染された表面に対し洗浄用表面を接触させ、および／または、押し付けることで、汚染された表面上の小さい微視的汚染粒子の少なくとも一部あるいは実質的に全部が、捕集および／または除去される；工程を備える。

通常は、洗浄用表面の全体または実質的全体が微視的に粗面となっており、汚染粒子の除去の効率を増進させる。

例えば、微視的粗面は：約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）未満；約５μｍ（５，０００ｎｍ）未満；約１μｍ（１，０００ｎｍ）未満；約０．１μｍ（１００ｎｍ）未満；約０．０１μｍ（１０ｎｍ）未満；または約０．００５μｍ（５ｎｍ）未満；のいずれかの範囲あるいはいずれかを組み合わせた範囲に存在する断面の直径および／または深さを有するくぼみを備えることができる。あるいは、微視的粗面は：約１ｎｍから約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約１μｍ（１，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約０．１μｍ（１００ｎｍ）；または約１ｎｍから約０．０１μｍ（１０ｎｍ）；のいずれかの範囲あるいはいずれかを組み合わせた範囲に存在する断面の直径および／または深さを有するくぼみを備えることができる。上述したように、微視的粗面は、異なる大きさの汚染粒子の捕集または除去を許容する異なる断面の直径および／または深さの組合せを有するくぼみを備えることができる。

捕集される小さい汚染粒子は、くぼみの形状および／または大きさと実質的に対応しており、そのため、約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）未満；約５μｍ（５，０００ｎｍ）未満；約１μｍ（１，０００ｎｍ）未満；約０．１μｍ（１００ｎｍ）未満；約０．０１μｍ（１０ｎｍ）未満；または約０．００５μｍ（５ｎｍ）未満；のいずれかの範囲あるいはいずれかを組み合わせた範囲に存在する断面直径を有することができる。あるいは、捕集される小さい粒子は、約１ｎｍから約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約１μｍ（１，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約０．１μｍ（１００ｎｍ）；または約１ｎｍから約０．０１μｍ（１０ｎｍ）；のいずれかの範囲あるいはいずれかを組み合わせた範囲に存在する断面直径を有することができる。

通常、洗浄用表面は、約０．１ｃｍ／ｓから約５ｃｍ／ｓの速度で小さい粒子で汚染された表面に対し回転している。

洗浄用表面構造としては、そのため、第１の実施態様で規定したものを用いることができる。

本発明の第３の実施形態に係る汚染された表面を洗浄するための表面洗浄装置は：
汚染された表面から汚染した小さい粒子を除去することができる、回転可能に搭載された表面洗浄ローラーと；
回転可能に搭載された表面洗浄ローラー上に捕集された汚染した小さい粒子を除去することができる、回転可能に搭載された接着ローラーと；
回転可能に搭載された表面洗浄ローラーに対し、小さい粒子で汚染された表面を押し付けることができる手段と；を備え、
回転可能に搭載された表面洗浄ローラーの表面の少なくとも一部が微視的粗面とされており、微視的粗面が汚染された表面からの小さい微視的汚染粒子の捕集および／または除去を増進する。

通常、回転可能に搭載された表面洗浄用ローラーに対し、小さい粒子で汚染された表面を押し付ける手段を、回転可能に搭載された接着ローラーに実質的に対向して搭載することができる。

電動手段を、回転可能に搭載された表面洗浄ローラーおよび回転可能に搭載された接着ローラーを駆動するために設けることができる。

回転可能に搭載された表面洗浄ローラーおよび回転可能に搭載された接着ローラーを、互いに反対方向に回転させることができる。

ある実施例における装置は、洗浄される基板の両側に、一対の回転可能に搭載された表面洗浄ローラーおよび回転可能に搭載された接着ローラーを備えることができる。

回転可能に搭載された接着ローラーは少なくとも１つあるいは複数の接着シートを備えることができ、接着シートが汚染物質で飽和したとき、あるいは、接着シートの能力が低下したとき、接着シートは剥がされて除去される。回転可能に搭載された接着ローラーは、そのため、予めシート化された接着ロールの形をとることができる。

