JP2012226891A - 有機ｅｌ装置およびその製造方法、電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】陽極と陰極の間に異なる発光色の発光機能層を有する発光素子を有し、所望の発光機能層を選択的または支配的に発光させることが可能な有機ＥＬ装置およびその製造方法、電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の有機ＥＬ装置は、陽極３Ｒ，３Ｇと共通陰極８との間に設けられた第１の色を発光する機能を有する第１の層としての発光機能層５Ｒ，５Ｇおよび第２の色を発光する機能を有する第２の層としての発光機能層５Ｂと、発光機能層５Ｒ，５Ｇと発光機能層５Ｂとの間に設けられた第３の層としての中間層６１とを有し、第１の色を発光する第１発光素子１Ｒ，１Ｇと、陽極３Ｂと共通陰極８との間に設けられた発光機能層５Ｂを有する第２発光素子１Ｂと、を備え、発光機能層５Ｒ，５Ｇおよび中間層６１が液相プロセスを用いて形成され、発光機能層５Ｂが気相プロセスを用いて形成され、中間層６１は電子注入材料が分散された有機物からなる。
【選択図】図４

Description

本発明は、有機ＥＬ装置およびその製造方法、電子機器に関するものである。

各色に発光する有機ＥＬ素子が備える赤色発光層と緑色発光層とを塗布法で形成し、青色発光層を真空蒸着法（蒸着法）で形成した有機ＥＬ装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
インクジェット法のような塗布法を用いて作製された、赤色および緑色に発光する有機ＥＬ素子では、実用レベルの発光寿命（輝度寿命）や発光効率（電流効率または外部量子効率）を有するものの、青色に発光する有機ＥＬ素子では、実用レベルの発光寿命や発光効率に達しないことが多い。
これに対して、真空蒸着法を用いて作製された青色に発光する有機ＥＬ素子は、塗布法を用いて作製されたものと比較して、その発光寿命が数倍以上長く、実用レベルに達している。つまり、インクジェット法のような液相プロセスを用いて作製されたある発光色の有機ＥＬ素子が、実用レベルの発光寿命や発光効率に達しない場合でも、真空蒸着法のような気相プロセスを用いて作製された同様の発光色の有機ＥＬ素子は、実用レベルの発光寿命や発光効率を有する場合がある。

このような有機ＥＬ装置において、赤色有機ＥＬ素子（赤色画素）および緑色有機ＥＬ素子（緑色画素）は、それぞれ、これらが有する赤色発光層および緑色発光層上に、真空蒸着法を用いて青色発光層が形成された構成、すなわち、赤色発光層および緑色発光層を含む全面に、真空蒸着法により青色発光層が形成された構成となっている。そのため、かかる構成の有機ＥＬ装置の製造方法は、高精細マスクを用いて、青色有機ＥＬ素子（青色画素）のみに選択的に青色発光層を蒸着（成膜）する必要がないことから、大型の有機ＥＬ装置の製造に最適である。

特開２００７−７３５３２号公報

上記特許文献１の有機ＥＬ装置は、赤色有機ＥＬ素子および緑色有機ＥＬ素子において、青色発光層は、それぞれ、赤色発光層および緑色発光層上に接触して設けられているため、青色発光層から、赤色発光層および緑色発光層へ、電子が十分注入されない場合が多い。
そのため、赤色有機ＥＬ素子（赤色画素）および緑色有機ＥＬ素子（緑色画素）において、意図しない青色発光層が発光することにより、それぞれ、赤色および緑色としての色純度が低くなってしまうことがあった。

すなわち、陰極と陽極の間に複数の発光する機能を有する層（発光機能層）を備えた有機ＥＬ素子において、上記発光機能層のうち、所望の層を選択的または支配的に発光させる有機ＥＬ装置を実現することが困難であるという課題があった。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例１］本適用例に係る有機ＥＬ装置は、第１陽極と共通陰極との間に設けられた第１の色を発光する機能を有する第１の層および第２の色を発光する機能を有する第２の層と、前記第１の層と前記第２の層との間に設けられた第３の層とを有し、前記第１の色を発光する第１発光素子と、第２陽極と前記共通陰極との間に設けられた前記第２の層を有し、前記第２の色を発光する第２発光素子と、を備え、前記第１の層および前記第３の層が液相プロセスを用いて形成され、前記第２の層が気相プロセスを用いて形成され、前記第３の層は、電子注入材料が分散された有機物からなることを特徴とする。

本適用例によれば、第１発光素子において、第１の層と第２の層との間に設けられた第３の層が電子注入材料が分散された有機物からなるため、第２の層における第２の色の発光に比べて第１の層における第１の色の発光を選択的または支配的に発光させることができる。つまり、第１発光素子と第２発光素子とにおいて所望の層を選択的または支配的に発光させることが可能な有機ＥＬ装置を提供することができる。
また、第３の層が電子注入材料が分散された有機物からなるため、電子注入材料単体からなる場合よりも電子注入材料が凝集し難いので、安定したキャリア制御が可能となる。

［適用例２］本適用例に係る他の有機ＥＬ装置は、第１陽極と共通陰極との間に設けられた第１の色を発光する機能を有する第１の層および第２の色を発光する機能を有する第２の層と、前記第１の層と前記第２の層との間に設けられた第３の層とを有し、前記第１の色を発光する第１発光素子と、第２陽極と前記共通陰極との間に設けられた前記第２の層と、前記第２陽極と前記第２の層との間に設けられた前記第３の層とを有し、前記第２の色を発光する第２発光素子と、を備え、前記第１の層および前記第３の層が液相プロセスを用いて形成され、前記第２の層が気相プロセスを用いて形成され、前記第３の層は、電子注入材料が分散された有機物からなることを特徴とする。

本適用例によれば、第１発光素子において第１の層を選択的または支配的に発光させることができることに加えて、第２発光素子において第２陽極と第２の層との間に電子注入材料が分散された有機物からなる第３の層が設けられているので、第２の層にキャリアを留める働きが生じ発光効率を向上させることができる。
また、第３の層が電子注入材料が分散された有機物からなるため、電子注入材料単体からなる場合よりも電子注入材料が凝集し難いので、安定したキャリア制御が可能となる。

［適用例３］上記適用例に記載の有機ＥＬ装置において、前記第１陽極と前記第１の層との間および前記第２陽極と前記第２の層との間に設けられた第１正孔輸送層と、前記第３の層と前記第２の層との間に設けられた第２正孔輸送層とを有することが好ましい。
これによれば、第１発光素子の第１の層に第１正孔輸送層から正孔が効率よく輸送され、第２発光素子の第２の層に第２正孔輸送層から正孔が効率よく輸送される。したがって、第１発光素子および第２発光素子における発光効率をさらに高めることができる。

［適用例４］上記適用例に記載の有機ＥＬ装置において、前記第１の層と前記第３の層とが接して積層されていることが好ましい。
これによれば、第３の層から第１の層に電子を注入する機能をより強化できる。

［適用例５］上記適用例に記載の有機ＥＬ装置において、前記電子注入材料がアルカリ金属、アルカリ土類金属、若しくはそれらの化合物で構成されることが好ましい。
これによれば、第３の層がアルカリ金属、アルカリ土類金属、若しくはそれらの化合物が分散された有機物からなるため、少なくとも第３の層から第１の層への電子の注入性をより向上させることができる。

［適用例６］上記適用例に記載の有機ＥＬ装置において、前記有機物が水溶性の高分子化合物であることを特徴とする。
これによれば、第３の層において電子注入材料が有機物中に均一に分散された状態となり、これによって安定したキャリア制御が可能となる。また、高分子化合物を用いていることから第３の層の形成が容易となる。

［適用例７］上記適用例に記載の有機ＥＬ装置において、前記有機物が水溶性の低分子化合物であることを特徴とする。
これによれば、第３の層において電子注入材料が有機物中に均一に分散された状態となり、これによってより安定したキャリア制御が可能となる。また、低分子化合物を用いていることから、例えばインクジェット法などの液体吐出法を用いて所望の位置に、所望の厚みを有する第３の層を形成することができる。

［適用例８］上記適用例に記載の有機ＥＬ装置において、前記第１の色が赤色または緑色であって、前記第２の色が青色であることを特徴とする。
これによれば、フルカラーの発光が得られる有機ＥＬ装置を提供することができる。

［適用例９］本適用例の有機ＥＬ装置の製造方法は、第１陽極上と第２陽極上とにそれぞれ第１正孔輸送層を形成する工程と、前記第１陽極側の前記第１正孔輸送層上に第１の色を発光する機能を有する第１の層を液相プロセスを用いて形成する工程と、前記第１の層上に電子注入材料が分散された有機物からなる第３の層を液相プロセスを用いて形成する工程と、前記第３の層上および前記第２陽極側の前記第１正孔輸送層上に第２の色を発光する機能を有する第２の層をマスクレスの気相プロセスを用いて形成する工程と、前記第２の層上に共通陰極を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。

本適用例によれば、第１陽極と共通陰極との間において、第１の層と第２の層との間に形成される第３の層が電子注入材料が分散された有機物からなるため、第２の層における第２の色の発光に比べて第１の層における第１の色の発光を選択的または支配的に発光させることができる。つまり、第１陽極および第２陽極と共通陰極との間において、所望の層を選択的または支配的に発光させることが可能な有機ＥＬ装置を製造することができる。
また、第１の層および第３の層の形成に液相プロセスが用いられ、第２の層の形成にマスクレスの気相プロセスを用いるので、高い生産性を確保して異なる発光色が得られる複数の発光素子を有する有機ＥＬ装置を製造することができる。
また、第３の層が電子注入材料が分散された有機物を用いて形成されるため、電子注入材料単体からなる場合よりも電子注入材料が凝集し難いので、安定したキャリア制御が可能となる。

［適用例１０］本適用例の他の有機ＥＬ装置の製造方法は、第１陽極上と第２陽極上とにそれぞれ第１正孔輸送層を形成する工程と、前記第１陽極側の前記第１正孔輸送層上に第１の色を発光する機能を有する第１の層を液相プロセスを用いて形成する工程と、前記第１の層上と前記第２陽極側の前記第１正孔輸送層上とに電子注入材料が分散された有機物からなる第３の層を液相プロセスを用いて形成する工程と、前記第３の層上に第２の色を発光する機能を有する第２の層をマスクレスの気相プロセスを用いて形成する工程と、前記第２の層上に共通陰極を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。

本適用例によれば、第１陽極と共通陰極との間において第１の層を選択的または支配的に発光させることができること、また高い生産性を確保して複数の発光素子を有する有機ＥＬ装置を製造できることに加えて、第２陽極と共通陰極との間において第２陽極と第２の層との間に電子注入材料が分散された有機物からなる第３の層が形成されるので、第２の層にキャリアを留める働きが生じ、第２の層における発光効率を向上させた有機ＥＬ装置の製造方法を提供できる。
また、第３の層が電子注入材料が分散された有機物を用いて形成されるため、電子注入材料単体からなる場合よりも電子注入材料が凝集し難いので、安定したキャリア制御が可能となる。

［適用例１１］上記適用例に記載の有機ＥＬ装置の製造方法において、前記第３の層と前記第２の層との間に第２正孔輸送層を形成する工程を有することが好ましい。
この方法によれば、第１正孔輸送層から正孔が効率よく第１の層に輸送されるだけでなく、第２陽極と共通陰極との間において、第２正孔輸送層から正孔が効率よく第２の層に輸送されるので、第１の層および第２の層における発光効率をさらに向上させることができる。

［適用例１２］上記適用例に記載の有機ＥＬ装置の製造方法において、前記電子注入材料がアルカリ金属、アルカリ土類金属、もしくはそれらの化合物で構成されることが好ましい。
この方法によれば、第３の層がアルカリ金属、アルカリ土類金属、若しくはそれらの化合物が分散された有機物を用いて形成されるため、少なくとも第３の層から第１の層への電子の注入性をより向上させることができる。

［適用例１３］上記適用例に記載の有機ＥＬ装置の製造方法において、前記有機物が水溶性の高分子化合物であることが好ましい。
この方法によれば、第３の層を形成する工程において電子注入材料が均一に分散される高分子化合物を用いるので、安定したキャリア制御が可能な有機ＥＬ装置を製造することができる。また、高分子化合物を用いていることから第３の層の形成が容易となる。

