JP2012231030A - ディゲート方法、ディゲート装置、トランスファモールド装置、および半導体パッケージの製造方法 - Google Patents
ディゲート方法、ディゲート装置、トランスファモールド装置、および半導体パッケージの製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】トランスファモールドによるレンズ86を含むワークWから、ワークWで接続された成形品ランナ91などの不要樹脂を分離するディゲート方法であって、(a)成形品ランナ91などの不要樹脂が接続されている箇所を除いてワークWを上下からクランプして、成形品ランナ91などの不要樹脂を浮かせた状態とする工程と、(b)上下方向の一方から他方へ浮いた状態の成形品ランナ91などの不要樹脂を押し続けて、ワークWから成形品ランナ91などの不要樹脂を引き千切る工程と、を含む。
【選択図】図22
Description
本実施形態では、半導体チップを封止してなる半導体パッケージとして、発光ダイオードチップ(以下、LEDチップという)を封止してなる発光ダイオードパッケージ(以下、LEDパッケージという)について説明する。このLEDパッケージは、基板としてのリードフレーム上に実装されたLEDチップと、その周囲に形成され、LEDチップが発光した光を反射するリフレクタと、LEDチップおよびリフレクタを封止し、集光して外部に光を放出するレンズとを備えてなるものである。
前記実施形態1では、レンズ86の形成工程(ステップS60)において、金型ランナ92および金型カル94が上型87に設けられたモールド金型8Bを用いて形成された上ランナゲートのワークW(図14、図15参照)のディゲート方法について説明した。本実施形態では、レンズ86の形成工程(ステップS60)において、図30および図31に示すように、金型ランナおよび金型カルが下型に設けられたモールド金型を用いて形成された下ランナゲートのワークWのディゲート方法について説明する。図30ではリードフレーム53、53の下面51側の平面、図31では上面52側の平面を示している。図30および図31に示す下ランナゲートのワークWでは、リードフレーム53の下面51側にポット内樹脂102が存在する。
66 リフレクタ
86 レンズ
91 成形品ランナ
93 成形品カル
W ワーク
Claims (14)
- トランスファモールドによる成形品を含むワークから、前記ワークで接続された不要樹脂を分離するディゲート方法であって、
(a)前記不要樹脂が接続されている箇所を除いて前記ワークを上下からクランプして、前記不要樹脂を浮かせた状態とする工程と、
(b)上下方向の一方から他方へ浮いた状態の前記不要樹脂を押し続けて、前記ワークから前記不要樹脂を引き千切る工程と、
を含むことを特徴とするディゲート方法。 - 請求項1記載のディゲート方法において、
前記(b)工程では、前記不要樹脂をクランプして前記不要樹脂を押し続けることを特徴とするディゲート方法。 - トランスファモールドによる成形品を含むワークから、前記ワークで接続された不要樹脂を分離するディゲート装置であって、
前記ワークが載置され、前記不要樹脂が対応する位置に空間が設けられたパレットと、
前記ワークを押さえつけ、前記不要樹脂が対応する位置に空間が設けられたハンドと、
前記パレットおよびハンドの空間内を可動するプッシャと、を備え、
前記パレットおよび前記ハンドは、前記不要樹脂が接続されている箇所を除いて前記ワークを上下からクランプし、
前記プッシャは、上下方向の一方から他方へ動いて、浮いた状態の前記不要樹脂を押し続けて、前記ワークから前記不要樹脂を引き千切ることを特徴とするディゲート装置。 - 請求項3記載のディゲート装置において、
前記プッシャには、前記不要樹脂を吸引する吸引孔が設けられていることを特徴とするディゲート装置。 - 請求項3記載のディゲート装置において、
前記不要樹脂を前記プッシャとでクランプする補助プッシャを備えていることを特徴とするディゲート装置。 - 請求項5記載のディゲート装置において、
前記補助プッシャには、前記不要樹脂を吸引する吸引孔が設けられていることを特徴とするディゲート装置。 - 請求項3〜6のいずれか一項に記載のディゲート装置において、
前記不要樹脂に対して前記プッシャの当接する当接面が、傾斜していることを特徴とするディゲート装置。 - 請求項3〜7のいずれか一項に記載のディゲート装置と、前記ワークが形成されるモールド金型とを備えたトランスファモールド装置において、
前記モールド金型は、金型キャビティおよび金型ランナを有しており、型締めによりクランプされた基板に対して、前記金型ランナを介して前記金型キャビティへ溶融した樹脂を圧送して加熱硬化させて前記ワークを形成し、
前記ディゲート装置は、前記金型ランナで硬化した樹脂を前記不要樹脂として、前記ワークから分離することを特徴とするトランスファモールド装置。 - 請求項8記載のトランスファモールド装置において、
クランプされて前記金型ランナと接する前記基板の面に、疎水性のプラズマ処理を施す大気圧プラズマ処理装置が、前記モールド金型にワークを供給するフレーム供給部に設けられていることを特徴とするトランスファモールド装置。 - (a)基板を準備する工程と、
(b)前記基板に半導体チップを実装する工程と、
(c)金型キャビティおよび金型ランナを有するモールド金型で、前記半導体チップを前記金型キャビティで内包するように前記基板をクランプし、前記金型ランナを介して前記金型キャビティへ溶融した樹脂を圧送して加熱硬化させて、トランスファモールドによる成形品を含むワークを形成する工程と、
(d)前記金型ランナで硬化して前記ワーク上で接続された不要樹脂を、前記ワークから分離する工程と、
を含む半導体パッケージの製造方法であって、
前記(d)工程は、
(d1)前記不要樹脂が接続されている箇所を除いて前記ワークを上下からクランプして、前記不要樹脂を浮かせた状態とする工程と、
(d2)上下方向の一方から他方へ浮いた状態の前記不要樹脂を押し続けて、前記ワークから前記不要樹脂を引き千切る工程と、
を含むことを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 - 請求項10記載の半導体パッケージの製造方法において、
前記(d2)工程では、前記不要成形品ランナをクランプして前記不要成形品ランナを押し続けることを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 - 請求項10または11記載の半導体パッケージの製造方法において、
前記(c)工程では、前記基板の厚さ方向に貫通する貫通孔を介して前記金型ランナと前記金型キャビティを連通させて前記基板をクランプし、前記貫通孔により溶融した樹脂を前記金型ランナと接する面から前記金型キャビティと接する面にまわして前記金型キャビティへ圧送することを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 - 請求項10、11または12記載の半導体パッケージの製造方法において、
前記(b)工程前に、前記(c)工程でクランプされて前記金型キャビティと接する前記基板の面に、親水性のプラズマ処理を施すことを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 - 請求項10〜13のいずれか一項に記載の半導体パッケージの製造方法において、
前記(c)工程前に、前記(c)工程でクランプされて前記金型ランナと接する前記基板の面に、疎水性のプラズマ処理を施すことを特徴とする半導体パッケージの製造方法。
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