JP2012500382A5 - - Google Patents

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あるいは、金属充填ポリマーの押し出し、又は金属面の含浸、又は金属フィルム又は金属粒子のラミネーションやカプセル化により、本発明に適した金属含有フィルムを形成できる。例えば図8に例示したように、構造体(10)は、熱透過性で視覚的に不透明な基板である第1の基板(81)を有する第1の要素(80)と、第2の基板(71)を有する第2の要素(70)を備えることができる。熱反射層を有する第2の要素(70)は、基板(71)を備えている。その基板(71)は、例えば、低放射性要素(35)を用いて金属化されていて、熱透過性で視覚的に不透明な第1の基板(81)の第2の面(13)に介在層(4)によって接着された延伸PTFEなどのフィルムである。別の一実施態様では、第2の要素(70)は、熱透過性で視覚的に不透明な第1の基板(81)の第2の面(13)の近くに配置された金属化テキスタイルを含むことができる。その金属化テキスタイルは、場合によっては第1の基板(81)に付着される。
次に第1の要素を第2の要素の金属化された側に配置し、両者の間には0.5ミルのポリエチレン・フィルム層を配置した。ジオ・ナイト社のモデル178SU熱プレスを約350°Fで約10秒間使用してこれらの層を互いに接合し、構造体を形成した。この実施例に従って製造した構造体のサンプルについて炭素被覆ePTFE側で測定したマルチスペクトル試験の結果を表1と図9、図10、図11に示してある。実施例と表1で述べられるように、図10及び11の反射率のスケールは0.0〜1.0の範囲であるが、その範囲は0〜100%の反射率の割合に相関する。表1に示してあるように、この構造体は、可視光の反射率が約8%、nIRの反射率が約12%、MWIRの反射率が約28%、LWIRの反射率が約50%であった。

Claims (42)