［適用例１４］上記適用例に記載の有機ＥＬ装置の製造方法において、前記有機物が水溶性の低分子化合物であることが好ましい。
この方法によれば、第３の層を形成する工程において電子注入材料が均一に分散される低分子化合物を用いるので、より安定したキャリア制御が可能な有機ＥＬ装置を製造することができる。また、低分子化合物を用いていることから、液相プロセスとして例えばインクジェット法などの液体吐出法を用いて所望の位置に、所望の厚みを有する第３の層を形成することができる。

［適用例１５］本適用例の電子機器は、上記適用例に記載の有機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、第１発光素子と第２発光素子とにおいて所望の層を選択的または支配的に発光させることが可能であると共に、第１の層と第３の層が液相プロセスを用いて形成され、第２の層がマスクレスの気相プロセスを用いて形成可能である有機ＥＬ装置を備えているので、見栄えがよく、高いコストパフォーマンスを有する電子機器を提供できる。

第１実施形態の有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図。 第１実施形態の有機ＥＬ装置の構造を示す概略断面図。 第１実施形態の有機ＥＬ装置における発光素子の構成を示す模式図。 第２実施形態の有機ＥＬ装置における発光素子の構成を示す模式図。 比較例１の有機ＥＬ装置における発光素子の構成を示す模式図。 比較例２の有機ＥＬ装置における発光素子の構成を示す模式図。 実施例と比較例における発光素子における発光状態と素子特性の総合評価結果を示す表。 電子機器の一例としてのモバイル型のパーソナルコンピューターを示す斜視図。 電子機器の一例としての携帯電話機を示す斜視図。 電子機器の一例としてのディジタルスチルカメラを示す斜視図。

以下、本発明の有機ＥＬ装置およびその製造方法、電子機器を添付図面に示す好適な実施形態について説明する。なお、本実施形態、本実施例、本比較例における発光効率とは、電流効率または外部量子効率のことを指す。

（第１実施形態）
＜有機ＥＬ装置＞
まず、本発明の発光素子を備えた有機ＥＬ装置について図１〜図３を参照して説明する。図１は、第１実施形態の有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図、図２は第１実施形態の有機ＥＬ装置の構造を示す概略断面図、図３は第１実施形態の有機ＥＬ装置における発光素子の構成を示す模式図である。

図１に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の発光（発光色）が得られるサブ画素１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂを有している。各サブ画素１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂは略矩形状であり、表示領域Ｅにおいてマトリクス状に配置されている。同色の発光が得られるサブ画素が図面上において垂直方向（列方向あるいは発光画素の長手方向）に配列し、異なる発光色のサブ画素が図面上において水平方向（行方向あるいは発光画素の短手方向）にＲ，Ｇ，Ｂの順で配列している。すなわち、異なる発光色のサブ画素１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂが所謂ストライプ方式で配置されている。なお、異なる発光色のサブ画素１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂの平面形状と配置は、これに限定されるものではない。

このような有機ＥＬ装置１００を表示装置として用いるならば、異なる発光色が得られる３つのサブ画素１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂを１つの表示画素単位として、それぞれのサブ画素１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂは電気的に制御される。これによりフルカラー表示が可能となる。

図２に示すように、有機ＥＬ装置１００は、基板２１と、基板２１上において、サブ画素１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂに対応して設けられた複数の発光素子（有機ＥＬ素子）１Ｒ，１Ｇ，１Ｂと、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂをそれぞれ駆動するための複数の駆動用トランジスター２４とを有している。
なお、本実施形態において、有機ＥＬ装置１００は、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂからの光Ｒ，Ｇ，Ｂを基板２１側から射出させるボトムエミッション構造のディスプレイパネルである。

基板２１上には、複数の駆動用トランジスター２４が設けられ、これらの駆動用トランジスター２４を覆うように、絶縁材料で構成された平坦化層２２が形成されている。
各駆動用トランジスター２４は、シリコン等の半導体材料からなる半導体層２４１と、半導体層２４１上に形成されたゲート絶縁層２４２と、ゲート絶縁層２４２上に形成されたゲート電極２４３と、ソース電極２４４と、ドレイン電極２４５とを有している。
また、平坦化層２２上には、各駆動用トランジスター２４に対応して、発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂが設けられている。

陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと、共通陰極８の間に、異なる色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の発光が得られる発光機能層５Ｒ，５Ｇ，５Ｂを有している。それぞれの発光色に対応させて、赤色発光機能層５Ｒ、緑色発光機能層５Ｇ、青色発光機能層５Ｂと呼ぶこともある。

本実施形態では、発光素子１Ｒと発光素子１Ｇが第１発光素子に相当し、発光素子１Ｂが第２発光素子に相当する。
したがって、陽極３Ｒと陽極３Ｇが第１陽極に相当し、陽極３Ｂが第２陽極に相当する。また、赤色発光機能層５Ｒと緑色発光機能層５Ｇが第１の層に相当し、例えばインクジェット法などの液相プロセスを用いて形成されている。青色発光機能層５Ｂが第２の層に相当し、例えば真空蒸着法などの気相プロセスを用いて、３つの発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂに跨って形成されている。具体的には、発光素子１Ｒでは、赤色発光機能層５Ｒと共通陰極８との間に青色発光機能層５Ｂが形成されている。発光素子１Ｇでは、緑色発光機能層５Ｇと共通陰極８との間に青色発光機能層５Ｂが形成されている。発光素子１Ｂでは、陽極３Ｂと共通陰極８との間に青色発光機能層５Ｂが形成されている。

また、発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂは、それぞれの陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと青色発光機能層５Ｂとの間にキャリア選択層４６を有している。キャリア選択層４６とは、キャリア選択層４６が陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ側において接する機能層の機能によってキャリア（電子や正孔を指す）の流れが選択される機能を有する層である。本実施形態では、キャリア選択層４６は、第３の層としての中間層６１と第２正孔輸送層４３とが、陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ側からこの順に積層された積層体により構成される。詳しくは後述するが中間層６１は、電子注入材料が分散された有機物からなるものである。

発光素子１Ｒにおいては、赤色発光機能層５Ｒと青色発光機能層５Ｂとの間にキャリア選択層４６が設けられている。発光素子１Ｇにおいては、緑色発光機能層５Ｇと青色発光機能層５Ｂとの間にキャリア選択層４６が設けられている。また、発光素子１Ｂにおいては、青色発光機能層５Ｂと正孔注入層４１Ｂとの間にキャリア選択層４６が設けられている。

より具体的には、図３に示すように、発光素子１Ｒは、平坦化層２２上に、陽極３Ｒと、正孔注入層４１と、第１正孔輸送層４２と、第１の層としての赤色発光機能層５Ｒと、中間層６１と、第２正孔輸送層４３と、第２の層としての青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。

また、発光素子１Ｇは、平坦化層２２上に、陽極３Ｇと、正孔注入層４１と、第１正孔輸送層４２と、第１の層としての緑色発光機能層５Ｇと、中間層６１と、第２正孔輸送層４３と、第２の層としての青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。

さらに、発光素子１Ｂは、平坦化層２２上に、陽極３Ｂと、正孔注入層４１と、中間層６１と、第２正孔輸送層４３と、第２の層としての青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。
かかる構成の発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの隣接するもの同士の間には、隔壁３１（図２参照）が設けられ、これにより各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂが個別に設けられている。

本実施形態では、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂにおいて、各陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ、各正孔注入層４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ、各第１正孔輸送層４２Ｒ，４２Ｇおよび各発光機能層５Ｒ、５Ｇが、隔壁３１で区画されることにより個別に設けられ、中間層６１、第２正孔輸送層４３、青色発光機能層５Ｂ、電子輸送層６２、電子注入層６３および共通陰極８が、一体的に設けられている。かかる構成とすることで、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの各陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、画素電極（個別電極）を構成し、さらに、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの共通陰極８は、共通電極を構成する。また、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの各陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、各駆動用トランジスター２４のドレイン電極２４５に導電部（配線）２７により電気的に接続されている（図２参照）。

このように、発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂを備える有機ＥＬ装置１００において、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの発光輝度を、駆動用トランジスター２４を用いて制御することにより、すなわち各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂへ印加する電圧を制御することにより、有機ＥＬ装置１００のフルカラー表示が可能となる。各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの詳細については後述する。
本実施形態では、図２に示すように、これらの発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂ上を覆うように、エポキシ樹脂で構成されたエポキシ層３５が形成されている。そして、エポキシ層３５を覆うように封止基板２０が設けられている。これにより、発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの気密性が確保され、酸素や水分の浸入を防止できることから、発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの信頼性の向上を図ることができる。
以上説明したような有機ＥＬ装置１００は、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂを選択的に発光させることで単色表示が可能であり、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂを組み合わせて発光させることでフルカラー表示も可能となる。

以下、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂについて、順次説明する。
（発光素子１Ｒ）
発光素子（赤色発光素子）１Ｒは、正孔注入層４１と、第１正孔輸送層４２と、赤色発光機能層５Ｒと、キャリア選択層４６と、青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３とが、陽極３Ｒ側からこの順に積層された積層体が、陽極３Ｒと共通陰極８との間に介挿されてなるものである。
発光素子１Ｒにおいて、キャリア選択層４６は、第３の層としての中間層６１と第２正孔輸送層４３とが、陽極３Ｒ側からこの順に積層された積層体により構成される。また、発光素子１Ｒにおいて、陽極３Ｒおよび共通陰極８は、それぞれ、個別電極および共通電極を構成し、陽極３Ｒは正孔注入層４１Ｒに正孔を注入する電極として機能し、共通陰極８は電子注入層６３を介して電子輸送層６２に電子を注入する電極として機能する。
以下、発光素子１Ｒを構成する各部について順次説明する。

［陽極３Ｒ］
陽極３Ｒは、正孔注入層４１に正孔を注入する電極である。
この陽極３Ｒの構成材料としては、特に限定されないが、仕事関数が大きく、導電性に優れる材料が好適に用いられる。
陽極３Ｒの構成材料としては、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、フッ素添加ＳｎＯ₂、Ｓｂ添加ＳｎＯ₂、ＺｎＯ、Ａｌ添加ＺｎＯ、Ｇａ添加ＺｎＯ等の金属酸化物、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
このような陽極３Ｒの平均厚さは、特に限定されないが、１０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、３０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、有機ＥＬ装置１００を、ボトムエミッション構造のディスプレイパネルとする場合、陽極３Ｒには光透過性が求められるため、上述した構成材料のうち、光透過性を有する金属酸化物が好適に用いられる。

［正孔注入層４１］
正孔注入層４１は、陽極３Ｒからの正孔注入を容易にする機能を有するものである。
この正孔注入層４１の構成材料（正孔注入材料）としては、特に限定されないが、後述する、正孔注入層４１の形成工程において、液相プロセスを用いて形成し得るように、導電性高分子材料（または導電性オリゴマー材料）に電子受容性ドーパントを添加したイオン伝導性正孔注入材料が好適に用いられる。
このようなイオン伝導性正孔注入材料としては、例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）のようなポリチオフォン系正孔注入材料や、ポリアニリン−ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＡＮＩ／ＰＳＳ）のようなポリアニリン系正孔注入材料や、下記化学式（１）で表わされるオリゴアニリン誘導体と、下記化学式（４）で表わされる電子受容性ドーパントとで塩を形成してなるオリゴアニリン系正孔注入材料が挙げられる。

式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して未置換もしくは置換の一価炭化水素基またはオルガノオキシ基を示し、ＡおよびＢは、それぞれ独立して下記化学式（２）または下記化学式（３）で表される二価の基であり、Ｒ４〜Ｒ１１、はそれぞれ独立して水素原子、水酸基、未置換もしくは置換の一価炭化水素基またはオルガノオキシ基、アシル基、またはスルホン酸基であり、ｍおよびｎは、それぞれ独立して１以上の正数で、ｍ＋ｎ≦２０を満足する。

式中、Ｄは、ベンゼン環、ナフタレン環、アトラセン環、フェナントレン環または複素環を表し、Ｒ１２、Ｒ１３は、それぞれ独立してカルボキシル基またはヒドロキシル基を表す。
このような正孔注入層４１の平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、正孔注入層４１Ｒは、発光素子１Ｒを構成する、陽極３Ｒ、第１正孔輸送層４２Ｒおよび赤色発光機能層５Ｒの構成材料の種類およびその膜厚等の組み合わせによっては省略することもできる。

