|
NL2007604C2
(en)
*
|
2011-10-14 |
2013-05-01 |
Mapper Lithography Ip Bv |
Charged particle system comprising a manipulator device for manipulation of one or more charged particle beams.
|
|
TWI477925B
(zh)
*
|
2011-10-04 |
2015-03-21 |
Nuflare Technology Inc |
Multi - beam charged particle beam mapping device and multi - beam charged particle beam rendering method
|
|
JP2013236053A
(ja)
*
|
2012-04-13 |
2013-11-21 |
Canon Inc |
荷電粒子光学系、描画装置及び物品の製造方法
|
|
CN104428866A
(zh)
|
2012-05-14 |
2015-03-18 |
迈普尔平版印刷Ip有限公司 |
带电粒子光刻系统和射束产生器
|
|
US10586625B2
(en)
|
2012-05-14 |
2020-03-10 |
Asml Netherlands B.V. |
Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator
|
|
US11348756B2
(en)
|
2012-05-14 |
2022-05-31 |
Asml Netherlands B.V. |
Aberration correction in charged particle system
|
|
JP2014116518A
(ja)
*
|
2012-12-11 |
2014-06-26 |
Canon Inc |
描画装置及び物品の製造方法
|
|
US8890092B2
(en)
*
|
2013-01-28 |
2014-11-18 |
Industry—University Cooperation Foundation Sunmoon University |
Multi-particle beam column having an electrode layer including an eccentric aperture
|
|
JP2015070213A
(ja)
*
|
2013-09-30 |
2015-04-13 |
キヤノン株式会社 |
描画装置、および物品の製造方法
|
|
JP6262024B2
(ja)
*
|
2014-03-04 |
2018-01-17 |
株式会社ニューフレアテクノロジー |
マルチ荷電粒子ビーム描画装置
|
|
US9390891B2
(en)
*
|
2014-08-15 |
2016-07-12 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. |
Apparatus for charged particle lithography system
|
|
DE102015202172B4
(de)
|
2015-02-06 |
2017-01-19 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Teilchenstrahlsystem und Verfahren zur teilchenoptischen Untersuchung eines Objekts
|
|
KR102480232B1
(ko)
*
|
2016-01-27 |
2022-12-22 |
에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. |
복수의 하전 입자 빔들의 장치
|
|
JP6727021B2
(ja)
*
|
2016-04-26 |
2020-07-22 |
株式会社ニューフレアテクノロジー |
マルチ荷電粒子ビーム照射装置、マルチ荷電粒子ビームの照射方法及びマルチ荷電粒子ビームの調整方法
|
|
JP6957998B2
(ja)
*
|
2017-06-07 |
2021-11-02 |
株式会社ニューフレアテクノロジー |
マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム調整方法
|
|
DE102018202421B3
(de)
|
2018-02-16 |
2019-07-11 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem
|
|
DE102018202428B3
(de)
|
2018-02-16 |
2019-05-09 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Vielstrahl-Teilchenmikroskop
|
|
WO2019166331A2
(en)
|
2018-02-27 |
2019-09-06 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Charged particle beam system and method
|
|
US10811215B2
(en)
|
2018-05-21 |
2020-10-20 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Charged particle beam system
|
|
DE102018115012A1
(de)
|
2018-06-21 |
2019-12-24 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Teilchenstrahlsystem
|
|
DE102018007455B4
(de)
|
2018-09-21 |
2020-07-09 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Verfahren zum Detektorabgleich bei der Abbildung von Objekten mittels eines Mehrstrahl-Teilchenmikroskops, System sowie Computerprogrammprodukt
|
|
DE102018007652B4
(de)
|
2018-09-27 |
2021-03-25 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Teilchenstrahl-System sowie Verfahren zur Stromregulierung von Einzel-Teilchenstrahlen
|
|
DE102018124044B3
(de)
|
2018-09-28 |
2020-02-06 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenstrahlmikroskops und Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem
|
|
DE102018124219A1
(de)
|
2018-10-01 |
2020-04-02 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem und Verfahren zum Betreiben eines solchen
|
|
TWI743626B
(zh)
|
2019-01-24 |
2021-10-21 |
德商卡爾蔡司多重掃描電子顯微鏡有限公司 |
包含多束粒子顯微鏡的系統、對3d樣本逐層成像之方法及電腦程式產品
|
|
CN111477530B
(zh)
|
2019-01-24 |
2023-05-05 |
卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司 |
利用多束粒子显微镜对3d样本成像的方法
|
|
DE102019004124B4
(de)
|
2019-06-13 |
2024-03-21 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Teilchenstrahl-System zur azimutalen Ablenkung von Einzel-Teilchenstrahlen sowie seine Verwendung und Verfahren zur Azimut-Korrektur bei einem Teilchenstrahl-System
|
|
DE102019005362A1
(de)
|
2019-07-31 |
2021-02-04 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Verfahren zum Betreiben eines Vielzahl-Teilchenstrahlsystems unter Veränderung der numerischen Apertur, zugehöriges Computerprogrammprodukt und Vielzahl-Teilchenstrahlsystem
|
|
DE102019008249B3
(de)
|
2019-11-27 |
2020-11-19 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Teilchenstrahl-System mit einer Multistrahl-Ablenkeinrichtung und einem Strahlfänger, Verfahren zum Betreiben des Teilchenstrahl-Systems und zugehöriges Computerprogrammprodukt
|
|
CN115053320B
(zh)
|
2020-02-04 |
2025-08-12 |
卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司 |
多光束数字扫描以及图像获取
|
|
DE102020115183A1
(de)
|
2020-06-08 |
2021-12-09 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Teilchenstrahlsystem mit Multiquellensystem
|
|
TW202220012A
(zh)
*
|
2020-09-30 |
2022-05-16 |
德商卡爾蔡司多重掃描電子顯微鏡有限公司 |
在可調工作距離附近具快速自動對焦之多重粒子束顯微鏡及相關方法
|
|
DE102021200799B3
(de)
|
2021-01-29 |
2022-03-31 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Verfahren mit verbesserter Fokuseinstellung unter Berücksichtigung eines Bildebenenkipps in einem Vielzahl-Teilchenstrahlmikroskop
|
|
US11615939B2
(en)
*
|
2021-03-24 |
2023-03-28 |
Kla Corporation |
Shaped aperture set for multi-beam array configurations
|
|
DE102021116969B3
(de)
|
2021-07-01 |
2022-09-22 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Verfahren zur bereichsweisen Probeninspektion mittels eines Vielstrahl-Teilchenmikroskopes, Computerprogrammprodukt und Vielstrahl-Teilchenmikroskop zur Halbleiterprobeninspektion
|
|
DE102021122388A1
(de)
*
|
2021-08-30 |
2023-03-02 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Teilchenstrahlsäule
|
|
US11651934B2
(en)
*
|
2021-09-30 |
2023-05-16 |
Kla Corporation |
Systems and methods of creating multiple electron beams
|