JP2012243859A - 大気圧プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマ処理装置は、誘電体内にアンテナとアースが形成された面放電型の誘電体バリア放電方式のプラズマ源において、被処理体を前記プラズマ源に略接触させ、被処理体に対してプラズマ源を設置した面とは反対の面にプラズマを生成するようにした。
【選択図】図1
Description
以下、図面を参照しながら、本発明を具体的に適用したプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法の実施例について詳細に説明する。
L>D+G+T
の式が成り立つ方が望ましい。これにより、一対の電極4間に高周波電力が印加され電流が流れることに伴い発生する電気力線18が、被処理体7の成膜側表側に十分しみ出る。
P1<P3
の関係が成り立つことが望ましい。即ち、プラズマ放電部1により生成されるプラズマは大気圧放電によるプラズマであるが、厳密には大気雰囲気よりも若干減圧された例えば0.9気圧でもよい。
L1≒L2>D+G+T2
となっていることが望ましい。もちろんGは、ほとんど0mmであることが望ましい。
P1<P2<P3
となるように若干の圧力差が生じるようにするのが望ましい。そのため、プラズマ放電空間側24には排気ライン12−1を介して排気ポンプなどから構成されている排気系11−1に接続されている。また、プラズマを生成しない空間側25には排気ダクト12−2を介して、排気系11−2に接続されている。
次に、本発明の第2の実施例の変形例を、図7(図7A,図7B)を用いて説明する。図7Aに示したプラズマ放電部は、電極4−2に相当する金属製の円筒30の外周にイットリアやアルミナなどの誘電体層5が形成されており、その外周に電極(導線)4−1を螺旋状に巻いた構造となっている。また、図7Bは図7AのRの部分を拡大して示した構造例である。金属製の円筒30の表面に螺旋状の溝(ネジ溝)を設けて、その上から誘電体層5を形成し、誘電体層上に現れた溝に沿って、電極4−1を巻くようにすると製造が簡単になるメリットがある。また、電極(4−1)の間隔(ピッチ)をS3とすると、
1/2×S3>D+G
の関係式が成り立つようにするのが望ましい。
L1≒L2>D+G+T1
となることが望ましい。
次に、本発明の第3の実施例の変形例を、図10(図10A,図10B)を用いて説明する。
1/2×S3>D+G
の関係が成り立つのが望ましい。
Claims (10)
- 処理室に設けられた大気圧雰囲気のプラズマ放電部と、
前記プラズマ放電部に高周波電力を供給する高周波電源と、
前記処理室に処理ガスを供給する処理ガス供給源と、
被処理体の裏面を保持する被処理体保持手段とを備えたプラズマ処理装置において、
前記プラズマ放電部は、一対の電極が誘電体内に平行に配置され、該誘電体の表面にプラズマを生成する面放電型の誘電体バリア放電方式のプラズマ源であり、
前記プラズマ放電部において、前記被処理体が所定の被処理体保持面に保持され、
前記プラズマ放電部において、前記誘電体の表面と前記被処理体保持面とが実質的に同じ高さにあり、
前記プラズマが、前記被処理体保持面とは反対側の前記被処理体の表面近傍の前記大気圧雰囲気中に生成されるように構成されている、ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1において、
前記プラズマ放電部の表面と前記被処理体保持面との隙間Gがゼロであり、
前記被処理体に対してプラズマを生成する側の面に、希ガスで希釈された処理ガスを供給するように構成されている、ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1において、
前記プラズマ放電部の表面と前記被処理体保持面で保持された前記被処理体の裏面との間に微小の隙間Gがあり、
前記微小の隙間に放電抑制ガスを供給する放電抑制ガス供給部を備えている、
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項3に記載のプラズマ処理装置において、前記被処理体に対してプラズマを生成する側の面には、希ガスで希釈された処理ガスを供給し、前記被処理体に対して、前記プラズマ源が設置された側の面には、前記処理ガスよりも放電しにくい放電抑制ガスを供給するように構成されている、ことを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項1において、
前記プラズマ放電部は、平面形状が略矩形であり、
前記一対の電極が、前記誘電体内に該誘電体膜の厚み方向においてその中央よりも前記誘電体表面側に偏って埋設されており、
前記被処理体を前記プラズマ放電部の表面と平行な前記被処理体保持面に沿って搬送する複数のローラーを備えている、ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 処理室に設けられた大気圧雰囲気のプラズマ放電部と、
前記プラズマ放電部に高周波電力を供給する高周波電源と、
前記処理室に処理ガスを供給する処理ガス供給源と、
被処理体の裏面を保持する被処理体保持手段とを備えたプラズマ処理装置において、
前記プラズマ放電部は、一対の電極の1つが円筒状の誘電体内に配置され、該円筒状の誘電体の表面にプラズマを生成する面放電型の誘電体バリア放電方式のプラズマ源であり、
被処理体は前記プラズマ源に略接触するように設置され、
前記被処理体に対して、前記プラズマ源を設置した面とは反対側の面に前記プラズマを生成するように構成されている、ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項6に記載のプラズマ処理装置において、
前記プラズマ放電部は、前記1つの電極に相当する金属製の円筒部品の外周に前記誘電体の層が形成され、該誘電体の層の外周に前記一対の電極の他の方が螺旋状に巻かれた構造となっている、ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項6に記載のプラズマ処理装置において、
前記プラズマ放電部は、前記1つの電極に相当する金属製の円筒部品の内側に前記誘電体層が形成され、該誘電体の層の内側に前記一対の電極の他の方が螺旋状に巻かれた構造となっている、ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 一対の電極が誘電体内に平行に配置され、該誘電体の表面にプラズマを生成する面放電型の誘電体バリア放電方式のプラズマ源を有する大気圧プラズマ処理装置により、大気圧雰囲気で処理体を処理するプラズマ処理方法であって、
前記被処理体の裏面を、前記プラズマ源に対して実質的に接触するようにして配置し、
前記被処理体に対して、前記プラズマ源が設置された面とは反対側の前記大気圧雰囲気中にプラズマを生成し、該プラズマにより前記被処理体の表面を処理する、ことを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項9において、
前記被処理体の裏面を、前記プラズマ源に対して隙間Gがゼロとなるようにして配置し、
前記被処理体に対してプラズマを生成する側の面に、希ガスで希釈された処理ガスを供給する、ことを特徴とするプラズマ処理方法。
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