［第１正孔輸送層４２］
第１正孔輸送層４２は、正孔注入層４１から注入された正孔を赤色発光機能層５Ｒまで輸送する機能を有する。また、第１正孔輸送層４２は、赤色発光機能層５Ｒから第１正孔輸送層４２へ通過しようとする電子をブロックする機能を有する場合もある。
この第１正孔輸送層４２の構成材料としては、特に限定されないが、後述する、第１正孔輸送層４２の形成工程において、液相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、下記化学式（５）で表わされるトリフェニルアミン系ポリマー等のアミン系化合物が好適に用いられる。

このような第１正孔輸送層４２の平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、第１正孔輸送層４２は、発光素子１Ｒを構成する、陽極３Ｒ、正孔注入層４１、赤色発光機能層５Ｒ、中間層６１、第２正孔輸送層４３、青色発光機能層５Ｂ、電子輸送層６２、電子注入層６３および共通陰極８の構成材料の種類およびその膜厚等の組み合わせによっては省略することもできる。

［赤色発光機能層５Ｒ］
赤色発光機能層５Ｒは、赤色に発光する赤色発光材料を含んで構成される。
発光素子１Ｒでは、この赤色発光機能層５Ｒが、陽極３Ｒとキャリア選択層４６との間に設けられた第１の層を構成し、この赤色発光機能層５Ｒが発光素子１Ｒにおける第１の色（赤色）を発光する機能を有する。
このような赤色発光機能層５Ｒの構成材料は、特に限定されないが、後述する、赤色発光機能層５Ｒの形成工程において、液相プロセスを用いて形成し得るように、溶液化または分散液化できることが望ましい。そこで、赤色発光機能層５Ｒの構成材料としては、溶媒または分散媒に、溶解または分散することができる、高分子赤色発光材料および低分子赤色発光材料が好適に用いられ、例えば、下記化学式（６）および下記化学式（７）で表わされるフルオレン誘導体の高分子赤色発光材料が挙げられる。

なお、このような液相プロセスを経て形成される赤色発光機能層５Ｒを備える発光素子１Ｒは、実用レベルの発光寿命特性を十分に備えるものである。
このような赤色発光機能層５Ｒの平均厚さは、特に限定されないが、１０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、２０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。

［キャリア選択層４６］
第３の層としての中間層６１と第２正孔輸送層４３とが、陽極３Ｒ側からこの順に積層された積層体により、キャリア選択層４６が構成される。
発光素子１Ｒにおいて、キャリア選択層４６は、青色発光機能層５Ｂからキャリア選択層４６に流れてくる電子を赤色発光機能層５Ｒに円滑に注入するというキャリア注入動作を行う。このため、発光素子１Ｒにおいて、青色発光機能層５Ｂの発光は大幅に抑制され、赤色発光機能層５Ｒが選択的もしくは支配的に発光する。

［中間層６１］
中間層６１は、キャリア選択層４６を構成する１つの層であり、電子注入材料が分散された有機物からなり、赤色発光機能層５Ｒに接して形成されている。

中間層６１を構成する電子注入材料としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、アルカリ金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物等）、アルカリ土類金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物等）、希土類金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物等）、金属錯体等のような電子注入材料が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
中間層６１をこのような電子注入材料が分散された有機物を用いて形成することで、キャリア選択層４６を介して、青色発光機能層５Ｂから赤色発光機能層５Ｒへの電子の注入効率をより向上させることができる。

アルカリ金属としては、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓが挙げられる。また、アルカリ土類金属としては、例えば、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａが挙げられる。さらに、希土類金属としては、例えば、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｙ、Ｔｂ、Ｅｕが挙げられる。

アルカリ金属塩としては、例えば、ＬｉＦ、Ｌｉ₂ＣＯ₃、ＬｉＣｌ、ＮａＦ、Ｎａ₂ＣＯ₃、ＮａＣｌ、ＣｓＦ、Ｃｓ₂ＣＯ₃、ＣｓＣｌが挙げられる。また、アルカリ土類金属塩としては、例えば、ＣａＦ₂、ＣａＣＯ₃、ＳｒＦ₂、ＳｒＣＯ₃、ＢａＦ₂、ＢａＣＯ₃が挙げられる。さらに、希土類金属塩としては、例えば、ＳｍＦ₃、ＥｒＦ₃が挙げられる。

金属錯体としては、例えば、８−キノリノラトリチウム（Ｌｉｑ）やトリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ₃）等の８−キノリノールなしいその誘導体を配位子とする有機金属錯体が挙げられる。

上記電子注入材料が分散される有機物としては、例えば水溶性の高分子化合物が好ましく、水酸基を有するＰＤＯＴ／ＰＳＳ、ＰＶＡ、ポリビニルカルバゾール、ポリシラン、でんぷん、セルロースが挙げられる。
また、例えばキナクリドン、ジスチリルビフェニル及びその誘導体、クマリンとその誘導体、テトラフェニルブタジエンまたはその誘導体などの水溶性の低分子化合物を用いることもできる。
また、高分子の有機物中に低分子の有機物を分散させ、そこに上記電子注入材料を分散あるいは溶解させてもよい。
本実施形態の有機物における高分子とは分子量が１００００以上を指し、低分子とは分子量が１００００未満のものを指す。

上記有機物を溶解または分散させる溶媒としては、水が好ましく、メタノール、エタノール等の水と相溶性のあるアルコール類や、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＦＭ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルイミダゾリン（ＤＭＩ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）が挙げられる。

また、中間層６１の形成プロセスは、スピンコート法やインクジェット法、スリットコート法のような液相プロセスを用いても良い。

中間層６１の平均厚さは、特に限定されないが、０．０１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、０．１ｎｍ以上、５ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。中間層６１の平均厚さをかかる範囲内に設定することにより、キャリア選択層４６の発光素子１Ｒにおけるキャリア注入動作が的確に行われる。

［第２正孔輸送層４３］
第２正孔輸送層４３は、キャリア選択層４６を構成する１つの層であり、青色発光機能層５Ｂに接して形成されている。
この第２正孔輸送層４３の構成材料としては、特に限定されないが、後述する、第２正孔輸送層４３の形成工程において、真空蒸着法のような気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｍ−トリル）−ベンジジン（ＴＰＤ）、下記化学式（８）で表わされるビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）、下記化学式（９）で表わされる化合物のようなベンジジン誘導体等のアミン系化合物が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

このような第２正孔輸送層４３の平均厚さは、特に限定されないが、１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上、３０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。第２正孔輸送層４３の平均厚さをかかる範囲内に設定することにより、キャリア選択層４６の発光素子１Ｒにおけるキャリア注入動作が的確に行われる。

［青色発光機能層５Ｂ］
青色発光機能層５Ｂは、青色に発光する青色発光材料を含んで構成されている。
本実施形態では、この青色発光機能層５Ｂが、陽極（３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ）と共通陰極８との間に設けられた第２の層を構成し、この青色発光機能層５Ｂが第２の色（青色）を発光する機能を有する。
この青色発光機能層５Ｂの構成材料としては、特に限定されないが、後述する、青色発光機能層５Ｂの形成工程において、気相プロセスを用いて形成し得るものが好適に用いられ、例えば、下記化学式（１０）で表わされるスチリル誘導体の青色発光材料が挙げられる。

また、その他に青色発光機能層５Ｂの構成材料としては、青色発光材料をゲスト材料としてホスト材料にドープしたものが用いられる。ホスト材料は、正孔と電子とを再結合させて励起子を生成するとともに、その励起子のエネルギーを青色発光材料に移動（フェルスター移動またはデクスター移動）させる機能を有する。このホスト材料の機能により、ゲスト材料である青色発光材料が効率よく励起され、発光する。

ここで、ホスト材料としては、例えば、下記化学式（１１）、下記化学式（１２）および下記化学式（１３）で表わされるアントラセン誘導体が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることもできる。また、ゲスト材料としての青色発光材料としては、例えば、下記化学式（１４）、下記化学式（１５）および下記化学式（１６）で表わされるスチリル誘導体が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることもできる。

なお、このような気相プロセスを経て形成される青色発光機能層５Ｂを備える第２発光素子としての発光素子１Ｂは、実用レベルの発光寿命特性を十分に備えるものである。
さらに、このようなゲスト材料およびホスト材料を用いる場合、青色発光機能層５Ｂ中におけるゲスト材料の含有量（ドープ量）は、ホスト材料に対して重量比で０．１％以上、２０％以下程度であるのが好ましく、０．５％以上、１０％以下程度であるのがより好ましい。ゲスト材料の含有量をこのような範囲内とすることで、発光効率を最適化することができる。
このような青色発光機能層５Ｂの平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。

［電子輸送層６２］
電子輸送層６２は、共通陰極８から電子注入層６３を介して電子輸送層６２に注入された電子を青色発光機能層５Ｂに輸送する機能を有するものである。また、電子輸送層６２は、青色発光機能層５Ｂから電子輸送層６２へ通過しようとする正孔をブロックする機能を有する場合もある。

電子輸送層６２の構成材料（電子輸送材料）としては、特に限定されないが、後述する、電子輸送層６２の形成工程において、気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ₃）や８−キノリノラトリチウム（Ｌｉｑ）等の８−キノリノールなしいその誘導体を配位子とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−（４−ビフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ｔＢｕ−ＰＢＤ）、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＮＤ）のようなオキサジアゾール誘導体、３−（４−ビフェニル）−４−フェニル−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）のようなトリアゾール誘導体、下記化学式（１７）で表わされる化合物のようなシロール誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体、下記化学式（１８）で表わされる化合物のような含窒素複素環誘導体等が好適に用いられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

電子輸送層６２の平均厚さは、特に限定されないが、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。これにより、電子注入層６３から注入された電子を好適に青色発光機能層５Ｂに輸送することができる。
なお、この電子輸送層６２は、発光素子１Ｒを構成する赤色発光機能層５Ｒ、中間層６１、第２正孔輸送層４３、青色発光機能層５Ｂ、電子注入層６３および共通陰極８の構成材料の種類およびその膜厚等の組み合わせによっては省略することもできる。

［電子注入層６３］
電子注入層６３は、共通陰極８から電子輸送層６２への電子の注入効率を向上させる機能を有するものである。
この電子注入層６３の構成材料（電子注入材料）としては、特に限定されないが、例えば、前述の中間層６１を構成する電子注入材料として挙げたものと同様のものを用いることができる。
なお、電子注入層６３および中間層６１の構成材料（電子注入材料）は、それぞれ、これらを挟持する２つの層の構成材料の組み合わせに応じて、最適な注入効率が得られるものが選択されるため、電子注入層６３の構成材料と中間層６１の構成材料とは、同一であっても異なっていてもよい。
電子注入層６３の平均厚さは、特に限定されないが、０．０１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、０．１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、電子注入層６３は、電子輸送層６２と共通陰極８の構成材料の種類およびその膜厚等の組み合わせによっては省略することもできる。

［共通陰極８］
共通陰極８は、電子注入層６３を介して電子輸送層６２に電子を注入する電極である。
この共通陰極８の構成材料としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましい。共通陰極８の構成材料としては、後述する、共通陰極８の形成工程において、気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂ、Ａｕまたはこれらを含む合金等が用いられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、複数層の積層体等）用いることができる。

特に、本実施形態のように、ボトムエミッション構造の有機ＥＬ装置１００とする場合、共通陰極８には光透過性が求められず、共通陰極８の構成材料としては、例えば、Ａｌ、Ａｇ、ＡｌＡｇ、ＡｌＮｄ等の金属または合金が好ましく用いられる。かかる金属または合金を共通陰極８の構成材料として用いることにより、共通陰極８の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。
このような共通陰極８の平均厚さは、特に限定されないが、５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、有機ＥＬ装置１００がトップエミッション構造の表示装置である場合、共通陰極８の構成材料としては、ＭｇＡｇ、ＭｇＡｌ、ＭｇＡｕ、ＡｌＡｇ等の金属または合金を用いるのが好ましい。かかる金属または合金を共通陰極８の構成材料として用いることにより、共通陰極８の光透過性を維持しつつ、共通陰極８の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。
このような共通陰極８の平均厚さは、特に限定されないが、１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上、２０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、かかる構成の発光素子１Ｒの陽極３Ｒ、正孔注入層４１Ｒ、第１正孔輸送層４２Ｒ、赤色発光機能層５Ｒ、中間層６１、第２正孔輸送層４３、青色発光機能層５Ｂ、電子輸送層６２、電子注入層６３および共通陰極８の各層の間には、任意の層が設けられていてもよい。