回転可能に搭載された洗浄ローラーは、そのため、第１の実施態様で規定しているような洗浄用表面構造を備えることができる。

装置は、プラスチック製電子機器、太陽光発電およびフラットパネルディスプレイを含む電子部品の製造に用いることができる。

本発明の第４の実施形態に係る汚染された表面を洗浄するための方法は：
汚染された表面から汚染された小さい粒子を除去可能な、回転可能に搭載された表面洗浄ローラーを準備する工程と；
回転可能に搭載された表面洗浄ローラー上に捕集された汚染された小さい粒子を除去可能な、回転可能に搭載された接着ローラーを準備する工程と；
回転可能に搭載された表面洗浄ローラーに対し、小さい粒子で汚染された表面を押し付けることが可能な手段を準備する工程と；を備え、
回転可能に搭載された表面洗浄ローラーの表面の少なくとも一部が微視的粗面とされており、微視的粗面が汚染された表面からの小さい微視的汚染粒子の捕集および／または除去を増進できる。

回転可能に搭載された表面洗浄ローラーは、そのため、第１の実施形態で規定しているような洗浄用表面構造を備えることができる。

図１は本発明の実施例に係る洗浄用表面上の汚染粒子を示している。 図２は先行技術に係る洗浄用表面上の汚染粒子を示している。 図３は他の洗浄用表面上の汚染粒子を示しており、ここでは、汚染粒子が洗浄用表面上のくぼみにはまりこむには大きすぎる例を示している。 図４は本発明の他の実施例に係る表面洗浄装置を示している。

図１は本発明に係る接触洗浄用表面構造１０を示している。図１に示すように、汚染粒子１２は、接触洗浄用表面構造１０上のくぼみ１４にぴったりとはめ込まれその中にとどまっている。くぼみ１４が汚染粒子１２と実質的に近似した大きさおよび形状を有している（言い換えると、それらは実質的に一致している）ことがわかる。そのため、くぼみ１４と汚染粒子１２との間に大きな接触している表面領域が存在する。くぼみ１４は、約５μｍ（５．０００ｎｍ）未満の断面直径および深さを有している。これが汚染された表面から汚染粒子１２の捕集および／または除去を増加していることを見い出した。理論に縛られることを望むわけではないが、この改良は、増加した接触表面積による接触洗浄用表面構造１０と汚染粒子１２との間のファン・デル・ワールス力の増加によるものと思われる。

図２は先行技術を示している。図２の接触洗浄用表面構造２０は、実質的に滑らかな凸構造である。これは、汚染粒子２２と接触洗浄用表面構造２０との間の接触領域を減少させる効果がある。接触洗浄用表面構造２０は、そのため最小限の接触領域となり、汚染粒子２２に向かって比較的小さいファン・デル・ワールス力を有している。接触洗浄用表面構造２０は、そのため、汚染された表面から汚染粒子２２を除去する際効率的でない。

図３は汚染粒子３２がくぼみ３４内にはまり込むには大きすぎる例を示している。そのため、接触洗浄用表面構造３０と汚染粒子３２との間のファン・デル・ワールス力が減少し、接触洗浄用表面構造３０が、汚染された表面から汚染粒子３２を効率的に除去できないことを意味する。

図４は、全体を参照数字１００で表した、本発明に係る表面洗浄装置を示している。図４に示すように、表面洗浄装置１００は、接触洗浄ローラー１１２および接着洗浄ローラー１１４を備えている。接触洗浄ローラー１１２は、基板１１０から汚染物質を捕集および除去する。押し付け手段（図示せず）は、接触洗浄ローラー１１２に対し基板１１０を押し付ける。接触洗浄ローラー１１２は、本発明で規定する粗面を備える。接触洗浄ローラー１１２の表面は、そのため、基板１１０から汚染した小さい破片を除去するために好適な複数のくぼみを備えている。くぼみは、汚染された表面から微視的大きさの汚染物質を捕集および／または除去するよう構成された微構造表面の形である。図４に示すように、接触洗浄ローラー１１２は、接触洗浄ローラー１１２上に形成された汚染粒子を除去する接着ローラー１１４に対し、反対方向に回転する。

基板１１０において符号「Ａ」で特定された領域は、そのため、未洗浄であり、符号「Ｂ」で特定された領域は、洗浄され、その後、プラスチック製電子機器、太陽光発電およびフラットパネルディスプレイなどの電子部品の改良された製造に使用される。

接触洗浄ローラー１１２におけるくぼみは、約５μｍ（５，０００ｎｍ）未満の範囲の断面直径および／または深さを有している。くぼみは、また、汚染粒子の捕集および／または除去を増進するために、汚染粒子と実質的に近似した形状および大きさとなっている。

