JP2012227318A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2012227318A5
JP2012227318A5 JP2011092765A JP2011092765A JP2012227318A5 JP 2012227318 A5 JP2012227318 A5 JP 2012227318A5 JP 2011092765 A JP2011092765 A JP 2011092765A JP 2011092765 A JP2011092765 A JP 2011092765A JP 2012227318 A5 JP2012227318 A5 JP 2012227318A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
coating liquid
coating
light
semi
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011092765A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2012227318A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2011092765A priority Critical patent/JP2012227318A/ja
Priority claimed from JP2011092765A external-priority patent/JP2012227318A/ja
Publication of JP2012227318A publication Critical patent/JP2012227318A/ja
Publication of JP2012227318A5 publication Critical patent/JP2012227318A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2011092765A 2011-04-19 2011-04-19 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、基板処理装置及びインプリントシステム Pending JP2012227318A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011092765A JP2012227318A (ja) 2011-04-19 2011-04-19 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、基板処理装置及びインプリントシステム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011092765A JP2012227318A (ja) 2011-04-19 2011-04-19 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、基板処理装置及びインプリントシステム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012227318A JP2012227318A (ja) 2012-11-15
JP2012227318A5 true JP2012227318A5 (es) 2013-07-18

Family

ID=47277153

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011092765A Pending JP2012227318A (ja) 2011-04-19 2011-04-19 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、基板処理装置及びインプリントシステム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012227318A (es)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014093385A (ja) * 2012-11-02 2014-05-19 Fujifilm Corp インプリント用密着膜の製造方法およびパターン形成方法
JP5677603B2 (ja) * 2012-11-26 2015-02-25 東京エレクトロン株式会社 基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体
JP5543633B2 (ja) 2012-11-26 2014-07-09 東京エレクトロン株式会社 基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体
JP6339341B2 (ja) * 2013-10-11 2018-06-06 平田機工株式会社 処理システム及び処理方法
JP6632270B2 (ja) * 2014-09-08 2020-01-22 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP7009122B2 (ja) * 2017-09-05 2022-01-25 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
CN114929158B (zh) * 2020-03-17 2023-10-20 株式会社德山齿科 有床义齿的制造方法、光成型用固化性组合物以及有床义齿制造用套件

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050260522A1 (en) * 2004-02-13 2005-11-24 William Weber Permanent resist composition, cured product thereof, and use thereof
JP2007069462A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Tdk Corp マスク形成方法および情報記録媒体製造方法
JP2009073958A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Fujifilm Corp ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物、それを用いた硬化物作成方法、および、硬化物
JP5231366B2 (ja) * 2009-09-09 2013-07-10 東京エレクトロン株式会社 テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒、テンプレート処理装置及びインプリントシステム

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012227318A5 (es)
JP2014027016A5 (ja) インプリント装置、インプリント方法、および、物品製造方法
US9346303B2 (en) System and method to apply topping materials to print products
US8609204B2 (en) Apparatus and method for solid freeform fabrication
JP6122107B2 (ja) 三次元成形体を構築する方法
JP2011176132A5 (es)
CN102019779B (zh) 立体图纹制作方法
TW201904775A (zh) 物體裝飾裝置及其方法
JP2009516222A5 (es)
JP2012146951A5 (es)
JP2014120604A5 (es)
JP2015062259A5 (ja) 基板洗浄システムおよび基板洗浄方法
TWI605879B (zh) 輥塗方法及裝置
JP2015531697A5 (es)
JP2020089874A5 (es)
JP2014046688A5 (es)
JP2012238674A5 (es)
TWI610793B (zh) 壓印裝置及模板
JP2008098520A5 (es)
SG143178A1 (en) Lithographic apparatus, device manufacturing method and computer program product
WO2022246305A1 (en) Increasing throughput in additive manufacturing using a rotating build platform
JP2012061856A5 (es)
CN104690955A (zh) 制造立体光栅的方法及装置
JP2010099969A (ja) 転写箔の製造方法
JP6607602B2 (ja) 装飾方法