JP4743314B2 - 照射装置 - Google Patents
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Description
このようなドライ洗浄法の一つとして大気圧プラズマ発生装置が知られている。この装置は、一対の電極の間にプラズマが生じる空隙が形成されており、この空隙に窒素ガスを流しながら、短パルスの高電圧電界が印加される。高周波電界が印加された電極の大気圧近傍でプラズマが発生し、プラズマによってガラス基板などの被処理物に付着した有機物を除去することができる。
本願第2の発明は、第1の発明において、前記放電容器に一方の電極が取り付けられ、該放電容器が内部に配置されるランプハウスに他方の電極が取り付けられ、ランプハウスと放電容器との間に反応性ガス層が形成されていることを特徴とする。
本願第3の発明は、第2の発明において、前記一方の電極は放電容器の側面に伸びる一方の側面電極を有し、該一方の側面電極に対向する位置に前記他方の電極と同電位になるように電力が供給されている他方の側面電極が取り付けられ、前記一方の側面電極と前記他方の側面電極との間に誘電体を有することを特徴とする。
本願第4の発明は、第1の発明において、前記電極のうち、一方の電極を前記放電容器に直接に取り付けず、該一方の電極より大きい面積を有する誘電体を前記放電容器との間に配置し、該誘電体の被処理体に対向する面に前記一方の電極が取り付けられていることを特徴とする。
ランプハウス20の内部に、エキシマランプ10が配置され、エキシマランプ10の下方に被処理体Wを水平方向に搬送して移動させる搬送機構30が設けられている。ランプハウス20は、側壁を形成する側壁部材21a、21bが向かい合うように配置され、側壁部材21a、21bの上部の開口を塞ぐように天板22が形成されている。ランプハウス20を、側壁部材21a、21bと天板22とに分けて構成することにより、天板22を開閉式にしてランプハウス20内部に配置されるエキシマランプ10を交換できるようにしている。搬送機構30は、複数の搬送コロ31が被処理体Wの搬送方向に沿って並ぶよう配置されて構成されている。
被処理体Wに対して、エキシマランプ10からの真空紫外線による洗浄処理、およびプラズマによる洗浄処理の両方を行うことができるので、被処理体Wに対して高い洗浄処理能力が得られる。
例えば、反応性ガス層24の放電ギャップの大きさとなるエキシマランプ10とプラズマ放電用電極25との離間距離を1〜10mmとし、不活性ガス層14の放電ギャップとなる放電容器11の上面11aと下面11bとの距離を0.05〜5mmとする。
プラズマ放電用電極25の極性が反転することによって、上記放電が再び生じる。
図2は、第1の実施形態に対して、プラズマ放電用電極25の設置位置を変更した構成を示す説明用断面図である。
図1に示すようにプラズマ放電用電極25をランプハウス20の内部に配置して、プラズマ放電用電極25に高電圧を供給する場合、ランプハウス20やその他の部材と絶縁をとることが困難となる場合がある。そのような問題を回避するため、図2に示すようにランプハウス20の天板22とは別体に、天板22から吊り下げるようにしてプラズマ放電用電極25を配置している。このような構成にすることによって、プラズマ放電用電極25の絶縁がとりやすくなる。
エキシマ放電用電極13を放電容器11に直接に取り付けるのではなく、エキシマ放電用電極13より大きい面積を有する誘電体15を放電容器11との間に配置し、誘電体15の被処理体Wに対向する面にエキシマ放電用電極13が取り付けられている。このように誘電体15を介することによって、エキシマ放電用電極13とプラズマ放電用電極25とが、エキシマランプ10の放電容器11の側面を放電が走り、沿面でアークショートしないようにすることができる。
図4は、第2の実施形態の照射装置のランプハウス内に配置される反射鏡51とエキシマランプ40とを示す説明用断面図である。