（発光素子１Ｇ）
発光素子（緑色発光素子）１Ｇは、正孔注入層４１と、第１正孔輸送層４２と、緑色発光機能層５Ｇと、キャリア選択層４６と、青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３とが、陽極３Ｇ側からこの順に積層された積層体が、陽極３Ｇと共通陰極８との間に介挿されてなるものである
発光素子１Ｇにおいて、キャリア選択層４６は、中間層６１と第２正孔輸送層４３とが、陽極３Ｇ側からこの順に積層された積層体により構成される。また、発光素子１Ｇにおいて、陽極３Ｇおよび共通陰極８は、それぞれ、個別電極および共通電極を構成し、陽極３Ｇは正孔注入層４１に正孔を注入する電極として機能し、共通陰極８は電子注入層６３を介して電子輸送層６２に電子を注入する電極として機能する。
以下、発光素子１Ｇについて説明するが、前述した発光素子１Ｒとの相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
発光素子１Ｇは、赤色発光機能層５Ｒに代えて緑色発光機能層５Ｇを備えること以外は、前述の発光素子１Ｒと同様の構成のものである。

［緑色発光機能層５Ｇ］
緑色発光機能層５Ｇは、緑色に発光する緑色発光材料を含んで構成される。
発光素子１Ｇでは、この緑色発光機能層５Ｇが、陽極３Ｇとキャリア選択層４６との間に設けられた第１の層を構成し、この緑色発光機能層５Ｇが発光素子１Ｇにおける第１の色（緑色）を発光する機能を有する。
このような緑色発光機能層５Ｇの構成材料は、特に限定されないが、後述する、緑色発光機能層５Ｇの形成工程において、液相プロセスを用いて形成し得るように、溶液化または分散液化できることが望ましい。そこで、緑色発光機能層５Ｇの構成材料としては、溶媒または分散媒に、溶解または分散することができる、高分子緑色発光材料および低分子緑色発光材料が好適に用いられ、例えば、下記化学式（１９）および下記化学式（２０）で表わされるフェニレンビニレン誘導体の高分子緑色発光材料が挙げられる。

なお、このような液相プロセスを経て形成される緑色発光機能層５Ｇを備える発光素子１Ｇは、実用レベルの発光寿命特性を十分に備えるものである。
このような緑色発光機能層５Ｇの平均厚さは、特に限定されないが、１０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、２０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、かかる構成の発光素子１Ｇの陽極３Ｇ、正孔注入層４１、第１正孔輸送層４２、緑色発光機能層５Ｇ、中間層６１、第２正孔輸送層４３、青色発光機能層５Ｂ、電子輸送層６２、電子注入層６３および共通陰極８の各層の間には、任意の層が設けられていてもよい。

（発光素子１Ｂ）
発光素子（青色発光素子）１Ｂは、正孔注入層４１と、キャリア選択層４６と、青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３とが、陽極３Ｂ側からこの順に積層された積層体が、陽極３Ｂと共通陰極８との間に介挿されてなるものである。
発光素子１Ｂにおいて、キャリア選択層４６は、第３の層としての中間層６１と第２正孔輸送層４３とが、陽極３Ｂ側からこの順に積層された積層体により構成される。また、発光素子１Ｂにおいて、陽極３Ｂおよび共通陰極８は、それぞれ、個別電極および共通電極を構成し、陽極３Ｂは正孔注入層４１に正孔を注入する電極として機能し、共通陰極８は電子注入層６３を介して電子輸送層６２に電子を注入する電極として機能する。
以下、発光素子１Ｂについて説明するが、前述した発光素子１Ｒとの相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。

発光素子１Ｂは、第１正孔輸送層４２および赤色発光機能層５Ｒの形成を省略して、正孔注入層４１とキャリア選択層４６とが互いに接する構成としたこと以外は、上記発光素子１Ｒと同様の構成のものである。但し、正孔注入層４１とキャリア選択層４６とが互いに接する構成としたことに起因して、発光素子１Ｂにおけるキャリア選択層４６の機能は、発光素子１Ｒおよび発光素子１Ｇにおけるキャリア選択層４６の機能とは大きく異なる。また、正孔注入層４１に求められる機能も異なる場合がある。

［正孔注入層４１］
正孔注入層４１は、陽極３Ｂからの正孔注入を容易にする機能を有するものである。
この正孔注入層４１の構成材料（正孔注入材料）としては、特に限定されないが、後述する、正孔注入層４１の形成工程において、液相プロセスを用いて形成し得るように、導電性高分子材料（または導電性オリゴマー材料）に電子受容性ドーパントを添加したイオン伝導性正孔注入材料が好適に用いられる。

また、正孔注入層４１の構成材料（正孔注入材料）としては、中間層６１を構成する電子注入材料が、拡散もしくは吸着しやすい材料を選択することが望ましい。これによって、キャリア選択層４６の発光素子１Ｂにおけるキャリアブロック動作が的確に行われる。中間層６１を構成する電子注入材料が、拡散もしくは吸着しやすい正孔注入材料としては、例えば、イオン伝導性正孔注入材料が挙げられる。
このようなイオン伝導性正孔注入材料としては、前述した正孔注入層４１の構成材料（正孔注入材料）として挙げたものと同様のものを用いることができる。

［キャリア選択層４６］
中間層６１と第２正孔輸送層４３とが、陽極３Ｂ側からこの順に積層された積層体により、キャリア選択層４６が構成される。これら中間層６１および第２正孔輸送層４３を構成する材料としては、それぞれ、前述の発光素子１Ｒの中間層６１および第２正孔輸送層４３と同様のものを用いることができる。
発光素子１Ｂにおいて、キャリア選択層４６は、青色発光機能層５Ｂからキャリア選択層４６に流れてくる電子をブロックし、これら電子を青色発光機能層５Ｂに留めるというキャリアブロック動作を行う。このため、発光素子１Ｂにおいて、青色発光機能層５Ｂは効率よく発光する。このキャリアブロック動作を的確に行うためには、発光素子１Ｂの第２正孔輸送層４３には、キャリアブロック機能を有するものを用いることが望ましい。例えば、前述の発光素子１Ｒの第２正孔輸送層４３の構成材料として挙げたアミン系化合物を用いることにより、第２正孔輸送層４３は電子ブロック機能を有するものとなる。
なお、かかる構成の発光素子１Ｂの陽極３Ｂ、正孔注入層４１Ｂ、中間層６１、第２正孔輸送層４３、青色発光機能層５Ｂ、電子輸送層６２、電子注入層６３および共通陰極８の各層の間には、任意の層が設けられていてもよい。

以下、発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂにおける作用・効果について、キャリア選択層４６の機能を中心に説明する。
本実施形態では、キャリア選択層４６は、中間層６１と第２正孔輸送層４３とが、陽極（３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ）側からこの順に積層された積層体により構成される。
かかる構成のキャリア選択層４６は、青色発光機能層５Ｂからキャリア選択層４６に注入される電子の量を、キャリア選択層４６の陽極（３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ）側に接する層に応じて、制御する機能を有する層である。

具体的には、発光素子１Ｒおよび発光素子１Ｇのように、キャリア選択層４６の陽極（３Ｒ、３Ｇ）側に直接接する層が、それぞれ、赤色発光機能層５Ｒおよび緑色発光機能層５Ｇの場合、すなわち、キャリア選択層４６の陽極３Ｒ，３Ｇ側界面に第１の色を発光する機能を有する発光機能層５Ｒ，５Ｇが接触する場合、キャリア選択層４６は青色発光機能層５Ｂからキャリア選択層４６に流れてくる電子を赤色発光機能層５Ｒおよび緑色発光機能層５Ｇに円滑に注入する（キャリア注入動作）。このため、発光素子１Ｒの青色発光機能層５Ｂでは、正孔と電子との再結合が的確に抑制または防止されるため、発光素子１Ｒの青色発光機能層５Ｂは、青色発光しないか、青色発光したとしてもその発光は的確に抑制される。
これに対して、赤色発光機能層５Ｒには、共通陰極８側から青色発光機能層５Ｂを介して電子が供給（注入）されるとともに、陽極３Ｒ側から正孔が供給（注入）される。そして、赤色発光機能層５Ｒでは、正孔と電子とが再結合し、この再結合によって励起子（エキシトン）が生成し、励起子が基底状態に戻る際にエネルギーを蛍光やりん光として放出するため、赤色発光機能層５Ｒが赤色に発光する。その結果、発光素子１Ｒは赤色に発光する。同様に、発光素子１Ｇにおいても、青色発光機能層５Ｂの発光は大幅に抑制され、緑色発光機能層５Ｇが選択的もしくは支配的に発光する。その結果、発光素子１Ｇは緑色に発光する。

一方、発光素子１Ｂのように、キャリア選択層４６の陽極３Ｂ側に接する層が正孔注入層４１の場合、すなわち、キャリア選択層４６の陽極側界面に正孔注入層４１が接触する場合、キャリア選択層４６は青色発光機能層５Ｂからキャリア選択層４６に流れてくる電子をブロックし、これら電子を青色発光機能層５Ｂに留める（キャリアブロック動作）。このため、青色発光機能層５Ｂにおいて、陽極３Ｂ側から供給（注入）された正孔と、共通陰極８側から供給（注入）された電子とが、再結合しやすくなる。この再結合によって励起子（エキシトン）が生成し、励起子が基底状態に戻る際にエネルギーを蛍光やりん光として放出するため、青色発光機能層５Ｂは効率良く発光する。その結果、発光素子１Ｂは高効率で青色に発光する。
このように、キャリア選択層４６は、キャリア選択層４６に接する層の種類によって、キャリア注入動作を行ったり、キャリアブロック動作を行ったりする。

発光素子１Ｒと発光素子１Ｇにおけるキャリア選択層４６の電子に対する挙動と、発光素子１Ｂにおけるキャリア選択層４６の電子に対する挙動が異なる理由について、正孔注入層４１がイオン伝導性の正孔注入材料だった場合を例に説明を行う。
まず、発光素子１Ｒおよび発光素子１Ｇのように、キャリア選択層４６の陽極（３Ｒ、３Ｇ）側に接する層が、それぞれ、赤色発光機能層５Ｒおよび緑色発光機能層５Ｇの場合、発光素子１Ｒおよび発光素子１Ｇのキャリア選択層４６内の中間層６１を構成している電子注入材料が、それぞれ、発光素子１Ｒおよび発光素子１Ｇの第２正孔輸送層４３内に拡散し、これによって発光素子１Ｒおよび発光素子１Ｇの第２正孔輸送層４３に備わっている電子ブロック機能が大きく低下する。この結果、発光素子１Ｒおよび発光素子１Ｇでは、青色発光機能層５Ｂから第２正孔輸送層４３へ電子が円滑に注入される。さらに、赤色発光機能層５Ｒおよび緑色発光機能層５Ｇと、第２正孔輸送層４３との間に存在する中間層６１の機能により、第２正孔輸送層４３から、赤色発光機能層５Ｒおよび緑色発光機能層５Ｇへの電子の注入も円滑に行われる。
以上により、発光素子１Ｒおよび発光素子１Ｇのように、キャリア選択層４６の陽極（３Ｒ、３Ｇ）側に接する層が、それぞれ、赤色発光機能層５Ｒおよび緑色発光機能層５Ｇの場合、キャリア選択層４６は、青色発光機能層５Ｂからキャリア選択層４６に流れてくる電子を、それぞれ、赤色発光機能層５Ｒおよび緑色発光機能層５Ｇに円滑に注入する（キャリア注入動作）。すなわち、キャリア選択層４６は、青色発光機能層５Ｂから、赤色発光機能層５Ｒおよび緑色発光機能層５Ｇに、電子（キャリア）を円滑に流す動作を行う。

一方、発光素子１Ｂのように、キャリア選択層４６の陽極３Ｂ側に接する層が正孔注入層４１で、且つ、その正孔注入層４１がイオン伝導性の正孔注入材料によって構成されている場合、発光素子１Ｂのキャリア選択層４６内の中間層６１を構成している電子注入材料が、正孔注入層４１内に激しく拡散、もしくは正孔注入層４１の共通陰極８側界面に吸着するため、該電子注入材料が発光素子１Ｂの第２正孔輸送層４３内には拡散せず、発光素子１Ｂの第２正孔輸送層４３に備わっている電子ブロック機能が低下することはない。この結果、発光素子１Ｂでは、青色発光機能層５Ｂから第２正孔輸送層４３へ流れてくる電子が、第２正孔輸送層４３によってブロックされ、青色発光機能層５Ｂ内に留まる。以上により、キャリア選択層４６の陽極３Ｂ側に接する層が正孔注入層４１の場合、キャリア選択層４６は青色発光機能層５Ｂからキャリア選択層４６に流れてくる電子をブロックし、これら電子を青色発光機能層５Ｂに留める（キャリアブロック動作）。すなわち、キャリア選択層４６は、青色発光機能層５Ｂから流れてくる電子（キャリア）の流れを抑制する動作を行う。