  1. 前面部と裏面部とを含む構造体であって、
    該構造体が、第1の微小孔性ポリマー層と着色剤とを含有する、熱透過性であって視覚的に不透明である基板を含み、該基板が、該構造体の該前面部に近位である第1面と、第2面とを有し、
    また、該構造体が、熱透過性であって視覚的に不透明である該基板の該第2面に近接する低放射率要素を含有する熱反射層を含み、該熱反射層が該構造体の該裏面部に近接し、
    さらに、該構造体が、
    i)400〜600nmの範囲の波長で平均反射率が約70%未満であり、
    ii)9〜12μmの範囲の波長で平均反射率が約25%超であり、及び
    iii)1GHz〜約5GHzの範囲の周波数で平均レーダー透過率が90%超である、
    構造体。
  2. さらに、700〜1000nmの範囲の波長で平均反射率が約70%未満である、請求項1に記載の構造体。
  3. 1GHz〜約20GHzの周波数の範囲全体で平均レーダー透過率が90%超である、請求項1に記載の構造体。
  4. 1GHz〜約20GHzの範囲の周波数で平均レーダー透過率が99%超である、請求項1に記載の構造体。
  5. 前記第1の微小孔性ポリマー層が第1の微小孔性延伸ポリテトラフルオロエチレン(ePTFE)を含む、請求項1に記載の構造体。
  6. 前記熱反射層がポリマー層を含む、請求項1に記載の構造体。
  7. 前記熱反射層が金属化ポリマー層を含む、請求項6に記載の構造体。
  8. 前記熱反射層が第2の微小孔性ポリマー層を含む、請求項1に記載の構造体。
  9. 前記第2の微小孔性ポリマー層が金属化されている、請求項8に記載の構造体。
  10. 前記第2の微小孔性ポリマー層が金属化ePTFEを含む、請求項9に記載の構造体。
  11. 前記熱反射層が第2の微小孔性延伸PTFE層を含み、前記低放射率要素が該第2の微小孔性延伸PTFE層の金属化された面から形成するように堆積された金属であり、該金属化された面が、熱透過性であって視覚的に不透明である前記基板の前記第2面に近接する、請求項5に記載の構造体。
  12. 前記金属の厚さが約1μm未満である、請求項11に記載の構造体。
  13. 前記金属の厚さが約500nm未満である、請求項11に記載の構造体。
  14. 前記金属の厚さが約400nm未満である、請求項11に記載の構造体。
  15. 前記熱反射層が、介在接着層によって熱透過性で視覚的に不透明な前記基板に接合されている、請求項1に記載の構造体。
  16. 前記低放射率要素が、蒸着された金属粒子を前記第2の微小孔性延伸ePTFE層の表面に含む、請求項11に記載の構造体。
  17. 前記低放射率要素が、金属粒子を含むスプレー・コーティングを前記第2の微小孔性延伸ePTFE層の表面に備える、請求項5に記載の構造体。
  18. 前記低放射率要素がAlを含む、請求項1に記載の構造体。
  19. 前記低放射率要素がCuを含む、請求項1に記載の構造体。
  20. 前記低放射率要素がAuを含む、請求項1に記載の構造体。
  21. 前記低放射率要素が、銀(Ag)、ニッケル(Ni)、スズ(Sn)、亜鉛(Zn)、鉛(Pb)、クロム(Cr)及び、それらの合金の中から選択される、請求項1に記載の構造体。
  22. 前記熱反射層に近い位置かつ熱透過性で視覚的に不透明な前記基板の反対側に、レーダー信号を減衰させるためのレーダー・カムフラージュ層をさらに備える、請求項1に記載の構造体。
  23. 前記レーダー・カムフラージュ層がレーダー吸収要素を備える、請求項22に記載の構造体。
  24. 前記レーダー・カムフラージュ層がレーダー反射要素を備える、請求項22に記載の構造体。
  25. 前記レーダー・カムフラージュ層が、レーダー吸収要素の複数の離散領域と、レーダー反射要素の複数の離散領域を備える、請求項22に記載の構造体。
  26. 前記レーダー・カムフラージュ層が、熱透過性で視覚的に不透明な前記基板とは反対側で熱反射層に貼り合わされている、請求項22に記載の構造体。
  27. 油等級が1超である、請求項1に記載の構造体。
  28. 油等級が2超である、請求項1に記載の構造体。
  29. 手触りが500g未満である、請求項1に記載の構造体。
  30. 手触りが300g未満である、請求項1に記載の構造体。
  31. 手触りが200g未満である、請求項1に記載の構造体。
  32. レーダー・カムフラージュ車両に、視覚的であって、かつ、熱的であるカムフラージュを提供する方法であって、
    該方法が
    a.前面部、裏面部、
    該前面部に近接する、熱透過性であって視覚的に不透明である基板、及び
    熱透過性であって視覚的に不透明である該基板に近接する低放射率要素を含有する熱反射層を含む構造体であって
    該構造体が、
    i)400〜600nmの範囲の波長で平均反射率が約70%未満であり、
    ii)9〜12μmの範囲の波長で平均反射率が約25%超であり、及び
    iii)1GHz〜約5GHzの範囲の周波数で平均レーダー透過率が90%超である、
    構造体を形成する工程、並びに、
    b.検出器と該レーダー・カムフラージュ車両との間に該構造体を配置し、該構造体の該前面部が検出器に向くような位置に配置される、工程
    を含む方法。
  33. レーダー透過性であって、熱的、かつ、視覚的にカムフラージュ性がある構造体を生産する方法であって、該方法が、
    a.熱透過性の第1の微小孔性ポリマー材料を含んでいて第1の面と第2の面を有する第1の基板を提供する工程、
    b.着色剤を用意する工程、
    c.該着色剤を該第1の基板の少なくとも第1の面に付着させて熱透過性で視覚的に不透明な層を形成する工程、
    d.低放射率要素を含む第2の基板を提供する工程、
    e.該第2の基板の低放射率要素を該第1の基板の第2面に向くような位置に配置される工程、並びに
    f.該第1の基板と該第2の基板を接着することにより、400〜600nmの範囲の波長で平均反射率が約70%未満であり、9〜12μmの範囲の波長で平均反射率が約25%超であり、及び1GHzから約20GHzの範囲の周波数でレーダー透過率が90%超である構造体を形成する工程
    を含む方法。
  34. 熱透過性の前記ポリマー材料がePTFEを含む、請求項33に記載の方法。
  35. 前記ePTFEに着色剤を印刷することにより、熱透過性で視覚的に不透明な前記基板を形成する、請求項34に記載の方法。
  36. 請求項33に記載の方法において、前記第2の基板が第2の微小孔性ポリマー層を含み、この方法が、その第2の微小孔性ポリマー層に金属を蒸着するステップをさらに含む方法。
  37. 請求項33に記載の方法において、前記第2の基板が第2の微小孔性ポリマー層を含み、この方法が、その第2の微小孔性ポリマー層に金属をスプレーするステップをさらに含む方法。
  38. 前記第1の微小孔性ポリマー層と前記第2の微小孔性ポリマー層を互いに固定するステップを含む、請求項36に記載の方法。
  39. 接着剤として金属スプレーを用いて前記第1の微小孔性ポリマー層と前記第2の微小孔性ポリマー層を互いに固定するステップを含む、請求項37に記載の方法。
  40. 前記構造体の第2の基板に近い側に貼り合わされた少なくとも1つの追加層を備える、請求項33に記載の方法。
  41. 前記少なくとも1つの追加層がテキスタイル層である、請求項40に記載の方法。
  42. 前記少なくとも1つの追加層がレーダー・カムフラージュ層である、請求項40に記載の方法。
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