JP4743311B2 - 照射装置 - Google Patents
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このようなドライ洗浄法としては、被処理体の表面に波長200nm以下の真空紫外線を照射することにより、当該被処理体の表面に付着した有機化合物を分解すると共にオゾン等の活性酸素によって酸化して除去する光洗浄法(特許文献1参照。)、大気圧近傍の圧力下において、窒素ガス等のプラズマ発生用反応性ガスを流過させながら高周波電界を印加することによってプラズマを発生させ、このプラズマによって被処理体の表面に付着した有機化合物を分解・酸化して除去するプラズマ洗浄法(特許文献2参照。)が知られている。
そして、光洗浄法においては、放電容器内に例えばキセノンが封入されたエキシマランプを備えた照射装置が用いられており、当該照射装置からの紫外線が照射される照射領域を被処理体が通過することにより、当該被処理体の洗浄処理が行われる。
液晶基板においては、サイズの大きい大型のものの開発が進み、このような液晶基板等の被処理体の大型化に伴い、被処理体の有機化合物等の除去処理を高い効率で行うために、被処理体の移動速度を上げることにより、処理速度を向上することが要請されている。 しかしながら、従来の照射装置では、被処理体の処理速度が高い場合には、当該被処理体に対する真空紫外線の照射時間が短くなるため、高い洗浄処理能力を得ることが困難である、という問題がある。
また、結合エネルギーが高い化学結合を有する有機化合物においては、当該化学結合を真空紫外線のエネルギーでは切断することができないため、このような有機化合物について真空紫外線による光洗浄処理だけでは除去することが困難である。
前記エキシマランプにおける一対の電極間に印加される高周波電界によって前記放電容器内にエキシマ放電が発生されると共に、前記エキシマランプと前記プラズマ放電用電極との間にプラズマ発生用反応性ガスが流過された状態で、当該エキシマランプにおける前記一方の電極と当該プラズマ放電用電極との間に印加された高周波電界によってプラズマ放電が発生されることを特徴とする。
また、前記プラズマ放電用電極の表面に、電界集中用凸部が形成されていることが好ましい。
また、前記エキシマランプが配置されるランプハウスを備えてなり、当該ランプハウスに前記プラズマ放電用電極が一体に設けられていてもよい。
また、エキシマ放電のための高周波電源によって前記プラズマ放電が発生されるものであってもよい。
また、紫外線による洗浄処理のみでは除去することが困難な結合エネルギーが高い化学結合を有する有機化合物についても、プラズマによる洗浄処理によって酸化されるため、確実に除去することができる。
図1は、本発明の照射装置の一例における構成を示す説明用断面図である。
この照射装置は、例えば液晶基板等の被処理体の表面をドライ洗浄処理するために用いられるものであって、波長200nm以下の真空紫外線を放射するエキシマランプ10を有し、このエキシマランプ10は、下面が開口された矩形の箱型のランプハウス20内に配置されている。また、エキシマランプ10の下方には、被処理体Wを水平方向に搬送して移動させる搬送機構30が設けられている。この搬送機構30は、複数の搬送コロ31が被処理体の搬送方向に沿って並ぶよう配置されて構成されている。
放電容器11を構成する材料としては、真空紫外線を良好に透過するもの、具体的には、合成石英ガラスなどのシリカガラス、サファイアガラスなどを用いることができる。
一方の電極12および他方の電極13を構成する材料としては、アルミニウム、ニッケル、金などの金属材料を用いることができる。また、一方の電極12および他方の電極13は、上記の金属材料を含む導電性ペーストをスクリーン印刷することにより、或いは上記の金属材料を真空蒸着することにより、形成することができる。
放電容器11内に封入されるエキシマ用ガスとしては、真空紫外線を放射するエキシマを生成し得るもの、具体的には、キセノン、アルゴン、クリプトン等の希ガス、または、希ガスと、臭素、塩素、ヨウ素、フッ素等のハロゲンガスとを混合した混合ガスなどを用いることができる。
また、エキシマ用ガスの封入圧は、例えば10〜80kPaである。
プラズマ放電用誘電体膜15を構成する材料としては、アルミナ(Al2 O3 )、シリカ(SiO2 )などの誘電体材料を用いることができる。
