JP2012248623A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】n型不純物を、ゲートトレンチ14の深さ方向に対して傾斜した注入角度で注入することにより、チャネル領域17を形成する。そして、このチャネル領域17の形成に先立って、ゲートトレンチ14の底面13にp型不純物を0°注入することにより、選択的にp型不純物が高くなった高濃度領域19を形成しておく。これにより、ゲート閾値電圧を安定化でき、帰還容量の低減および安定化を達成することができる。
【選択図】図3E
Description
特許文献1によれば、まず、n+型シリコン半導体基板にn−型のエピタキシャル層を積層してドレイン領域を形成し、ドレイン領域を選択的にエッチングすることにより、ゲートトレンチを形成する。次に、ゲートトレンチの底部に比較的分厚い(2000Å程度)埋め込み酸化膜を形成し、この状態でドレイン領域を熱酸化することにより、ゲートトレンチの内壁にゲート酸化膜を形成する。
その後、ゲートトレンチにゲート電極を埋設し、ソース領域、層間絶縁膜およびソース電極などを形成することにより、トレンチゲート型MOSFETを得る。
そのため、ゲートトレンチの側面から同じ深さ位置であれば、半導体層の表面からの深さ位置に関係なく、第2導電型不純物の濃度を一定にすることができる。これにより、ゲート閾値電圧を決定するチャネルの濃度をチャネル方向(ゲートトレンチの深さ方向)に沿って一定にすることができるので、ゲート閾値電圧のばらつきをなくして安定化させることができる。
また、ゲート絶縁膜の厚さは、半導体装置の特性に合わせて設計する。
帰還容量は、チャネル領域および高濃度部分を形成するときの注入条件を適宜変更することにより、簡単に制御することができる。そのため、適切な注入条件を定めることにより、帰還容量の安定化を図ることができる。
半導体層の表面に衝突した不純物は、当該表面の位置や形状に関わらず、当該表面から一定の距離まで注入される。たとえば、ゲートトレンチの底面から距離Xまで注入可能な条件を設定すると、ゲートトレンチの側面に注入された不純物も、ゲートトレンチの側面から距離Xまでしか注入されない。
また、前記ゲートトレンチは、前記単位セルをストライプ状に区画するストライプトレンチを含んでいてもよいし、前記単位セルをマトリクス状に区画する格子トレンチを含んでいてもよい。
また、前記ドリフト領域の前記高濃度部分は、前記第1導電型の不純物濃度よりも小さい濃度で第2導電型の不純物を含んでいてもよい。
また、ゲート絶縁膜を形成する工程を、前記ドリフト領域および前記チャネル領域の形成前に行う場合、前記ドリフト領域を形成する工程は、第1導電型の不純物を、前記ゲート絶縁膜を介して前記ゲートトレンチの前記底面へ向かって注入する工程を含み、前記チャネル領域を形成する工程は、第2導電型の不純物を、前記ゲート絶縁膜を介して、前記ゲートトレンチの前記側面へ向かって注入する工程を含んでいてもよい。
また、前記チャネル領域を形成する工程は、前記ドリフト領域を形成する工程後に行ってもよいし、前記ドリフト領域を形成する工程前に行ってもよい。
また、前記チャネル領域を形成する工程は、第2導電型の不純物を、前記ゲートトレンチの深さ方向に対して5°〜15°の角度で傾斜した方向に沿って、前記ゲートトレンチの前記側面へ向かって注入する工程を含むことが好ましい。
図1(a)(b)は、本発明の一実施形態に係るトレンチゲート型MOSトランジスタの模式的な平面図であって、図1(a)は全体図、図1(b)は内部拡大図をそれぞれ示す。図2は、図1(a)(b)に示すトレンチゲート型MOSトランジスタの断面図であって、図1(b)の切断線A−Aでの切断面を示す。
MOSトランジスタ1の表面には、ソースパッド2が形成されている。ソースパッド2は、四隅が外方へ湾曲した平面視略正方形状であり、MOSトランジスタ1の表面のほぼ全域を覆うように形成されている。このソースパッド2には、その一辺の中央付近に除去領域3が形成されている。この除去領域3は、ソースパッド2が形成されていない領域である。
次に、MOSトランジスタ1の内部構造について説明する。
MOSトランジスタ1は、p+型(たとえば、濃度が1×1018〜1×1021cm−3)のSi基板5を備えている。Si基板5は、MOSトランジスタ1のドレインとして機能する。p型不純物としては、たとえば、ボロン(B)、アルミニウム(Al)などが含まれている。以下同じ。
MOSトランジスタ1には、図1(a)に示すように、平面視でエピタキシャル層8の中央部に配置され、MOSトランジスタ1として機能する活性領域10と、この活性領域10を取り囲むトランジスタ周辺領域11が形成されている。
単位セル15では、ゲートトレンチ14の深さ方向がゲート長方向であり、そのゲート長方向に直交する各単位セル15の周方向がゲート幅方向である。