本発明の具体的な実施例を上述したが、記載された実施例からの逸脱は本発明の技術思想の範囲にあることを理解されたい。例えば、微視的粗面の好適な形式は、汚染された表面からの汚染物質を捕集および／または除去するために使用される。

Claims (28)

1. 洗浄用表面を備え、
   洗浄用表面の少なくとも一部が微視的に粗面となっており、前記微視的な粗面が、汚染された面から小さい汚染粒子の捕集および／または除去の増進を可能にすることを特徴とする接触洗浄用表面構造。
2. 洗浄用表面の全体または実質的に全体が微視的に粗面となっており、汚染粒子の捕集および／または除去の効率を増加させる、請求項１に記載の接触洗浄用表面構造。
3. 微視的に粗面とされた洗浄用表面が、洗浄用表面および小さい汚染粒子との間の接触表面積を増加および／または最大とする、請求項１または２に記載の接触洗浄用表面構造。
4. 微視的粗面が小さい汚染粒子を捕捉および／または除去することができるくぼみを備える、請求項１〜３のいずれか１項に記載の接触洗浄用表面構造。
5. 微視的粗面が任意または一定のパターンで複数のくぼみを備える、請求項１〜４のいずれか１項に記載の接触洗浄用表面構造。
6. くぼみの形状および／または大きさが実質的に均一である、請求項４または５に記載の接触洗浄用表面構造。
7. くぼみの形状および／または大きさが実質的に不均一であり、そのため、大きさの範囲が広がり、それによって、汚染粒子の異なる大きさの範囲にわたって、汚染粒子の捕集および／または除去の増進を可能にする洗浄用表面構造を提供する、請求項４または５に記載の接触洗浄用表面構造。
8. 洗浄用表面が、機械手段、成形手段、および／または、レーザ構造化手段を使用して、微視的粗面とされている、請求項１〜７のいずれか１項に記載の接触洗浄用表面構造。
9. 微視的粗面が、汚染粒子の形状および／または大きさと一致または実質的に一致するよう特別に設計された一連のくぼみを備える、請求項１〜８のいずれか１項に記載の接触洗浄用表面構造。
10. 微視的粗面が：約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）未満；約５μｍ（５，０００ｎｍ）未満；約１μｍ（１，０００ｎｍ）未満；約０．１μｍ（１００ｎｍ）未満；約０．０１μｍ（１０ｎｍ）未満；または約０．００５μｍ（５ｎｍ）未満；のいずれかの範囲あるいはいずれかを組み合わせた範囲に存在する断面の直径および／または深さを有するくぼみを備える、請求項１〜９のいずれか１項に記載の接触洗浄用表面構造。
11. 微視的粗面が：約１ｎｍから約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約１μｍ（１，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約０．１μｍ（１００ｎｍ）；または約１ｎｍから約０．０１μｍ（１０ｎｍ）；のいずれかの範囲あるいはいずれかを組み合わせた範囲に存在する断面の直径および／または深さを有するくぼみを備える、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の接触洗浄用表面構造。
12. 微視的粗面が、汚染粒子の量の約２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％または８０％がくぼみの中にはめ込み可能な大きさおよび形状のくぼみを備える、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の接触洗浄用表面構造。
13. 微視的粗面がくぼみを備え、汚染粒子の表面積の約２０％、３０％、４０％、５０％、６０％７０％または８０％が洗浄用表面上のくぼみの表面と接触することが可能である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の接触洗浄用表面構造。
14. 洗浄用表面が、エラストマー材料から成るか、あるいは、エラストマー材料を備える、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の接触洗浄用表面構造。
15. 洗浄用表面が、洗浄すべき表面に対し、回転および／または押し付けが可能なローラーまたは実質的に円筒形状のローラーの形である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の接触洗浄用表面構造。
16. 小さい微視的粒子で汚染された表面の洗浄方法であって、その方法が：
    汚染された表面からの小さい汚染粒子の捕集および／または除去を増進するため、微視的粗面とした洗浄用表面を準備し；
    汚染された表面に対し、洗浄用表面を接触させ、および／または、押し付け；
