JP2012213933A - 化粧シート及びそれ用いた化粧板 - Google Patents
化粧シート及びそれ用いた化粧板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012213933A JP2012213933A JP2011081196A JP2011081196A JP2012213933A JP 2012213933 A JP2012213933 A JP 2012213933A JP 2011081196 A JP2011081196 A JP 2011081196A JP 2011081196 A JP2011081196 A JP 2011081196A JP 2012213933 A JP2012213933 A JP 2012213933A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- meth
- decorative sheet
- acrylate
- resin
- protective layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Drawing Aids And Blackboards (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【課題】ホワイトボードとしてのマーカー消去性を有し、マーカーを消去した際に発生するマーカー中に含まれる剥離剤の残り（ゴースト）を軽減させると共に、耐擦傷性とプロジェクターによる映写機能を付与したホワイトボードとして好適な化粧シートを提供する。
【解決手段】フィルム基材と、電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋硬化物からなる表面保護層を有する化粧シートであって、（１）前記表面保護層が、レベリング剤としてアクリル骨格を有する樹脂を、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して０．１〜４．０質量部の割合で含有し、（２）該アクリル骨格を有する樹脂の構成単位として、ヒドロキシ基を有しない（メタ）アクリル酸アルキルエステルを含み、且つ（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル及び芳香族ビニル化合物の中から選ばれる少なくとも一種を含むポリ（メタ）アクリレートであることを特徴とする化粧シート及びそれを基板に積層した化粧板である。
【選択図】図１
【解決手段】フィルム基材と、電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋硬化物からなる表面保護層を有する化粧シートであって、（１）前記表面保護層が、レベリング剤としてアクリル骨格を有する樹脂を、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して０．１〜４．０質量部の割合で含有し、（２）該アクリル骨格を有する樹脂の構成単位として、ヒドロキシ基を有しない（メタ）アクリル酸アルキルエステルを含み、且つ（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル及び芳香族ビニル化合物の中から選ばれる少なくとも一種を含むポリ（メタ）アクリレートであることを特徴とする化粧シート及びそれを基板に積層した化粧板である。
【選択図】図１
Description
ホワイトボードとしてのマーカー消去性を有し、マーカーを消去した際に発生するマーカー中に含まれる剥離剤の残り（ゴースト）を軽減させると共に、耐擦傷性とプロジェクターによる映写機能を付与したホワイトボードとして好適な化粧シートに関するものである。
近年、反射型スクリーン及びホワイトボードの設置場所の省スペース化やプレゼンテーションの効率化等の要請から、両者の機能を備えたボードが各種提案され、実用化されている（例えば特許文献１及び２参照）。
一般にホワイトボードのような筆記ボードは、水性ペンによる筆記と消去が可能であるために、その表面は平滑であることが求められる。一方、反射型スクリーンは光を反射し、しかも反射された光が像として見やすいために防眩性を備えていることが要求される。
このため従来の反射型スクリーン兼用筆記ボードは、芳香族ポリエステルやフッ素樹脂など、水性インクに対しぬれ性の少ない或いは易消去性の樹脂層を、基材上に設けることにより、水性インクによる筆記／消去性を付与するとともにボード表面の光沢度を抑え、防眩性を図っている。ボード表面の光沢度を抑えるために、通常、表面樹脂層中に顔料や光拡散剤が添加される。
しかし表面に顔料等を含む層を形成した場合、顔料と顔料との間にインクが染み込みやすく、一度染み込んでしまうと拭取ってもインクを消去できないという問題があった。また顔料を含有せしめた場合には、ボード表面の凹凸の微細な調整が困難であり、インク消去性と防眩性を両立させることができる表面の凹凸を形成することが困難であった。
一般にホワイトボードのような筆記ボードは、水性ペンによる筆記と消去が可能であるために、その表面は平滑であることが求められる。一方、反射型スクリーンは光を反射し、しかも反射された光が像として見やすいために防眩性を備えていることが要求される。
このため従来の反射型スクリーン兼用筆記ボードは、芳香族ポリエステルやフッ素樹脂など、水性インクに対しぬれ性の少ない或いは易消去性の樹脂層を、基材上に設けることにより、水性インクによる筆記／消去性を付与するとともにボード表面の光沢度を抑え、防眩性を図っている。ボード表面の光沢度を抑えるために、通常、表面樹脂層中に顔料や光拡散剤が添加される。
しかし表面に顔料等を含む層を形成した場合、顔料と顔料との間にインクが染み込みやすく、一度染み込んでしまうと拭取ってもインクを消去できないという問題があった。また顔料を含有せしめた場合には、ボード表面の凹凸の微細な調整が困難であり、インク消去性と防眩性を両立させることができる表面の凹凸を形成することが困難であった。