エピタキシャル層8においてゲートトレンチ14の周囲には、p+型のソース領域16およびn型のチャネル領域17が、エピタキシャル層8の表面9に近い側からこの順に形成されている。チャネル領域17には、n型不純物として、たとえば、リン(P)、ヒ素(As)などが含まれている。
ゲートトレンチ14の内面には、その全域を覆うように、SiO2からなるゲート絶縁膜22が形成されている。ゲート絶縁膜22の厚さは、ゲートトレンチ14の内面全域にわたって一様であり、底面部23(底面13上の部分)の厚さと側面部24(側面12上の部分)の厚さとが同じ厚さ(たとえば、100Å〜1000Å)である。なお、底面部23の厚さは、側面部24の厚さよりも薄くてもよい。
エピタキシャル層8上には、ゲート電極25を被覆するように、SiO2からなる層間絶縁膜27が積層されている。
層間絶縁膜27およびゲート絶縁膜22には、コンタクトホールが形成されている。これにより、コンタクトホール内には、各単位セル15のソース領域16およびボディコンタクト領域21が露出している。
そして、このソース電極28上には層間絶縁膜(図示せず)が形成されており、その層間絶縁膜(図示せず)を介して、ソース電極28がソースパッド2(図1(a)参照)に電気的に接続されている。一方、ゲートパッド4(図1(a)参照)は、当該層間絶縁膜(図示せず)上に引き回されたゲート配線(図示せず)を介して、ゲート電極25に電気的に接続されている。
図3A〜図3Iは、図2に示すトレンチゲート型MOSトランジスタの製造工程の一部を示す模式的な断面図であって、図2と同じ位置での切断面を示す。
MOSトランジスタ1を製造するには、図3Aに示すように、CVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長)法、LPE(Liquid Phase Epitaxy:液相エピタキシ)法、MBE(Molecular Beam Epitaxy:分子線エピタキシ)法などのエピタキシャル成長法により、Si基板5の表面6(Si面)上に、p型不純物(たとえば、ホウ素(B)、アルミニウム(Al)など)をドーピングしながらSi結晶が成長させる。これにより、Si基板5上に、p−型のエピタキシャル層8(ドリフト領域18)が形成される。次に、たとえば、熱酸化法により、エピタキシャル層8の表面9に酸化膜30を形成する。
次に、図3Dに示すように、ゲートトレンチ14の内部へ向け、p型不純物をゲートトレンチ14の深さ方向に沿って(すなわち、当該深さ方向に対して0°の注入角度)注入する。注入は、たとえば、10keV〜60keVで、底面13から所定の深さ位置に1段注入する。このときのドーズ量は、たとえば、1×1013cm−2〜5×1015cm−2である。これにより、p型不純物がゲートトレンチ14の底面13に注入され、ドリフト領域18の他の部分よりも高濃度な高濃度領域19が形成される。
すなわち、エピタキシャル層8の表面(表面9、側面12および底面13を全て含む概念)に衝突したn型不純物は、当該表面の位置や形状に関わらず、当該表面から一定の距離まで注入される。具体的には、底面13から距離Xまで注入可能な条件を設定すると、側面12に注入されたn型不純物も、側面12から距離Xまでしか注入されない。
注入条件の具体的な値としては、たとえば、注入エネルギが30keV〜100keVであり、ドーズ量が、たとえば、1×1013cm−2〜5×1013cm−2である。なお、第1次注入および第2次注入の注入条件や注入角度を互いに独立して設定する場合には、最終的にT3≧1/2・W1となるように、それぞれの注入条件を設定すればよい。
次に、図3Gに示すように、たとえば、熱酸化法により、ゲートトレンチ14の内面(側面12および底面13)およびエピタキシャル層8の表面9にゲート絶縁膜22を形成する。
次に、図3Iに示すように、たとえば、CVD法により、ドーピングされたポリシリコン材料を、エピタキシャル層8の上方から堆積する。ポリシリコン材料の堆積は、少なくともゲートトレンチ14が埋め尽くされるまで続ける。その後、堆積したポリシリコン材料を、エッチバック面がエピタキシャル層8の表面9に対して面一になるまでエッチバックする。これにより、ゲートトレンチ14内に残存するポリシリコン材料からなるゲート電極25が形成される。
このMOSトランジスタ1は、たとえば、電動モータ(誘導性負荷の一例)の駆動回路(インバータ回路)のスイッチング素子として利用することができる。この場合、ソースパッド2(ソース電極28)とドレイン電極29との間(ソース−ドレイン間)にドレイン側が正となるドレイン電圧を印加した状態で、ゲートパッド4に所定の電圧(ゲート閾値電圧以上の電圧)を印加することによって、チャネル領域17におけるゲート絶縁膜22との界面近傍にゲートトレンチ14の深さ方向に沿ってチャネルを形成する。これにより、ゲートトレンチ14の深さ方向に電動モータに流す電流が流れる。