本実施形態では、キャリア選択層４６を構成する中間層６１が塗布法（液相プロセス）によって形成される。電子注入材料を蒸着法で直接成膜したり、電子注入材料を単独で塗布方式で成膜すると、電子注入材料が凝集して不安定な状態となる。すなわち、電子注入材料が存在する領域と存在しない領域が生じることとなるので、電子注入材料が存在する領域では、キャリア制御が可能となる一方、電子注入材料が存在しない領域ではキャリア制御が困難となる。
そこで、高分子や低分子の有機化合物に電子注入材料を分散したものをインク化し、塗布法（液相プロセス）によって中間層６１を成膜することで、電子注入材料の凝集を抑制し、安定してキャリア制御が可能な中間層６１を形成することができる。

本発明者の検討により、発光素子１Ｒからキャリア選択層４６を除き、青色発光機能層５Ｂと、赤色発光機能層５Ｒとが接触して積層された構成の赤色発光素子では、当該赤色発光素子が備える陽極３Ｒと、共通陰極８との間に電圧を印加すると、共通陰極８側から青色発光機能層５Ｂに注入された電子を、赤色発光機能層５Ｒに円滑に注入（供給）することができず、これに起因して、青色発光機能層５Ｂにおいて、正孔と電子とが再結合するため、青色発光機能層５Ｂが青色に発光し、当該赤色発光素子の赤色の色純度が悪化することが判っている。
また、当該赤色発光素子では、共通陰極８側から青色発光機能層５Ｂに注入された電子を、赤色発光機能層５Ｒに円滑に注入（供給）することができないことに起因して、赤色発光機能層５Ｒにおける電子と正孔のキャリアバランスが崩れ、発光効率が低下することが判っている。
さらに、当該赤色発光素子では、共通陰極８側から青色発光機能層５Ｂに注入された電子を、赤色発光機能層５Ｒに円滑に注入（供給）することができないことに起因して、赤色発光機能層５Ｒの陰極側界面でのキャリアに対するエネルギー障壁が増加し、駆動電圧が上昇することが判っている。

このように、キャリア選択層４６を除外した赤色発光素子では、赤色の色純度の悪化、発光効率の低下および駆動電圧の上昇という問題がある。しかしながら、発光素子１Ｒのように、青色発光機能層５Ｂと赤色発光機能層５Ｒとの間にキャリア選択層４６を介挿する構成とすることで、共通陰極８側から青色発光機能層５Ｂに注入された電子を、青色発光機能層５Ｂに留まらせることなく、赤色発光機能層５Ｒに円滑に注入（供給）することができるようになるので、これらの問題は全て解決される。

同様に、発光素子１Ｇからキャリア選択層４６を除き、青色発光機能層５Ｂと、緑色発光機能層５Ｇとが接触して積層された構成の緑色発光素子では、共通陰極８側から青色発光機能層５Ｂに注入された電子を、緑色発光機能層５Ｇに円滑に注入（供給）することができず、これに起因して、緑色の色純度の悪化、発光効率の低下および駆動電圧の上昇という問題が生じる。しかしながら、発光素子１Ｇのように、青色発光機能層５Ｂと緑色発光機能層５Ｇとの間にキャリア選択層４６を介挿する構成とすることで、共通陰極８側から青色発光機能層５Ｂに注入された電子を、青色発光機能層５Ｂに留まらせることなく、緑色発光機能層５Ｇに円滑に注入（供給）することができるようになるので、これらの問題は全て解決される。

また、本実施形態の第２正孔輸送層４３と青色発光機能層５Ｂは、気相プロセスを用いて形成することが好ましい。本発明者の検討により、発光素子１Ｂにおいて、第２正孔輸送層４３と青色発光機能層５Ｂのうち少なくとも１つの層の形成に、インクジェット法のような液相プロセスを用いた構成の青色発光素子では、発光素子１Ｂと比較して、その発光寿命や発光効率が低下するという問題があることが判っている。

第２正孔輸送層４３と青色発光機能層５Ｂのうち少なくとも１つの層の汚染がこの問題の要因の１つになっていると考えられる。つまり、発光素子１Ｂのように気相プロセスを用いて第２正孔輸送層４３と青色発光機能層５Ｂを形成することが可能な場合、第２正孔輸送層４３の共通陰極８側界面を、真空以外の雰囲気にさらすことなく、次の青色発光機能層５Ｂの成膜を連続的に行うことができるが、第２正孔輸送層４３と青色発光機能層５Ｂのうち少なくとも１つの層の形成に液相プロセスを用いると、液相プロセスによる成膜は真空雰囲気で行うことが困難であるため、液相プロセスによる成膜は真空以外の雰囲気（例えば大気や窒素）で行うことになり、少なくとも第２正孔輸送層４３の共通陰極８側界面は真空以外の雰囲気にさらされることになる。

このように、液相プロセスを用いて第２正孔輸送層４３と青色発光機能層５Ｂのうち少なくとも１つの層を成膜した場合、第２正孔輸送層４３の共通陰極８側界面が汚染され易くなることは明白である。また、液相プロセスで第２正孔輸送層４３の成膜を行う場合、正孔輸送材料を溶媒または分散媒に、溶解または分散させた溶液を成膜に用いるため、第２正孔輸送層４３内に極微量の溶媒が残留し、これが第２正孔輸送層４３全体を汚染する可能性がある。
同様に、液相プロセスで青色発光機能層５Ｂの成膜を行う場合、青色発光機能層５Ｂ内に極微量の溶媒が残留し、これが青色発光機能層５Ｂ全体を汚染する可能性がある。

これに対して、発光素子１Ｂのように、気相プロセスを用いて第２正孔輸送層４３と青色発光機能層５Ｂを形成することにより、液相プロセスを用いて第２正孔輸送層４３と青色発光機能層５Ｂのうち少なくとも１つの層を形成したことによる第２正孔輸送層４３と青色発光機能層５Ｂの汚染を回避でき、液相プロセスを用いて第２正孔輸送層４３と青色発光機能層５Ｂのうち少なくとも１つの層を形成したことによる青色発光素子の発光寿命や発光効率の低下という問題は全て解決される。

＜有機ＥＬ装置の製造方法＞
次に、本実施形態の有機ＥＬ装置１００の製造方法について図２を参照して説明する。
［１］まず、基板２１を用意し、形成すべきサブ画素１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂに対応するように、複数の駆動用トランジスター（駆動用ＴＦＴ）２４を形成したのち、これら駆動用トランジスター２４を覆うように平坦化層２２を形成する（第１の工程）。
［１−Ａ；駆動用ＴＦＴ２４の形成工程］
［１−Ａａ］まず、基板２１上に、例えばプラズマＣＶＤ法等により、平均厚さが３０ｎｍ以上、７０ｎｍ以下程度のアモルファスシリコンを主材料として構成される半導体膜を形成する。
［１−Ａｂ］次いで、半導体膜に対して、レーザーアニールまたは固相成長法等により結晶化処理を行い、アモルファスシリコンをポリシリコンに変化させる。
ここで、レーザーアニール法では、例えば、エキシマレーザーでビームの長寸が４００ｍｍのラインビームを用い、その出力強度は、例えば２００ｍＪ／ｃｍ²程度に設定される。
［１−Ａｃ］次いで、半導体膜をパターニングして島状とすることで半導体層２４１を得、これら島状の半導体層２４１を覆うように、例えば、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）や酸素ガスなどを原料ガスとして、プラズマＣＶＤ法等により、平均厚さが６０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下程度の酸化シリコンまたは窒化シリコン等を主材料として構成されるゲート絶縁層２４２を形成する。
［１−Ａｄ］次いで、ゲート絶縁層２４２上に、例えば、スパッタ法等により、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属を主材料として構成される導電膜を形成した後、パターニングし、ゲート電極２４３を形成する。
［１−Ａｅ］次いで、この状態で、高濃度のリンイオンを打ち込んで、ゲート電極２４３に対して自己整合的にソース・ドレイン領域を形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域となる。
［１−Ｂ］次に、駆動用ＴＦＴ２４に電気的に接続されるソース電極２４４およびドレイン電極２４５を形成する。
［１−Ｂａ］まず、ゲート電極２４３を覆うように、第１平坦化層（図示省略）を形成した後、コンタクトホールを形成する。
［１−Ｂｂ］次いで、コンタクトホール内にソース電極２４４およびドレイン電極２４５を形成する。
［１−Ｃ］次に、ドレイン電極２４５と、各陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂとを電気的に接続する配線（中継電極）２７を形成する。

［１−Ｃａ］まず、第１平坦化層上に、第２平坦化層（図示省略）を形成した後、コンタクトホールを形成する。
［１−Ｃｂ］次いで、コンタクトホール内に配線２７を形成する。
なお、［１−Ｂ］工程および［１−Ｃ］工程において形成された第１平坦化層および第２平坦化層により平坦化層２２が構成される。

［２］次に、平坦化層２２上に、各配線２７に対応するように、陽極（個別電極）３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを形成する（第２の工程）。
この陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、平坦化層２２上に、陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの構成材料を主材料として構成される薄膜を形成した後、パターニングすることにより得ることができる。

［３］次に、平坦化層２２上に、各陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを区画するように、すなわち、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂ（サブ画素１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂ）を形成する領域を区画するように、隔壁（バンク）３１を形成する（第３の工程）。
隔壁３１は、各陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを覆うように平坦化層２２上に、絶縁膜を形成した後、各陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが露出するように例えばフォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることにより形成することができる。
ここで、隔壁３１の構成材料は、耐熱性、撥液性、インク溶剤耐性、平坦化層２２などとの密着性等を考慮して選択される。
具体的には、隔壁３１の構成材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂のような有機材料や、ＳｉＯ₂のような無機材料が挙げられる。
また、隔壁３１の開口つまりサブ画素１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂの平面形状は、図１に示すように、四角形の他、例えば、円形、楕円形、六角形等の多角形等、いかなるものであってもよい。

なお、隔壁３１の開口の形状を多角形とする場合には、角部は丸みを帯びているのが好ましい。これにより、正孔注入層４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ、第１正孔輸送層４２Ｒ，４２Ｇおよび発光機能層５Ｒ，５Ｇを、後述するような液状材料を用いて形成する際に、これらの液状材料を、隔壁３１の内側の空間の隅々にまで確実に供給することができる。

このような隔壁３１の高さは、発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの厚さに応じて適宜設定され、特に限定されないが、０．５μｍ以上、５μｍ以下程度とするのが好ましい。かかる高さとすることにより、十分に隔壁（バンク）３１としての機能が発揮される。
なお、インクジェット法によって、正孔注入層４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ、第１正孔輸送層４２Ｒ，４２Ｇおよび発光機能層５Ｒ，５Ｇを形成する場合、隔壁３１が形成された基板２１は、プラズマ処理されることが望ましい。具体的には、隔壁３１が形成された基板２１の表面を、まずＯ₂ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの表面と隔壁３１の表面（壁面を含む）が活性化され親液化する。次にＣＦ₄等のフッ素系ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより、有機材料である感光性樹脂からなる隔壁３１の表面のみにフッ素系ガスが反応して撥液化される。これによって、隔壁３１の隔壁としての機能がより効果的に発揮される。

［４］次に、発光素子１Ｒを形成すべき領域に位置する隔壁３１の内側には、正孔注入層４１Ｒ、第１正孔輸送層４２Ｒおよび赤色発光機能層５Ｒを形成し、発光素子１Ｇを形成すべき領域に位置する隔壁３１の内側には、正孔注入層４１Ｇ、第１正孔輸送層４２Ｇおよび緑色発光機能層５Ｇを形成し、さらに、発光素子１Ｂを形成すべき領域に位置する隔壁３１の内側には、正孔注入層４１Ｂを形成する（第４の工程）。この第４の工程について、発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂ毎に以下に詳述する。

［発光素子１Ｒ］発光素子１Ｒを形成すべき領域に位置する隔壁３１の内側に、正孔注入層４１Ｒ、第１正孔輸送層４２Ｒおよび赤色発光機能層５Ｒをこの順番に形成する。それぞれの層を形成する工程を正孔注入層４１Ｒ形成工程、第１正孔輸送層４２Ｒ形成工程、赤色発光機能層５Ｒ形成工程とし、以下に詳述する。