特許文献３には、筆記性、消去性、防眩性に優れ、さらにシート表面のクラックの発生がなく、耐擦傷性に優れ表面に傷がつきにくいホワイトボード兼スクリーンとして使用可能なシートとして、エンボス加工による凹凸を有する表面クリア層、ベースフィルム層、及び粘着剤層からなり、前記表面クリア層が、フッ素官能基を有する紫外線硬化型のオリゴマーおよび／またはフッ素官能基を有する紫外線硬化型のモノマーを構成要素とする樹脂を含む塗膜であり、かつ前記樹脂が、固形分換算で０．０２質量％〜０．１質量％のフッ素を含む筆記シートが開示されている。
前記特許文献３に記載の技術においては、表面クリア層に、フッ素官能基を導入することにより、ホワイトボード兼スクリーンとして使用されるシートの要求特性である筆記性、消去性及び防眩性を兼ね備えたシートとする技術であって、表面クリア層に、レベリング剤として特定の性状を有するアクリル骨格を有する樹脂を含有させる技術ではない。
本発明は、このような状況下になされたものであり、ホワイトボードとしてのマーカー消去性を有し、マーカーを消去した際に発生するマーカー中に含まれる剥離剤の残り（ゴースト）を軽減させると共に、耐擦傷性とプロジェクターによる映写機能を付与したホワイトボードとして好適な化粧シートを提供することを課題とする。
本発明は、このような状況下になされたものであり、ホワイトボードとしてのマーカー消去性を有し、マーカーを消去した際に発生するマーカー中に含まれる剥離剤の残り（ゴースト）を軽減させると共に、耐擦傷性とプロジェクターによる映写機能を付与したホワイトボードとして好適な化粧シートを提供することを課題とする。
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、表面保護層中に、レベリング剤として、特定の構成単位を有するアクリル骨格の樹脂を特定の割合で含有させることにより、その目的を達成し得ることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、
［１］フィルム基材と、電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋硬化物からなる表面保護層を有する化粧シートであって、
（１）前記表面保護層が、レベリング剤としてアクリル骨格を有する樹脂を、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して０．１〜４．０質量部の割合で含有し、
（２）該アクリル骨格を有する樹脂の構成単位として、ヒドロキシ基を有しない（メタ）アクリル酸アルキルエステルを含み、且つ（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル及び芳香族ビニル化合物の中から選ばれる少なくとも一種を含むポリ（メタ）アクリレートであることを特徴とする化粧シート、
［２］前記フィルム基材と表面保護層との間に、全面白色層及び／又はプライマー層を有する、上記［１］に記載の化粧シート、
［３］前記表面保護層が凹凸形状を有し、６０°表面光沢値が５〜３０である、上記［１］又は［２］に記載の化粧シート（表面光沢値の測定方法： グロスメーターを使用し、入射光＝６０°の条件で測定する。）、及び
［４］上記［１］〜［３］のいずれかに記載の化粧シートを基板に積層した化粧板
を提供するものである。
［１］フィルム基材と、電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋硬化物からなる表面保護層を有する化粧シートであって、
（１）前記表面保護層が、レベリング剤としてアクリル骨格を有する樹脂を、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して０．１〜４．０質量部の割合で含有し、
（２）該アクリル骨格を有する樹脂の構成単位として、ヒドロキシ基を有しない（メタ）アクリル酸アルキルエステルを含み、且つ（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル及び芳香族ビニル化合物の中から選ばれる少なくとも一種を含むポリ（メタ）アクリレートであることを特徴とする化粧シート、
［２］前記フィルム基材と表面保護層との間に、全面白色層及び／又はプライマー層を有する、上記［１］に記載の化粧シート、
［３］前記表面保護層が凹凸形状を有し、６０°表面光沢値が５〜３０である、上記［１］又は［２］に記載の化粧シート（表面光沢値の測定方法： グロスメーターを使用し、入射光＝６０°の条件で測定する。）、及び
［４］上記［１］〜［３］のいずれかに記載の化粧シートを基板に積層した化粧板
を提供するものである。
本発明によれば、ホワイトボードとしてのマーカー消去性を有し、マーカーを消去した際に発生するマーカー中に含まれる剥離剤の残り（ゴースト）を軽減させると共に、耐擦傷性とプロジェクターによる映写機能を付与したホワイトボードとして好適な化粧シートを提供することができる。
以下、本発明の化粧シートについて説明する。
［化粧シート］
本発明の化粧シートは、フィルム基材と、電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋硬化物からなる表面保護層を有する化粧シートであって、
（１）前記表面保護層が、レベリング剤としてアクリル骨格を有する樹脂を、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して０．１〜４．０質量部の割合で含有し、
（２）該アクリル骨格を有する樹脂の構成単位として、ヒドロキシ基を有しない（メタ）アクリル酸アルキルエステルを含み、且つ（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル及び芳香族ビニル化合物の中から選ばれる少なくとも一種を含むポリ（メタ）アクリレートであることを特徴とする。
［化粧シート］
本発明の化粧シートは、フィルム基材と、電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋硬化物からなる表面保護層を有する化粧シートであって、
（１）前記表面保護層が、レベリング剤としてアクリル骨格を有する樹脂を、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して０．１〜４．０質量部の割合で含有し、