そのため、側面12から同じ深さ位置であれば、エピタキシャル層8の表面9からの深さ位置に関係なく、n型不純物の濃度を一定にすることができる。
これにより、ゲート閾値電圧を決定するチャネルの濃度をチャネル方向に沿って一定にすることができるので、ゲート閾値電圧のばらつきをなくして安定化させることができる。
具体的には、図5の破線グラフで示すように、ソース領域16とチャネル領域17の界面の深さ位置(約0.7μm)からゲートトレンチ14の底面13の深さ位置(約1.5μm)にかけて、n型不純物の濃度が3×1017cm−3から3×1016cm−3へと減少しているのが分かる。
また、特許文献1では斜め注入によりチャネル層を形成しているが、ゲートトレンチへの底面への注入を防止するための分厚い埋め込み酸化膜が、MOSFETの完成後も残存する。そのため、帰還容量が大きくなるという問題がある。
これにより、底面13のp型の導電型をキャンセルしてn型の導電型を維持することができ、ドリフト領域18としての機能を保持させることができる。
また、この後に形成されるゲート絶縁膜22の厚さは、MOSトランジスタ1の特性に合わせて設計することができ、底面部23の厚さと側面部24の厚さとが同じ厚さにすることができる。
帰還容量は、チャネル領域17および高濃度領域19を形成するときの注入条件を適宜変更することにより、簡単に制御することができる。そのため、適切な注入条件を定めることにより、帰還容量の安定化を図ることができる。
たとえば、高濃度領域19およびチャネル領域17を形成する際にゲートトレンチ14の内面を保護する膜として、犠牲酸化膜31を使用したが、ゲート絶縁膜22を図3Dの工程前に行なうことにより、ゲート絶縁膜22を使用することもできる。
また、図3Dと図3Eの工程を入れ替えることにより、チャネル領域17を先に形成して、その後に高濃度領域19を形成することもできる。
また、ゲートトレンチの形状は、ストライプ状に限らず、たとえば、図6のMOSトランジスタ61のように、マトリクス状の単位セル15を区画する格子状のゲートトレンチ62であってもよい。
また、MOSトランジスタ1,61において、エピタキシャル層8を構成する層は、Siからなるエピタキシャル層に限らず、たとえば、ワイドバンドギャップ半導体、たとえば、SiC、GaN、ダイヤモンドからなる層などであってもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
5 Si基板
6 (Si基板の)表面
7 (Si基板の)裏面
8 エピタキシャル層
9 (エピタキシャル層の)表面
12 (ゲートトレンチの)側面
13 (ゲートトレンチの)底面
14 ゲートトレンチ
15 単位セル
16 ソース領域
17 チャネル領域
18 ドリフト領域
19 高濃度部分
20 高濃度部分の上部分
22 ゲート絶縁膜
23 (ゲート絶縁膜の)底面部
24 (ゲート絶縁膜の)側面部
25 ゲート電極
30 酸化膜
31 犠牲酸化膜
61 MOSトランジスタ
62 ゲートトレンチ
Claims (16)
- 側面および底面を有するゲートトレンチが形成された半導体層と、
前記ゲートトレンチの前記側面および前記底面上に形成されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜を介して前記半導体層に対向するように、前記ゲートトレンチに埋め込まれたゲート電極とを含み、
前記半導体層は、
前記半導体層の表面側に露出するように形成され、前記ゲートトレンチの前記側面の一部を形成する第1導電型のソース領域と、
前記ソース領域に対して前記半導体層の裏面側に、前記ソース領域に接するように形成され、前記ゲートトレンチの前記側面の一部を形成し、最深部が前記ゲートトレンチの前記底面よりも前記裏面側に位置する第2導電型のチャネル領域と、
前記チャネル領域に対して前記半導体層の前記裏面側に前記チャネル領域に接するように形成され、前記ゲートトレンチの前記底面を形成する第1導電型のドリフト領域とを含み、
前記チャネル領域は、前記ゲートトレンチの前記側面において、前記ゲートトレンチの深さ方向に沿って一定の第2導電型の不純物濃度を有し、
前記ドリフト領域は、前記ゲートトレンチの前記底面において、当該ドリフト領域の他の部分よりも選択的に高い第1導電型の不純物濃度を有する高濃度部分を含む、半導体装置。 - 前記ゲートトレンチは、前記ソース領域および前記チャネル領域を含む単位セルを区画するように形成されており、
前記ゲートトレンチの前記底面から前記チャネル領域の前記最深部までの厚さは、前記半導体層の前記表面からの前記ソース領域の厚さよりも大きい、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記ゲートトレンチは、前記単位セルをストライプ状に区画するストライプトレンチを含む、請求項2に記載の半導体装置。
- 前記ゲートトレンチは、前記単位セルをマトリクス状に区画する格子トレンチを含む、請求項2または3に記載の半導体装置。