第2の実施形態のエキシマランプ40は、外側管43と内側管42とが同軸上に配置された二重管構造の放電容器41を有し、外側管43と内側管42に囲まれる空間に不活性ガスが封入されて構成されている。エキシマランプ40の上方にアルミニウムよりなる樋状の反射鏡51が配置されている。エキシマランプ40と反射鏡51との間には、反応性ガスが大気圧下において流過され、漏れ出たガスが被処理体に向かって流れ出るようになっている。
また、被処理体に対して、エキシマランプ40からの真空紫外線による洗浄処理、およびプラズマによる洗浄処理の両方を行うことができるので、被処理体に対して高い洗浄処理能力が得られる。
図5は、第2の実施形態に対して、放電容器41の下側半分に外部電極46が取り付けられた構成を示す説明用断面図である。
エキシマランプ40の放電容器41の外側管43の下側半分に外部電極46を取り付け、外部電極46にアースをとっている。放電容器41の下側半分に封入されている不活性ガスに、内側電極44と外側電極46に挟まれて高電圧がかけられ、エキシマ放電する。図4に示す形態では、内側電極44の上半分側しか放電に寄与しなかったが、図5に示すように外側管43の下側半分に外部電極46を取り付けることによって、内側電極44の下半分側も放電に寄与するようにでき、被処理体に対して洗浄処理能力を高めることができる。
放電容器41の周囲を、反応性ガス層52を介して全周を覆うように網状電極47が取り付けられている。内側電極44の全周に対して、不活性ガス層45と反応性ガス層52とを介して網状電極47が挟むように形成されている。このような網状電極47を構成することによって、内側電極44を取り囲む全ての領域でエキシマ放電とプラズマ放電とを発生させることができる。
図7は、第3の実施形態の照射装置の構成を示す説明用断面図である。
第3の実施形態の照射装置は、反応性ガスをエキシマランプ10の下方の被処理体Wに向かって流れるように案内する案内部材28に側面電極29が取り付けられ、プラズマ放電用電極25と同電位になるように電力が供給されている。案内部材28の表面に、アルミナ(Al2O3)、シリカ(SiO2)などの誘電体材料よりなる誘電体19が形成されている。放電容器11の下面11bに形成されたエキシマ放電用電極13は、案内部材28に向かい合う側面12まで伸びるように形成されている。
11 放電容器
13 エキシマ放電用電極
14 不活性ガス層
15 誘電体
20 ランプハウス
21 側壁部材
22 天板
23 固定板
24 反応性ガス層
25 プラズマ放電用電極
26 冷却水管
27 マニホールド
28 案内部材
29 側面電極
30 搬送機構
31 搬送コロ
P 高周波電源
W 被処理体
Claims (4)
- 交流電界が供給される一対の電極に挟まれる空間に、大気圧下に反応性ガスが流過されている反応性ガス層と放電容器の内部に不活性ガスが封入された不活性ガス層とが、電極に対して並行で連続するように配置されてなり、
前記電極間で発生する放電が反応性ガス層におけるプラズマ放電と不活性ガス層におけるエキシマ放電とを介して発生することを特徴とする照射装置。 - 前記放電容器に一方の電極が取り付けられ、該放電容器が内部に配置されるランプハウスに他方の電極が取り付けられ、ランプハウスと放電容器との間に反応性ガス層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の照射装置。
- 前記一方の電極は放電容器の側面に伸びる一方の側面電極を有し、該一方の側面電極に対向する位置に、前記他方の電極と同電位になるように電力が供給されている他方の側面電極が取り付けられ、前記一方の側面電極と前記他方の側面電極との間に誘電体を有することを特徴とする請求項2に記載の照射装置。
- 前記電極のうち、一方の電極を前記放電容器に直接に取り付けず、該一方の電極より大きい面積を有する誘電体を前記放電容器との間に配置し、該誘電体の被処理体に対向する面に前記一方の電極が取り付けられていることを特徴とする請求項1に記載の照射装置。
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