［正孔注入層４１Ｒ形成工程］まず、正孔注入層４１Ｒをインクジェット法によって塗布する。具体的には、正孔注入材料を含有する正孔注入層４１Ｒ形成用のインク（液状材料）を、インクジェットプリント装置のヘッドから吐出し、陽極３Ｒ上に塗布する（塗布工程）。
ここで、正孔注入層形成用のインクの調製に用いる溶媒（インク溶媒）または分散媒（インク分散媒）としては、例えば、硝酸、硫酸、アンモニア、過酸化水素、水、二硫化炭素、四塩化炭素、エチレンカーボネイト等の各種無機溶媒や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、グリセリン等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）、ジエチレングリコールエチルエーテル（カルビトール）等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、シクロヘキサン、テトラリン等の脂環式炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等の硫黄化合物系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル系溶媒、ギ酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸系溶媒のような各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等が挙げられる。
なお、陽極３Ｒ上に塗布された液状材料は、流動性が高く（粘性が低く）、水平方向（面方向）に広がろうとするが、陽極３Ｒが隔壁３１により囲まれているため、所定の領域以外に広がることが阻止され、正孔注入層４１Ｒの輪郭形状が正確に規定される。

次に、塗布した正孔注入層４１Ｒに対して後処理を施す（後処理工程）。具体的には、陽極３Ｒ上に塗布した正孔注入層形成用のインク（液状材料）を乾燥し、正孔注入層４１Ｒを形成する。この乾燥によって、溶媒または分散媒を除去することができる。乾燥の手法としては、減圧雰囲気に放置する方法、熱処理（例えば４０℃以上、８０℃以下程度）による方法、窒素ガスのような不活性ガスのフローによる方法等が挙げられる。さらに、必要に応じて、正孔注入層４１Ｒが形成された基板２１を１００℃以上、３００℃以下程度で加熱（ベーク）する。この加熱により、乾燥後に正孔注入層４１Ｒの膜内に残留した溶媒または分散媒を、取り除くことができる。また、加熱により架橋し溶媒に対して不溶化するような正孔注入材料を用いている場合は、この加熱によって正孔注入層４１Ｒを不溶化させることもできる。また、この加熱後、正孔注入層４１Ｒの未不溶化部分を除去するために、正孔注入層４１Ｒが形成された基板２１の表面を溶媒によってリンス（洗浄）することもある。このリンスによって、正孔注入層４１Ｒの未不溶化部分が、正孔注入層４１Ｒの上に形成される第１正孔輸送層４２Ｒに、混入することを防ぐことができる。

［第１正孔輸送層４２Ｒ形成工程］第１正孔輸送層４２Ｒ形成工程では、まず第１正孔輸送層４２Ｒを正孔注入層４１Ｒ上に正孔注入層４１Ｒ形成工程と同様のインクジェット法によって塗布し、次に塗布した第１正孔輸送層４２Ｒに対して正孔注入層４１Ｒ形成工程と同様の後処理を施す。但し、第１正孔輸送層４２Ｒ形成用のインクに用いるインク溶媒またはインク分散媒や、後処理の手法や条件等は、第１正孔輸送層４２Ｒの形成に適したものを適宜選択する。

［赤色発光機能層５Ｒ形成工程］赤色発光機能層５Ｒ形成工程では、まず赤色発光機能層５Ｒを第１正孔輸送層４２Ｒ上に正孔注入層４１Ｒ形成工程と同様のインクジェット法によって塗布し、次に塗布した赤色発光機能層５Ｒに対して正孔注入層４１Ｒ形成工程と同様の後処理を施す。但し、赤色発光機能層５Ｒ形成用のインクに用いるインク溶媒またはインク分散媒や、後処理の手法や条件等は、赤色発光機能層５Ｒの形成に適したものを適宜選択する。

以上の、正孔注入層４１Ｒ形成工程、第１正孔輸送層４２Ｒ形成工程、赤色発光機能層５Ｒ形成工程には、インクジェット法を用いることが好ましい。インクジェット法では、インクの吐出量およびインク滴の着弾位置を、基板２１の面積の大小に関わらず高精度に制御できるため、かかる方法を用いることにより、正孔注入層４１Ｒの薄膜化、画素サイズの微小化、さらには有機ＥＬ装置１００の大面積化を図ることができる。また、各層を形成するためのインク（液状材料）を、隔壁３１の内側に選択的に供給することができるため、インクのムダを省くことができる。但し、これら、正孔注入層４１Ｒ形成工程、第１正孔輸送層４２Ｒ形成工程、赤色発光機能層５Ｒ形成工程には、インクジェット法に限らず、例えば、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の気相プロセスや、スピンコート法（パイロゾル法）、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法等の液相プロセスも用いることができる。

［発光素子１Ｇ］発光素子１Ｇを形成すべき領域に位置する隔壁３１の内側に、正孔注入層４１Ｇ、第１正孔輸送層４２Ｇおよび緑色発光機能層５Ｇをこの順番に発光素子１Ｒと同様の手法を用いて形成する。但し、正孔注入層４１Ｇ、第１正孔輸送層４２Ｇ、緑色発光機能層５Ｇのそれぞれの層において、層の形成用のインクに用いるインク溶媒またはインク分散媒や、後処理の手法や条件等は、それぞれの層の形成に適したものを適宜選択する。

［発光素子１Ｂ］発光素子１Ｂを形成すべき領域に位置する隔壁３１の内側に、正孔注入層４１Ｂを発光素子１Ｒの正孔注入層４１Ｒ形成工程と同様の手法を用いて形成する。但し、正孔注入層４１Ｂ形成用のインクに用いるインク溶媒またはインク分散媒や、後処理の手法や条件等は、正孔注入層４１Ｂの形成に適したものを適宜選択する。
以上のように、正孔注入層４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ、第１正孔輸送層４２Ｒ，４２Ｇおよび発光機能層５Ｒ，５Ｇの各層をインクジェット法によって形成する場合、各層は塗布工程と後処理工程を経て完全に形成されるが、各層の塗布工程は、他の層の塗布工程と同時に行っても良いし、各層の後処理工程は、他の層の後処理工程と同時に行っても良い。

［５］次に、赤色発光機能層５Ｒ、緑色発光機能層５Ｇ、正孔注入層４１Ｂおよび隔壁３１に重なるように、すなわち、隔壁３１の平坦化層２２と接している面と反対側の全面を覆うように、中間層６１を形成する（第５の工程）。
これにより、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂに共通の中間層６１が一括（一体的）に形成される。
中間層６１は、前述したように電子注入材料が分散された有機物を溶媒や分散媒に溶解または分散させた状態の溶液を用いることにより、赤色発光機能層５Ｒ、緑色発光機能層５Ｇ、正孔注入層４１Ｂを覆って形成することができる。あるいはインクジェット法を用い当該溶液を液滴として隔壁３１で囲まれた各領域に吐出して乾燥することにより形成することができる。前者の方法では、有機物として高分子化合物を用いることが好ましく、後者の方法では、有機物として低分子化合物を用いることが好ましい。

［６］次に、中間層６１の全面を覆うように、第２正孔輸送層４３を形成する（第６の工程）。これにより、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂに共通の第２正孔輸送層４３が一括に形成される。

［７］次に、第２正孔輸送層４３の全面を覆うように、青色発光機能層５Ｂを形成する（第７の工程）。これにより、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂに共通の青色発光機能層５Ｂが一括に形成される。

［８］次に、青色発光機能層５Ｂの全面を覆うように、電子輸送層６２を形成する（第８の工程）。これにより、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂに共通の電子輸送層６２が一括に形成される。

［９］次に、電子輸送層６２の全面を覆うように、電子注入層６３を形成する（第９の工程）。これにより、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂに共通の電子注入層６３が一括に形成される。

［１０］次に、電子注入層６３の全面を覆うように、共通陰極８を形成する（第１０の工程）。これにより、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂに共通の共通陰極８が一括に形成される。
なお、上記工程［６］〜［１０］で形成する各層も、上記工程［発光素子１Ｒ］で説明した気相プロセスや液相プロセスにより形成することができるが、中でも、気相プロセスを用いるのが好ましい。気相プロセスを用いることにより、隣接する層同士間における層溶解を防止しつつ、形成すべき層を確実に形成することができる。

また、上記工程［発光素子１Ｒ］および［発光素子１Ｇ］において、それぞれ、発光機能層５Ｒ，５Ｇをインクジェット法のような液相プロセスを用いて成膜することにより、発光色の異なる発光機能層５Ｒ，５Ｇを容易に塗り分け、かつ有機ＥＬ装置１００の大面積化を容易に実現することができる。加えて、上記工程［６］および［７］において、それぞれ、第２正孔輸送層４３および青色発光機能層５Ｂを気相プロセス（気相成膜法）を用いて形成することにより、発光素子１Ｂは、実用レベルの発光寿命を十分に備えるものとなる。さらに、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂに共通の青色発光機能層５Ｂを一括して（一体的に）形成する構成としたことから、高精細マスクを用いて、発光素子１Ｂに対して選択的に青色発光機能層５Ｂを成膜する必要がないため、工程の簡略化、さらには有機ＥＬ装置１００の大面積化を容易に図ることができる。

また、上記工程［５］および［６］において、それぞれ、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂに共通の中間層６１および第２正孔輸送層４３を一括して形成する構成とした、すなわち中間層６１および第２正孔輸送層４３で構成されるキャリア選択層４６を一体的に形成する構成としたことから、高精細マスクを用いて、発光素子１Ｂに対して選択的に中間層６１および第２正孔輸送層４３を成膜する必要がないため、工程の簡略化、さらには有機ＥＬ装置１００の大面積化を容易に図ることができる。
以上のようにして、駆動用トランジスター２４に対応して、複数の赤色、緑色および青色にそれぞれ発光する発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂが形成される。

［１１］次に、封止基板２０を用意し、共通陰極８と封止基板２０との間にエポキシ系の接着剤を介在させた後、この接着剤を乾燥させる。
これにより、エポキシ層３５を介して、封止基板２０で共通陰極８を覆うように共通陰極８と封止基板２０とを接合することができる。
この封止基板２０は、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂを保護する保護基板としての機能を発揮する。このような封止基板２０を、共通陰極８上に設ける構成とすることで、発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂが酸素や水分に接触するのをより好適に防止または低減できることから、発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの信頼性の向上や、変質・劣化の防止等の効果をより確実に得ることができる。
以上のような工程を経て、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂが封止基板２０により封止された有機ＥＬ装置（本発明の表示装置）１００が完成される。

（第２実施形態）
次に、第２実施形態の有機ＥＬ装置について、図４を参照して説明する。図４は第２実施形態の有機ＥＬ装置における発光素子の構成を示す模式図である。
第２実施形態の有機ＥＬ装置は、第１実施形態に対して、青色発光素子１Ｂにおける機能層の構成を異ならせたものである。したがって、上記第１実施形態と同じ構成には同じ符号を付して詳細の説明は省略する。

具体的には、図４に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置２００は、基板２１上において、赤色（Ｒ）の発光が得られる発光素子１Ｒと、緑色（Ｇ）の発光が得られる発光素子１Ｇと、青色の発光が得られる発光素子２０Ｂとを有している。
発光素子１Ｒの構成は、上記第１実施形態と同じであり、平坦化層２２上に、陽極３Ｒと、正孔注入層４１と、第１正孔輸送層４２と、第１の層としての赤色発光機能層５Ｒと、第３の層としての中間層６１と、第２正孔輸送層４３と、第２の層としての青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。

また、発光素子１Ｇの構成は、上記第１実施形態と同じであり、平坦化層２２上に、陽極３Ｇと、正孔注入層４１と、第１正孔輸送層４２と、第１の層としての緑色発光機能層５Ｇと、第３の層としての中間層６１と、第２正孔輸送層４３と、第２の層としての青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。

発光素子２０Ｂは、平坦化層２２上に、陽極３Ｂと、正孔注入層４１と、第２正孔輸送層４３と、第２の層としての青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。つまり、上記第１実施形態の発光素子１Ｂの構成から第３の層としての中間層６１を除いた構成となっている。