また、プラズマ放電用誘電体膜15は、一方の電極12の表面に上記の誘電体材料を溶射または溶着することにより形成することができる。
また、放電容器11内における放電容器11における上部側部分11aおよび下部側部分11bとの距離(放電ギャップ)は、0.05〜5mmであることが好ましい。
また、プラズマ放電用誘電体膜15の厚みは、0.01〜4mmであることが好ましい。この厚みが過小である場合には、プラズマ放電用誘電体膜15とプラズマ放電用電極25との間にアーク放電が生じやすくなる。一方、この厚みが過大である場合には、プラズマ放電用誘電体膜15とプラズマ放電用電極25との間にプラズマ放電を発生させることが困難となる。
上板22の内面には、例えばアルミニウムよりなる直方体状のプラズマ放電用電極25が当該上板22に一体に設けられている。このプラズマ放電用電極25には、それぞれ水平方向(図1において紙面に垂直な方向)に貫通して伸びる複数の冷却水管26が設けられている。そして、エキシマランプ10が、その一方の電極12にプラズマ放電用誘電体膜15を介してプラズマ放電用電極25が対向するよう、ランプハウス20内に固定板23によって固定配置されると共に、プラズマ放電用電極25が接地されることにより、エキシマランプ10における一方の電極12およびプラズマ放電用電極25を介してプラズマ発生回路が形成されている。図示の例では、エキシマランプ10におけるエキシマ放電のための高周波電源Pによってプラズマ放電が発生される構成、すなわち、エキシマ放電およびプラズマ放電の両方が共通の高周波電源Pによって行われる構成とされている。
また、上板22の内面におけるプラズマ放電用電極25に隣接する位置には、エキシマランプ10における一方の電極12とプラズマ放電用電極25との間にプラズマ発生用反応性ガスを供給するためのマニーホールド27が設けられ、エキシマランプ10の側方位置には、一方の電極12とプラズマ放電用電極25との間を流過したガスを下方に案内する案内部材28が設けられている。
プラズマ発生用反応性ガスとしては、窒素ガス(N2 )、アルゴンガス(Ar)、炭酸ガス(CO2 )、ヘリウムガス(He)などを主成分とし、酸素ガスが1〜2体積%含有してなるものを用いることが好ましい。
また、プラズマ発生用反応性ガスの単位長さ当りの流量は、1m当り0.5〜4m3 /sであることが好ましい。
一方、エキシマランプ10における一方の電極12とプラズマ放電用電極25との間には、当該一方の電極12を高圧側電極とし、プラズマ放電用電極25を接地側電極として、大気圧またはその近傍の圧力下において、高周波電源Pによって高周波電界が印加され、当該高周波電界によって、プラズマ放電用誘電体膜15とプラズマ放電用電極25との間にプラズマ放電(グロー放電)が発生し、このプラズマ放電によってプラズマ発生用反応性ガスが電離または励起されてプラズマが生成される。
以上において、高周波電源Pから供給される電力は、その周波数が10〜100kHzの高周波であることが好ましく、その電圧は1kVrms〜数10kVrmsの高電圧であることが好ましい。これにより、プラズマ放電用誘電体膜15とプラズマ放電用電極25との間の放電状態が、グロー放電からアーク放電に移行することがなく、プラズマ放電を安定に維持することができる。
また、エキシマ放電およびプラズマ放電の開始電圧は、放電空間の圧力、放電ギャップの大きさ、ガスの種類等によって定まるが、プラズマ放電の開始電圧がエキシマ放電の開始電圧が高く、プラズマ放電がエキシマ放電より例えば数マイクロ秒間遅延して発生するよう設定されることが好ましい。このような条件が満足されることにより、エキシマ放電による真空紫外線が放射されることによって光電子が生ずるため、プラズマ放電を容易にかつ安定に発生させることができる。
ここで、有機化合物中におけるC−C結合、C−H結合、C=C結合などの化学結合は、結合エネルギーが比較的に低いため、真空紫外線のエネルギーによって切断することができ、更に、真空紫外線によって発生した活性酸素と反応することによって酸化してガス化することができる。一方、C=O結合などの化学結合は、結合エネルギーが高いため、真空紫外線のエネルギーによって切断することができないが、プラズマ放電によって発生した酸素ラジカルなどによって酸化してガス化することができる。
このようして、被処理体Wについて、真空紫外線による洗浄処理およびプラズマによる洗浄処理が行われる。