    汚染された表面に対し洗浄用表面を接触させ、および／または、押し付けることで、汚染された表面上の小さい微視的汚染粒子の少なくとも一部あるいは実質的に全部が、捕集および／または除去される；工程を備えることを特徴とする、小さい微視的粒子で汚染された表面の洗浄方法。
17. 洗浄用表面の全体または実質的全体が微視的に粗面となっており、汚染粒子の除去の効率を増進させる、請求項１６に記載の小さい微視的粒子で汚染された表面の洗浄方法。
18. 微視的粗面が：約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）未満；約５μｍ（５，０００ｎｍ）未満；約１μｍ（１，０００ｎｍ）未満；約０．１μｍ（１００ｎｍ）未満；約０．０１μｍ（１０ｎｍ）未満；または約０．００５μｍ（５ｎｍ）未満；のいずれかの範囲あるいはいずれかを組み合わせた範囲に存在する断面の直径および／または深さを有するくぼみを備える、請求項１６または１７に記載の小さい微視的粒子で汚染された表面の洗浄方法。
19. 微視的粗面が：約１ｎｍから約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約１０μｍ（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約１μｍ（１，０００ｎｍ）；約１０ｎｍから約０．１μｍ（１００ｎｍ）；または約１ｎｍから約０．０１μｍ（１０ｎｍ）；のいずれかの範囲あるいはいずれかを組み合わせた範囲に存在する断面の直径および／または深さを有するくぼみを備える、請求項１６〜１８のいずれか１項に記載の小さい微視的粒子で汚染された表面の洗浄方法。
20. 微視的粗面が、異なる大きさの汚染粒子の捕集または除去を許容する異なる断面の直径および／または深さの組合せを有するくぼみを備える、請求項１６〜１９のいずれか１項に記載の小さい微視的粒子で汚染された表面の洗浄方法。
21. 汚染された表面を洗浄するための表面洗浄装置であって、前記表面洗浄装置が：
    汚染された表面から汚染した小さい粒子を除去することができる、回転可能に搭載された表面洗浄ローラーと；
    回転可能に搭載された表面洗浄ローラー上に捕集された汚染した小さい粒子を除去することができる、回転可能に搭載された接着ローラーと；
    回転可能に搭載された表面洗浄ローラーに対し、小さい粒子で汚染された表面を押し付けることができる手段と；を備え、
    回転可能に搭載された表面洗浄ローラーの表面の少なくとも一部が微視的粗面とされており、微視的粗面が汚染された表面からの小さい微視的汚染粒子の捕集および／または除去を増進することを特徴とする汚染された表面を洗浄するための表面洗浄装置。
22. 回転可能に搭載された表面洗浄用ローラーに対し、小さい粒子で汚染された表面を押し付ける手段が、回転可能に搭載された接着ローラーに実質的に対向して搭載されている、請求項２１に記載の汚染された表面を洗浄するための表面洗浄装置。
23. 電動手段が、回転可能に搭載された表面洗浄ローラーおよび回転可能に搭載された接着ローラーを駆動するために設けられている、請求項２１または２２に記載の汚染された表面を洗浄するための表面洗浄装置。
24. 装置が、洗浄される基板の両側に、一対の回転可能に搭載された表面洗浄ローラーおよび回転可能に搭載された接着ローラーを備える、請求項２１〜２３のいずれか１項に記載の汚染された表面を洗浄するための表面洗浄装置。
25. 装置が、プラスチック製電子機器、太陽光発電およびフラットパネルディスプレイを含む電子部品の製造に用いられる、請求項２１〜２４のいずれか１項に記載の汚染された表面を洗浄するための表面洗浄装置。
26. 汚染された表面を洗浄するための方法であって、前記方法が：
    汚染された表面から汚染された小さい粒子を除去可能な、回転可能に搭載された表面洗浄ローラーを準備する工程と；
    回転可能に搭載された表面洗浄ローラー上に捕集された汚染された小さい粒子を除去可能な、回転可能に搭載された接着ローラーを準備する工程と；
    回転可能に搭載された表面洗浄ローラーに対し、小さい粒子で汚染された表面を押し付けることが可能な手段を準備する工程と；を備え、
    回転可能に搭載された表面洗浄ローラーの表面の少なくとも一部が微視的粗面とされており、微視的粗面が汚染された表面からの小さい微視的汚染粒子の捕集および／または除去を増進できる、ことを特徴とする、汚染された表面を洗浄するための方法。
27. 明細書に記載され、および／または、図１に示された、接触洗浄表面構造。
28. 明細書に記載され、および／または、図４に示された、表面洗浄装置。

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