- 前記ドリフト領域の前記高濃度部分は、前記第1導電型の不純物濃度よりも小さい濃度で第2導電型の不純物を含んでいる、請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記ゲート絶縁膜における前記ゲートトレンチの前記底面上の部分は、前記ゲートトレンチの前記側面上の部分と同じ厚さを有している、請求項1〜5のいずれか一項に記載の半導体装置。
- 第1導電型の半導体層に、側面および底面を有するゲートトレンチを形成する工程と、
第1導電型の不純物を、前記ゲートトレンチの深さ方向に沿って、前記ゲートトレンチの前記底面へ向かって注入することにより、前記底面において前記半導体層の他の部分よりも選択的に高い第1導電型の不純物濃度を有する高濃度部分を含むドリフト領域を形成する工程と、
第2導電型の不純物を、前記ゲートトレンチの深さ方向に対して所定の角度で傾斜した斜め方向に沿って、前記ゲートトレンチの前記側面へ向かって注入することにより、前記ゲートトレンチの前記側面の一部を形成し、最深部が前記ゲートトレンチの前記底面よりも前記半導体層の裏面側に位置するチャネル領域を形成する工程と、
前記半導体層の表面へ向かって第1導電型の不純物を注入することにより、前記半導体層の前記表面側に露出するように、前記チャネル領域に対して前記半導体層の前記表面側に前記チャネル領域に接し、前記ゲートトレンチの前記側面の一部を形成するソース領域を形成する工程と、
前記ゲートトレンチの前記側面および前記底面上にゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記ゲート絶縁膜を介して前記半導体層に対向するように、前記ゲートトレンチにゲート電極を埋め込む工程とを含む、半導体装置の製造方法。 - 前記ドリフト領域および前記チャネル領域の形成前に、前記ゲートトレンチの前記側面および前記底面上に犠牲酸化膜を形成する工程と、
前記ドリフト領域およびチャネル領域の形成後、前記犠牲酸化膜を除去する工程とをさらに含む、請求項7に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記ゲート絶縁膜を形成する工程は、前記ドリフト領域および前記チャネル領域の形成前に行われ、
前記ドリフト領域を形成する工程は、第1導電型の不純物を、前記ゲート絶縁膜を介して前記ゲートトレンチの前記底面へ向かって注入する工程を含み、
前記チャネル領域を形成する工程は、第2導電型の不純物を、前記ゲート絶縁膜を介して、前記ゲートトレンチの前記側面へ向かって注入する工程を含む、請求項7に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記チャネル領域を形成する工程は、前記ドリフト領域を形成する工程後に行う、請求項7〜9のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記チャネル領域を形成する工程は、前記ドリフト領域を形成する工程前に行う、請求項7〜9のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記チャネル領域を形成する工程は、第2導電型の不純物を、前記ゲートトレンチの深さ方向に対して5°〜15°の角度で傾斜した方向に沿って、前記ゲートトレンチの前記側面へ向かって注入する工程を含む、請求項7〜11のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記チャネル領域を形成する工程は、前記ゲートトレンチの前記側面から所定の深さの位置に、第2導電型の不純物を注入する1段注入工程を含む、請求項7〜12のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記チャネル領域を形成する工程は、注入エネルギを変化させることにより、前記ゲートトレンチの前記側面から所定の深さまで第2導電型の不純物を複数段にわたって注入する多段注入工程を含む、請求項7〜12のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ゲートトレンチを形成する工程は、前記ソース領域および前記チャネル領域を含むストライプ状の単位セルを区画するようにストライプトレンチを形成する工程を含む、請求項7〜14のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ゲートトレンチを形成する工程は、前記ソース領域および前記チャネル領域を含むマトリクス状の単位セルを区画するように格子トレンチを形成する工程を含む、請求項7〜14のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
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