第１の層としての赤色発光機能層５Ｒおよび緑色発光機能層５Ｇと、第３の層としての電子注入材料が分散された有機物からなる中間層６１とは、液相プロセスを用いて形成されている。とりわけ、液相プロセスとしてインクジェット法を用いれば、上記第１実施形態にて説明したように、隔壁３１によって区画された陽極３Ｒ，３Ｇ上にインクジェットヘッドのノズルから対応する機能層形成材料を含む溶液を所定量吐出することによって、所望の赤色発光機能層５Ｒおよび緑色発光機能層５Ｇや中間層６１を積層形成することができる。

一方、第２正孔輸送層４３、青色発光機能層５Ｂ、電子輸送層６２、電子注入層６３、共通陰極８は、それぞれ真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成されている。

したがって、発光素子１Ｒ，１Ｇでは、中間層６１と第２正孔輸送層４３とを含むキャリア選択層４６により、キャリアの流れが制御され、赤色発光機能層５Ｒ、緑色発光機能層５Ｇを選択的または支配的に発光させることができる。
そして、発光素子２０Ｂは、中間層６１を有していないので、陽極３Ｂ側の正孔注入層４１から注入された正孔は中間層６１によってブロックされることなく、第２正孔輸送層４３によって青色発光機能層５Ｂに効率よく運ばれる。また、共通陰極８側の電子注入層６３から注入された電子は、電子輸送層６２によって青色発光機能層５Ｂに効率よく運ばれる。それゆえに、青色発光機能層５Ｂにおいて運ばれた正孔と電子の結合により励起された蛍光またはりん光の発光が得られる。

本実施形態は、中間層６１を発光素子１Ｒ，１Ｇに設ける構成としているので、上記第１実施形態に比べて中間層６１を形成するための電子注入材料やこれを分散させる有機物を無駄にすることなく効率よく発光素子１Ｒ，１Ｇ，２０Ｂを形成することができる。

次に、本発明の具体的実施例について図５〜図７を参照して説明する。図５は比較例１の有機ＥＬ装置における発光素子の構成を示す模式図、図６は比較例２の有機ＥＬ装置における発光素子の構成を示す模式図、図７は実施例と比較例における発光素子における発光状態と素子特性の総合評価結果を示す表である。
なお、本実施例および比較例は大面積の有機ＥＬ装置に関するものであり、赤色発光素子および緑色発光素子をインクジェット法で、青色発光素子を高精細マスクによる塗り分けを必要としないマスクレスの真空蒸着法にて形成するものである。
実施例や比較例において上記第１実施形態と同じ構成には同じ符号を付して詳細の説明は省略する。

（実施例１）
実施例１は、上記第１実施形態の有機ＥＬ装置１００における発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの構成およびその製造方法の一例を具体的に示すものである。
＜１＞ まず、平均厚さ１．０ｍｍの透明なガラス基板を基板２１として用意した。次に、この基板２１上に、スパッタ法により、平均厚さ５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した後、このＩＴＯ膜をフォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることでＩＴＯ電極（陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ／個別電極）を形成した。
そして、陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが形成された基板２１をアセトン、２−プロパノールの順に浸漬し、超音波洗浄した後、酸素プラズマ処理を施した。

＜２＞ 次に、陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが形成された基板２１上に、スピンコート法により、アクリル系樹脂で構成される絶縁層を形成した後、この絶縁層をフォトリソグラフィー法を用いてＩＴＯ電極を露出するようにパターニングすることで隔壁（バンク）を形成した。さらに、隔壁が形成された基板２１の表面を、まずＯ₂ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの表面と隔壁の表面（壁面を含む）が活性化され親液化する。続いて、隔壁が形成された基板２１の表面を、ＣＦ₄ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより、アクリル系樹脂からなる隔壁の表面のみにＣＦ₄ガスが反応して撥液化される。

＜３−１＞ 次に、赤色発光素子１Ｒを形成すべき領域に位置する隔壁の内側に、インクジェット法を用いて、１．０ｗｔ％ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水分散液を塗布した。

＜３−２＞ 次に、緑色発光素子１Ｇを形成すべき領域に位置する隔壁の内側に、インクジェット法を用いて、１．０ｗｔ％ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水分散液を塗布した。

＜３−３＞ 次に、青色発光素子１Ｂを形成すべき領域に位置する隔壁の内側に、インクジェット法を用いて、１．０ｗｔ％ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水分散液を塗布した。

＜３−４＞ 次に、上記各工程で塗布したＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水分散液を乾燥した後、大気中にて基板２１を加熱し、各陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ上に、それぞれ、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳで構成される平均厚さ５０ｎｍのイオン伝導性の正孔注入層４１を形成した。

＜４−１＞ 次に、赤色発光素子１Ｒを形成すべき領域に位置する隔壁の内側に、インクジェット法を用いて、上記化学式（５）で表わされる化合物の１．５ｗｔ％テトラメチルベンゼン溶液を塗布した。

＜４−２＞ 次に、緑色発光素子１Ｇを形成すべき領域に位置する隔壁の内側に、インクジェット法を用いて、上記化学式（５）で表わされる化合物の１．５ｗｔ％テトラメチルベンゼン溶液を塗布した。

＜４−３＞ 次に、上記各工程で塗布した上記化学式（５）で表わされる化合物のテトラメチルベンゼン溶液を乾燥した後、窒素雰囲気中にて基板２１を加熱した。さらに、基板２１の、赤色発光素子１Ｒおよび緑色発光素子１Ｇを形成すべき領域をキシレンによってリンスした。これにより、各正孔注入層４１上に、それぞれ、上記化学式（５）で表わされる化合物で構成される平均厚さ１０ｎｍの第１正孔輸送層４２を形成した。

＜５−１＞ 次に、赤色発光素子１Ｒを形成すべき領域に位置する隔壁の内側に、インクジェット法を用いて、上記化学式（６）で表わされる化合物の１．２ｗｔ％テトラメチルベンゼン溶液を塗布した。

＜５−２＞ 次に、緑色発光素子１Ｇを形成すべき領域に位置する隔壁の内側に、インクジェット法を用いて、上記化学式（１９）で表わされる化合物の１．２ｗｔ％テトラメチルベンゼン溶液を塗布した。

＜５−３＞ 次に、上記各工程で塗布した、上記化学式（６）で表わされる化合物のテトラメチルベンゼン溶液と、上記化学式（１９）で表わされる化合物のテトラメチルベンゼン溶液とを乾燥した後、窒素雰囲気中にて基板２１を加熱する。これにより、各第１正孔輸送層４２上に、それぞれ、上記化学式（６）で表わされる化合物で構成される平均厚さ６０ｎｍの赤色発光機能層５Ｒと、上記化学式（１９）で表わされる化合物で構成される平均厚さ６０ｎｍの緑色発光機能層５Ｇとを形成した。

＜６＞ 次に、赤色発光素子１Ｒを形成すべき領域、緑色発光素子１Ｇを形成すべき領域および青色発光素子１Ｂを形成すべき領域に、それぞれ位置する、赤色発光機能層５Ｒ、緑色発光機能層５Ｇおよび正孔注入層４１上に、ポリビニルアルコールに対して１ｗｔ％のＣｓ₂ＣＯ₃を含む水溶液をスピンコート法で形成し、平均厚さ５ｎｍの膜を形成し、中間層６１とした。

＜７＞ 次に、中間層６１上に、真空蒸着法を用いて、α−ＮＰＤで構成される平均厚さ１０ｎｍの第２正孔輸送層４３を形成した。

＜８＞ 次に、第２正孔輸送層４３上に、真空蒸着法を用いて以下に示す青色発光機能層形成材料で構成される平均厚さ２０ｎｍの青色発光機能層５Ｂを形成した。
ここで、青色発光機能層５Ｂの形成材料としては、ホスト材料として上記化学式（１１）で表わされる化合物を用い、ゲスト材料として上記化学式（１４）で表わされる化合物を用いた。また、青色発光機能層５Ｂ中のゲスト材料（ドーパント）の含有量（ドープ濃度）は、ホスト材料に対して重量比で５．０％とした。

＜９＞ 次に、青色発光機能層５Ｂ上に、真空蒸着法を用いて、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ₃）で構成される平均厚さ２０ｎｍの電子輸送層６２を形成した。

＜１０＞ 次に、電子輸送層６２上に、真空蒸着法を用いてフッ化リチウム（ＬｉＦ）で構成される、平均厚さ１ｎｍの電子注入層６３を形成した。

＜１１＞ 次に、電子注入層６３上に、真空蒸着法を用いてＡｌで構成される、平均厚さ１００ｎｍの共通陰極８を形成した。
＜１２＞ 次に、形成した各層を覆うように、ガラス製の保護カバー（封止部材）を被せ、エポキシ樹脂により固定、封止した。
以上の工程により、図２に示すようなボトムエミッション構造の有機ＥＬ装置１００を製造した。

（実施例２）
実施例２は、上記第２実施形態の有機ＥＬ装置２００における発光素子１Ｒ，１Ｇ，２０Ｂの構成およびその製造方法の一例を具体的に示すものである。
上記実施例１における上記工程＜５−１〜５−３＞、上記工程＜６＞、上記工程＜７＞、上記工程＜８＞および上記工程＜９＞を、それぞれ、下記工程＜５−１’＞、下記工程＜５−２’＞、下記工程＜５−３’＞、下記工程＜６’＞、下記工程＜７’＞、下記工程＜８’＞および下記工程＜９’＞のように変更したこと以外は、上記実施例１と同様にして、図２に示すようなボトムエミッション構造の有機ＥＬ装置２００を製造した。以降、変更した工程について説明する。

＜５−１’＞ では、赤色発光素子１Ｒを形成すべき領域に位置する隔壁の内側に、インクジェット法を用いて、上記化学式（７）で表わされる化合物の１．２ｗｔ％テトラメチルベンゼン溶液を塗布した。
＜５−２’＞ 次に、緑色発光素子１Ｇを形成すべき領域に位置する隔壁の内側に、インクジェット法を用いて、上記化学式（２０）で表わされる化合物の１．２ｗｔ％テトラメチルベンゼン溶液を塗布した。
＜５−３’＞ 次に、上記各工程で塗布した、上記化学式（７）で表わされる化合物のテトラメチルベンゼン溶液と、上記化学式（２０）で表わされる化合物のテトラメチルベンゼン溶液とを乾燥した後、窒素雰囲気中にて基板２１を加熱する。これにより、各第１正孔輸送層４２上に、それぞれ、上記化学式（７）で表わされる化合物で構成される平均厚さ５０ｎｍの赤色発光機能層５Ｒと、上記化学式（２０）で表わされる化合物で構成される平均厚さ５０ｎｍの緑色発光機能層５Ｇとを形成した。

＜６’＞ 次に、赤色発光素子１Ｒを形成すべき領域と、緑色発光素子１Ｇを形成すべき領域とに、それぞれ位置する、赤色発光機能層５Ｒ、緑色発光機能層５Ｇ上に、ポリビニルアルコールに対して１ｗｔ％のＣｓ₂ＣＯ₃を含む水溶液をインクジェット法で選択的に吐出して乾燥させることにより、平均厚さ５ｎｍの膜を形成し、中間層６１とした。
＜７’＞ 次に、赤色発光素子１Ｒを形成すべき領域と、緑色発光素子１Ｇを形成すべき領域と、青色発光機能層５Ｂを形成すべき領域とに、それぞれ位置する、中間層６１上および正孔注入層４１上に、真空蒸着法を用いて、上記化学式（９）で表わされる化合物で構成される平均厚さ１０ｎｍの第２正孔輸送層４３を形成した。
＜８’＞ 次に、第２正孔輸送層４３上に、真空蒸着法を用いて以下に示す青色発光機能層形成材料で構成される平均厚さ１０ｎｍの青色発光機能層５Ｂを形成した。
ここで、青色発光機能層５Ｂの形成材料としては、ホスト材料として上記化学式（１３）で表わされる化合物を用い、ゲスト材料として上記化学式（１５）で表わされる化合物を用いた。また、青色発光機能層５Ｂ中のゲスト材料（ドーパント）の含有量（ドープ濃度）は、ホスト材料に対して重量比で５．０％とした。
＜９’＞ 次に、青色発光機能層５Ｂ上に、真空蒸着法を用いて、上記化学式（１７）で表わされる化合物で構成される平均厚さ３０ｎｍの電子輸送層６２を形成した。