また、真空紫外線による洗浄処理のみでは除去することが困難な結合エネルギーが高い化学結合を有する有機化合物についても、プラズマによる洗浄処理によって酸化されてガス化されるため、確実に除去することができる。
(1)図2に示すように、プラズマ放電用誘電体膜15の表面に、多数の電界集中用凸部15aを形成することができ、また、図3に示すように、プラズマ放電用電極25の表面に多数の電界集中用凸部25aを形成することができる。
このような照射装置においては、プラズマ放電用誘電体膜15の電界集中用凸部15aとプラズマ放電用電極25とが、或いはプラズマ放電用誘電体膜15とプラズマ放電用電極25の電界集中用凸部25aとが離間していても接触していてもよく、その離間距離が2mm以下であることが好ましい。また、プラズマ放電用誘電体膜15の電界集中用凸部15aまたはプラズマ放電用電極25の電界集中用凸部25aの突出高さは、それぞれ3〜10mmであることが好ましい。
このような構成によれば、プラズマ放電用誘電体膜15の電界集中用凸部15aとプラズマ放電用電極25との間、或いはプラズマ放電用誘電体膜15とプラズマ放電用電極25の電界集中用凸部25aとの間に高周波電界が集中して発生し、沿面放電および平等電界型放電が複合した放電状態が得られるため、プラズマ放電のための始動開始電圧を低くすることができ、また、作動中に放電容器11の熱膨張が生じることによりプラズマ放電用誘電体膜15とプラズマ放電用電極25との距離が変化した場合にも、プラズマ放電を安定に維持することができる。
(3)図6に示すように、プラズマ放電用誘電体膜15は、プラズマ放電用電極25の表面に形成されていてもよい。
このような構成によれば、一方の電極12と放電容器11における下部側部分11bとの間にエキシマ放電が発生すると共に、一方の電極12と放電容器11における上部側部分11aとの間にエキシマ放電が発生する。従って、一方の電極12とプラズマ放電用電極25との間には、エキシマ放電およびプラズマ放電の両方が発生した状態となるため、放電状態の制御が容易となる。
(6)図1に示す照射装置においては、エキシマランプ10における一方の電極12が高圧側電極とされ、プラズマ放電用電極25が接地側電極とされているが、プラズマ放電用電極25が高圧側電極とされた構成であってもよい。
11 放電容器
11a 上部側部分
11b 下部側部分
12 一方の電極
13 他方の電極
15 プラズマ放電用誘電体膜
15a 電界集中用凸部
20 ランプハウス
21 側壁部材
22 上板
23 固定板
25 プラズマ放電用電極
25a 電界集中用凸部
26 冷却水管
27 マニーホールド
28 案内部材
30 搬送機構
31 搬送コロ
P 高周波電源
W 被処理体
Claims (5)
- 放電容器および一対の電極を有するエキシマランプと、このエキシマランプにおける一方の電極に誘電体を介して対向するよう配置されたプラズマ放電用電極とを備え、前記エキシマランプにおける前記一方の電極および前記プラズマ放電用電極を介してプラズマ発生回路が形成されてなり、
前記エキシマランプにおける一対の電極間に印加される高周波電界によって前記放電容器内にエキシマ放電が発生されると共に、前記エキシマランプと前記プラズマ放電用電極との間にプラズマ発生用反応性ガスが流過された状態で、当該エキシマランプにおける前記一方の電極と当該プラズマ放電用電極との間に印加された高周波電界によってプラズマ放電が発生されることを特徴とする照射装置。 - 前記誘電体の表面に、電界集中用凸部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の照射装置。
- 前記プラズマ放電用電極の表面に、電界集中用凸部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の照射装置。
- 前記エキシマランプが配置されるランプハウスを備えてなり、当該ランプハウスに前記プラズマ放電用電極が一体に設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の照射装置。
- エキシマ放電のための高周波電源によって前記プラズマ放電が発生されることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の照射装置。
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