（２）該アクリル骨格を有する樹脂の構成単位として、ヒドロキシ基を有しない（メタ）アクリル酸アルキルエステルを含み、且つ（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル及び芳香族ビニル化合物の中から選ばれる少なくとも一種を含むポリ（メタ）アクリレートであることを特徴とする。
本発明の化粧シートについて、添付図面に従って説明する。図１は、本発明の化粧シートの構成の一例を示す断面模式図であって、化粧シート４は、フィルム基材１の表面側に所望により順次設けられた全面白色層２及びプライマー層３を介して、表面保護層４が積層された構造を有している。
（フィルム基材）
本発明の化粧シートにおけるフィルム基材としては熱可塑性樹脂フィルムを用いることができる。この熱可塑性樹脂フィルムとしては、特に制限はなく例えばポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィンなど、メタクリル酸メチル、アクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸エステルの単独若しくは共重合体、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、フッ素樹脂を素材とするフィルムを用いることができる。これらのフィルムは、チタン白などの白色顔料を練り込んだ白色フィルムが好ましいが、白色に限定されるものではない。
当該フィルム基材の厚さは特に限定されないが、通常５０〜３００μｍ程度、好ましくは８０〜２００μｍである。
本発明の化粧シートにおけるフィルム基材としては熱可塑性樹脂フィルムを用いることができる。この熱可塑性樹脂フィルムとしては、特に制限はなく例えばポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィンなど、メタクリル酸メチル、アクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸エステルの単独若しくは共重合体、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、フッ素樹脂を素材とするフィルムを用いることができる。これらのフィルムは、チタン白などの白色顔料を練り込んだ白色フィルムが好ましいが、白色に限定されるものではない。
当該フィルム基材の厚さは特に限定されないが、通常５０〜３００μｍ程度、好ましくは８０〜２００μｍである。
当該フィルム基材１は、その上に設けられる層との密着性を向上させるために、所望により、片面または両面に酸化法や凹凸化法などの物理的または化学的表面処理を施すことができる。
上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸化処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線処理法などが挙げられ、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理は、フィルム基材１の種類に応じて適宜選択されるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から好ましく用いられる。
上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸化処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線処理法などが挙げられ、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理は、フィルム基材１の種類に応じて適宜選択されるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から好ましく用いられる。
本発明の化粧シートにおいては、前述したフィルム基材１の表面側に、所望により全面白色層及び／又はプライマー層が設けられる。
（全面白色層）
全面白色層２を設ける場合には、前述したフィルム基材１表面に設けることが好ましい。当該全面白色層２は、白色ベタ層であり、例えばチタン白（酸化チタン）を５０質量％程度以上含有する白色インキを、従来公知の塗布法により、フィルム基材１表面に、層の厚さが１〜５μｍ程度になるように塗布（塗布量１〜５ｇ／ｍ2程度）することにより形成することができる。この全面白色層２を形成することにより、色調整が好適にできるようになり、得られる化粧シートの白色度が強調される。
（全面白色層）
全面白色層２を設ける場合には、前述したフィルム基材１表面に設けることが好ましい。当該全面白色層２は、白色ベタ層であり、例えばチタン白（酸化チタン）を５０質量％程度以上含有する白色インキを、従来公知の塗布法により、フィルム基材１表面に、層の厚さが１〜５μｍ程度になるように塗布（塗布量１〜５ｇ／ｍ2程度）することにより形成することができる。この全面白色層２を形成することにより、色調整が好適にできるようになり、得られる化粧シートの白色度が強調される。
（プライマー層）
本発明の化粧シートにおいて、プライマー層３を設ける場合には、前述の全面白色層２上に設けることが好ましい。当該プライマー層３は、後で説明する表面保護層４とフィルム基材１との層間密着強度を高めるために設けられる層である。当該プライマー層３は、例えばアクリルポリオール系樹脂と、イソシアネート系硬化剤との組み合わせを含む２液硬化型プライマーインキを、従来公知の塗布法により、全面白色層２上に、層の厚さが１〜５μｍ程度になるように塗布（塗布量１〜５ｇ／ｍ2程度）することにより形成することができる。
本発明の化粧シートにおいて、プライマー層３を設ける場合には、前述の全面白色層２上に設けることが好ましい。当該プライマー層３は、後で説明する表面保護層４とフィルム基材１との層間密着強度を高めるために設けられる層である。当該プライマー層３は、例えばアクリルポリオール系樹脂と、イソシアネート系硬化剤との組み合わせを含む２液硬化型プライマーインキを、従来公知の塗布法により、全面白色層２上に、層の厚さが１〜５μｍ程度になるように塗布（塗布量１〜５ｇ／ｍ2程度）することにより形成することができる。
（表面保護層）
