JP2012235087A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012235087A5 JP2012235087A5 JP2012038947A JP2012038947A JP2012235087A5 JP 2012235087 A5 JP2012235087 A5 JP 2012235087A5 JP 2012038947 A JP2012038947 A JP 2012038947A JP 2012038947 A JP2012038947 A JP 2012038947A JP 2012235087 A5 JP2012235087 A5 JP 2012235087A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- control
- job
- control job
- recipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 49
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 8
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 claims 6
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims 4
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims 1
Images
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012038947A JP5821689B2 (ja) | 2011-04-20 | 2012-02-24 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
| TW101113942A TWI525733B (zh) | 2011-04-20 | 2012-04-19 | A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a memory medium |
| KR1020120040979A KR101842242B1 (ko) | 2011-04-20 | 2012-04-19 | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 |
| US13/450,590 US9396978B2 (en) | 2011-04-20 | 2012-04-19 | Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011094015 | 2011-04-20 | ||
| JP2011094015 | 2011-04-20 | ||
| JP2012038947A JP5821689B2 (ja) | 2011-04-20 | 2012-02-24 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012235087A JP2012235087A (ja) | 2012-11-29 |
| JP2012235087A5 true JP2012235087A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | 2014-03-06 |
| JP5821689B2 JP5821689B2 (ja) | 2015-11-24 |
Family
ID=47021940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012038947A Active JP5821689B2 (ja) | 2011-04-20 | 2012-02-24 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9396978B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| JP (1) | JP5821689B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| KR (1) | KR101842242B1 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| TW (1) | TWI525733B (cg-RX-API-DMAC7.html) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5006122B2 (ja) | 2007-06-29 | 2012-08-22 | 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ | 基板処理装置 |
| JP5128918B2 (ja) | 2007-11-30 | 2013-01-23 | 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ | 基板処理装置 |
| JP5179170B2 (ja) | 2007-12-28 | 2013-04-10 | 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ | 基板処理装置 |
| JP5001828B2 (ja) | 2007-12-28 | 2012-08-15 | 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ | 基板処理装置 |
| JP6097569B2 (ja) * | 2013-01-17 | 2017-03-15 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎセミコンダクターソリューションズ | 基板処理装置および基板処理列制御方法 |
| JP5987796B2 (ja) * | 2013-07-24 | 2016-09-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
| JP6216193B2 (ja) * | 2013-09-11 | 2017-10-18 | 株式会社荏原製作所 | ユニット制御盤、基板の受け渡しテスト方法、及び基板処理装置 |
| US10079206B2 (en) | 2016-10-27 | 2018-09-18 | Mapper Lithography Ip B.V. | Fabricating unique chips using a charged particle multi-beamlet lithography system |
| US10714427B2 (en) | 2016-09-08 | 2020-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Secure chips with serial numbers |
| JP7170438B2 (ja) * | 2018-07-03 | 2022-11-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び判定方法 |
| WO2020196506A1 (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP7235597B2 (ja) * | 2019-06-03 | 2023-03-08 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
| JP7454467B2 (ja) * | 2020-08-03 | 2024-03-22 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理システム、基板処理システムの制御装置及び基板処理システムの運転方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6714832B1 (en) * | 1996-09-11 | 2004-03-30 | Hitachi, Ltd. | Operating method of vacuum processing system and vacuum processing system |
| JP2001093791A (ja) * | 1999-09-20 | 2001-04-06 | Hitachi Ltd | 真空処理装置の運転方法及びウエハの処理方法 |
| US6618682B2 (en) * | 2001-04-20 | 2003-09-09 | International Business Machines Corporation | Method for test optimization using historical and actual fabrication test data |
| US8257013B2 (en) * | 2004-11-24 | 2012-09-04 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Substrate treatment apparatus |
| US9305814B2 (en) * | 2004-12-20 | 2016-04-05 | Tokyo Electron Limited | Method of inspecting substrate processing apparatus and storage medium storing inspection program for executing the method |
| JP4560022B2 (ja) * | 2006-09-12 | 2010-10-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の制御方法並びに記憶媒体 |
| JP4828503B2 (ja) * | 2007-10-16 | 2011-11-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板搬送方法、コンピュータプログラムおよび記憶媒体 |
| JP5552265B2 (ja) * | 2009-06-24 | 2014-07-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置の制御方法及び記憶媒体 |
| JP5575507B2 (ja) * | 2010-03-02 | 2014-08-20 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、基板搬送方法、半導体装置の製造方法および基板処理装置のメンテナンス方法 |
-
2012
- 2012-02-24 JP JP2012038947A patent/JP5821689B2/ja active Active
- 2012-04-19 TW TW101113942A patent/TWI525733B/zh active
- 2012-04-19 KR KR1020120040979A patent/KR101842242B1/ko active Active
- 2012-04-19 US US13/450,590 patent/US9396978B2/en active Active