（比較例１）
図５に示すように、比較例１の有機ＥＬ装置３００は、基板２１上に赤色に対応した発光素子３０Ｒと、緑色に対応した発光素子３０Ｇと、青色に対応した発光素子３０Ｂとを有している。
具体的には、発光素子３０Ｒは、平坦化層２２上に、陽極３Ｒと、正孔注入層４１と、第１正孔輸送層４２と、第１の層としての赤色発光機能層５Ｒと、第２正孔輸送層４３と、第２の層としての青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。
発光素子３０Ｇは、平坦化層２２上に、陽極３Ｇと、正孔注入層４１と、第１正孔輸送層４２と、第１の層としての緑色発光機能層５Ｇと、第２正孔輸送層４３と、第２の層としての青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。
発光素子３０Ｂは、平坦化層２２上に、陽極３Ｂと、正孔注入層４１と、第２正孔輸送層４３と、第２の層としての青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。
各機能層の構成およびその製造方法は、上記実施例１と同じである。つまり、比較例１の有機ＥＬ装置３００における各発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂの構成は、上記実施例１の各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの構成から中間層６１を除いた構成となっている。

（比較例２）
図６に示すように、比較例２の有機ＥＬ装置４００は、基板２１上に赤色に対応した発光素子４０Ｒと、緑色に対応した発光素子４０Ｇと、青色に対応した発光素子４０Ｂとを有している。

具体的には、発光素子４０Ｒは、平坦化層２２上に、陽極３Ｒと、正孔注入層４１と、第１正孔輸送層４２と、第１の層としての赤色発光機能層５Ｒと、中間層６１Ｖと、第２正孔輸送層４３と、第２の層としての青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。
発光素子４０Ｇは、平坦化層２２上に、陽極３Ｇと、正孔注入層４１と、第１正孔輸送層４２と、第１の層としての緑色発光機能層５Ｇと、中間層６１Ｖと、第２正孔輸送層４３と、第２の層としての青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。
発光素子４０Ｂは、平坦化層２２上に、陽極３Ｂと、正孔注入層４１と、中間層６１Ｖと、第２正孔輸送層４３と、第２の層としての青色発光機能層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。
中間層６１Ｖは、例えば、電子注入材料としてのＣｓ₂ＣＯ₃を真空蒸着法にて平均の厚さが５ｎｍとなるように成膜したものである。
中間層６１Ｖを除く各機能層の構成およびその製造方法は、上記実施例１と同じである。つまり、比較例２の有機ＥＬ装置４００における各発光素子４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂの構成は、上記実施例１の各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂおける電子注入材料が分散された有機物からなる中間層６１を、電子注入材料単体からなる中間層６１Ｖに置き換えたものである。

図７に示すように、比較例１の有機ＥＬ装置３００における第１の層としての赤色発光機能層５Ｒおよび緑色発光機能層５Ｇは、第２の層としての青色発光機能層５Ｂとの間に形成された第２正孔輸送層４３が青色発光機能層５Ｂを経由して赤色発光機能層５Ｒおよび緑色発光機能層５Ｇに流入しようとする電子をブロックするので、ほとんど発光しない（×）。一方、第２の層である青色発光機能層５Ｂはキャリアである正孔や電子の流入を阻害する要因がないので、発光する（◎）。ゆえに、素子特性の総合評価としては、発光素子３０Ｒ，３０Ｇをそれぞれ所望の色で選択的または支配的に発光させることができないので×である。

比較例２の有機ＥＬ装置４００における第１の層としての赤色発光機能層５Ｒおよび緑色発光機能層５Ｇは、第２の層としての青色発光機能層５Ｂとの間に電子注入材料単体からなる中間層６１Ｖと第２正孔輸送層４３とが形成されているので、上記実施例１と同様に中間層６１Ｖおよび第２正孔輸送層４３がキャリア選択層として機能する。したがって、発光素子４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂをそれぞれ所望の色で選択的または支配的に発光させることができる。しかしながら、中間層６１Ｖの形成工程において、気相プロセスとして例えば真空蒸着法を用いて電子注入材料（この場合、Ｃｓ₂ＣＯ₃；炭酸セシウム）を成膜して中間層６１Ｖを形成すると、電子注入材料の凝集が起り易く、成膜後の中間層６１Ｖにおける十分なキャリア制御機能が得られない。すなわち、中間層６１Ｖから電子注入材料が第２正孔輸送層４３に拡散して電子ブロック機能を十分に低下させることができず、赤色発光機能層５Ｒおよび緑色発光機能層５Ｇの発光に加えて青色発光機能層５Ｂもわずかに発光して、高い色純度の発光が得られない点で△である。また、素子特性の総合評価としては、色純度の問題に加えて、中間層６１Ｖにおける電子注入材料の凝集の度合いが発光寿命にも影響すると考えられるので△である。

このような比較例１，２に対して、実施例１，２は、いずれも赤色発光機能層５Ｒ、緑色発光機能層５Ｇ、青色発光機能層５Ｂが選択的または支配的に発光する（○、◎）。とりわけ、実施例２は、表示領域Ｅ（図１）の各発光素子に渡って中間層６１を液相プロセスで形成する実施例１に比べて、インクジェット法を用い発光素子１Ｒ，１Ｇごとに必要量の溶液を吐出して所望の厚みを有する中間層６１を形成するので、安定した発光特性が得られるという点で優れている（◎）。素子特性の総合評価においても安定した発光寿命が得られる点で優れている（◎）。

（第３実施形態）
＜電子機器＞
次に、本実施形態の電子機器について図８〜図１０を参照して説明する。
上記実施形態の有機ＥＬ装置１００，２００は、各種の電子機器に組み込むことができる。
図８は、電子機器の一例としてのモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピューターを示す斜視図である。
図８に示すように、電子機器としてのパーソナルコンピューター１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示部を備える表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピューター１１００において、表示ユニット１１０６が備える表示部が前述の有機ＥＬ装置１００（または有機ＥＬ装置２００）で構成されている。

図９は、電子機器の一例としての携帯電話機（ＰＨＳも含む）を示す斜視図である。
図９に示すように、電子機器としての携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、表示部を備えている。
携帯電話機１２００において、この表示部が前述の有機ＥＬ装置１００（または有機ＥＬ装置２００）で構成されている。

図１０は、電子機器の一例としてのディジタルスチルカメラを示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、電子機器としてのディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
図１０に示すように、ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、表示部が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。
ディジタルスチルカメラ１３００において、この表示部が前述の有機ＥＬ装置１００（または有機ＥＬ装置２００）で構成されている。
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリーが設置されている。
また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリーに転送・格納される。
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニター１４３０が、データ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピューター１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリーに格納された撮像信号が、テレビモニター１４３０や、パーソナルコンピューター１４４０に出力される構成になっている。

なお、上記実施形態の有機ＥＬ装置１００（または有機ＥＬ装置２００）が適用される電子機器は、上記パーソナルコンピューター（モバイル型パーソナルコンピューター）１１００、携帯電話機１２００、ディジタルスチルカメラ１３００の他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダー型、モニター直視型のビデオテープレコーダー、ラップトップ型パーソナルコンピューター、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレーター、その他各種モニター類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。

以上、本発明の有機ＥＬ装置とその製造方法および電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものでない。
例えば、上記実施形態では、有機ＥＬ装置１００は、青色よりも長波長の光を発光する発光素子として、赤色発光素子１Ｒおよび緑色発光素子１Ｇを備える場合としたが、この場合に限定されず、黄色発光素子や橙色発光素子のような青色よりも長波長の光を発光する発光素子を備えるものであってもよい。この場合、これら黄色発光素子および橙色発光素子に本発明の有機ＥＬ装置の構成が適用される。

１Ｒ…赤色発光素子、１Ｇ…緑色発光素子、１Ｂ…青色発光素子、３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ…陽極、４１，４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ…正孔注入層、４２，４２Ｒ，４２Ｇ…第１正孔輸送層、４３…第２正孔輸送層、４６…キャリア選択層、５Ｒ…第１の層としての赤色発光機能層、５Ｇ…第１の層としての緑色発光機能層、５Ｂ…第２の層としての青色発光機能層、６１…第３の層としての中間層、６２…電子輸送層、６３…電子注入層、８…共通陰極、１００…有機ＥＬ装置、１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂ…サブ画素、２０…封止基板、２１…基板、２２…平坦化層、２４…駆動用トランジスター（ＴＦＴ）、２４１…半導体層、２４２…ゲート絶縁層、２４３…ゲート電極、２４４…ソース電極、２４５…ドレイン電極、２７…配線、３１…隔壁、３５…エポキシ層、１１００…パーソナルコンピューター、１１０２…キーボード、１１０４…本体部、１１０６…表示ユニット、１２００…携帯電話機、１２０２…操作ボタン、１２０４…受話口、１２０６…送話口、１３００…ディジタルスチルカメラ、１３０２…ケース（ボディー）、１３０４…受光ユニット、１３０６…シャッタボタン、１３０８…回路基板、１３１２…ビデオ信号出力端子、１３１４…データ通信用の入出力端子、１４３０…テレビモニター、１４４０…パーソナルコンピューター。

Claims (15)

1. 第１陽極と共通陰極との間に設けられた第１の色を発光する機能を有する第１の層および第２の色を発光する機能を有する第２の層と、前記第１の層と前記第２の層との間に設けられた第３の層とを有し、前記第１の色を発光する第１発光素子と、
   第２陽極と前記共通陰極との間に設けられた前記第２の層を有し、前記第２の色を発光する第２発光素子と、を備え、
   前記第１の層および前記第３の層が液相プロセスを用いて形成され、
   前記第２の層が気相プロセスを用いて形成され、
   前記第３の層は、電子注入材料が分散された有機物からなることを特徴とする有機ＥＬ装置。
2. 第１陽極と共通陰極との間に設けられた第１の色を発光する機能を有する第１の層および第２の色を発光する機能を有する第２の層と、前記第１の層と前記第２の層との間に設けられた第３の層とを有し、前記第１の色を発光する第１発光素子と、
   第２陽極と前記共通陰極との間に設けられた前記第２の層と、前記第２陽極と前記第２の層との間に設けられた前記第３の層とを有し、前記第２の色を発光する第２発光素子と、を備え、
   前記第１の層および前記第３の層が液相プロセスを用いて形成され、
   前記第２の層が気相プロセスを用いて形成され、
   前記第３の層は、電子注入材料が分散された有機物からなることを特徴とする有機ＥＬ装置。
3. 前記第１陽極と前記第１の層との間および前記第２陽極と前記第２の層との間に設けられた第１正孔輸送層と、
   前記第３の層と前記第２の層との間に設けられた第２正孔輸送層とを有することを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ装置。
4. 前記第１の層と前記第３の層とが接して積層されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置。
5. 前記電子注入材料がアルカリ金属、アルカリ土類金属、もしくはそれらの化合物で構成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置。
6. 前記有機物が水溶性の高分子化合物であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置。
7. 前記有機物が水溶性の低分子化合物であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置。
8. 前記第１の色が赤色または緑色であって、
   前記第２の色が青色であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置。
9. 第１陽極上と第２陽極上とにそれぞれ第１正孔輸送層を形成する工程と、
   前記第１陽極側の前記第１正孔輸送層上に第１の色を発光する機能を有する第１の層を液相プロセスを用いて形成する工程と、
   前記第１の層上に電子注入材料が分散された有機物からなる第３の層を液相プロセスを用いて形成する工程と、
   前記第３の層上および前記第２陽極側の前記第１正孔輸送層上に第２の色を発光する機能を有する第２の層をマスクレスの気相プロセスを用いて形成する工程と、
   前記第２の層上に共通陰極を形成する工程と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
10. 第１陽極上と第２陽極上とにそれぞれ第１正孔輸送層を形成する工程と、
    前記第１陽極側の前記第１正孔輸送層上に第１の色を発光する機能を有する第１の層を液相プロセスを用いて形成する工程と、
    前記第１の層上と前記第２陽極側の前記第１正孔輸送層上とに電子注入材料が分散された有機物からなる第３の層を液相プロセスを用いて形成する工程と、
    前記第３の層上に第２の色を発光する機能を有する第２の層をマスクレスの気相プロセスを用いて形成する工程と、
    前記第２の層上に共通陰極を形成する工程と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
11. 前記第３の層と前記第２の層との間に第２正孔輸送層を形成する工程を有することを特徴とする請求項９または１０に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
12. 前記電子注入材料がアルカリ金属、アルカリ土類金属、もしくはそれらの化合物で構成されることを特徴とする請求項９または１０に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
13. 前記有機物が水溶性の高分子化合物であることを特徴とする請求項９乃至１２のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
14. 前記有機物が水溶性の低分子化合物であることを特徴とする請求項９乃至１２のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
15. 請求項１乃至８のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする電子機器。