本発明の化粧シートにおいて、前述した所望により設けられるプライマー層３上に形成される表面保護層４は、電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋硬化物であって、レベリング剤としてアクリル骨格を有する樹脂を、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して０．１〜４．０質量部の割合で含有する。
ここで、レベリング剤とは、表面保護層の表面エネルギーを下げるために電離放射線硬化性樹脂組成物に加えられる添加剤を指し、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋しうるエネルギー量子を有するものを意味し、通常紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。また、電離放射線硬化性樹脂組成物とは、上記電離放射線を照射することにより、架橋、硬化する樹脂組成物を指す。具体的には、従来電離放射線硬化性樹脂として慣用されている重合性モノマー及び重合性オリゴマーないしはプレポリマーの中から適宜選択して用いることができる。
本発明の化粧シートにおいて、前述した所望により設けられるプライマー層３上に形成される表面保護層４は、電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋硬化物であって、レベリング剤としてアクリル骨格を有する樹脂を、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して０．１〜４．０質量部の割合で含有する。
ここで、レベリング剤とは、表面保護層の表面エネルギーを下げるために電離放射線硬化性樹脂組成物に加えられる添加剤を指し、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋しうるエネルギー量子を有するものを意味し、通常紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。また、電離放射線硬化性樹脂組成物とは、上記電離放射線を照射することにより、架橋、硬化する樹脂組成物を指す。具体的には、従来電離放射線硬化性樹脂として慣用されている重合性モノマー及び重合性オリゴマーないしはプレポリマーの中から適宜選択して用いることができる。
＜電離放射線硬化性樹脂＞
本発明に係る電離放射線硬化性樹脂は、平均官能基数が１．０〜８．０であり、数平均分子量が５００〜４０００であることが好ましく、平均官能基数が２．０〜５．０であり、数平均分子量が１０００〜３０００であることがより好ましい。ここで、数平均分子量は、後述するレベリング剤と同様なＧＰＣ法により標準ポリスチレン換算で得られた値である。なお、官能基数１とは単官能を意味する。
本発明に係る電離放射線硬化性樹脂は、平均官能基数が１．０〜８．０であり、数平均分子量が５００〜４０００であることが好ましく、平均官能基数が２．０〜５．０であり、数平均分子量が１０００〜３０００であることがより好ましい。ここで、数平均分子量は、後述するレベリング剤と同様なＧＰＣ法により標準ポリスチレン換算で得られた値である。なお、官能基数１とは単官能を意味する。
《重合性モノマー》
代表的には、重合性モノマーとして、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つ（メタ）アクリレート系モノマーが好適であり、中でも多官能性（メタ）アクリレートが好ましい。なお、ここで「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート又はメタクリレート」を意味する。多官能性（メタ）アクリレートとしては、分子内にエチレン性不飽和結合を２個以上有する（メタ）アクリレートであれば良く、特に制限はない。具体的にはエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの多官能性（メタ）アクリレートは１種を単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
代表的には、重合性モノマーとして、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つ（メタ）アクリレート系モノマーが好適であり、中でも多官能性（メタ）アクリレートが好ましい。なお、ここで「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート又はメタクリレート」を意味する。多官能性（メタ）アクリレートとしては、分子内にエチレン性不飽和結合を２個以上有する（メタ）アクリレートであれば良く、特に制限はない。具体的にはエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの多官能性（メタ）アクリレートは１種を単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
《単官能性（メタ）アクリレート》
本発明においては、前記多官能性（メタ）アクリレートとともに、その粘度を低下させるなどの目的で、単官能性（メタ）アクリレートを、本発明の目的を損なわない範囲で適宜併用することができる。単官能性（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの単官能性（メタ）アクリレートは１種を単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
本発明においては、前記多官能性（メタ）アクリレートとともに、その粘度を低下させるなどの目的で、単官能性（メタ）アクリレートを、本発明の目的を損なわない範囲で適宜併用することができる。単官能性（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの単官能性（メタ）アクリレートは１種を単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
《重合性オリゴマー》
重合性オリゴマーとしては、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つオリゴマー、例えばエポキシ（メタ）アクリレート系、ウレタン（メタ）アクリレート系、ポリエステル（メタ）アクリレート系、ポリエーテル（メタ）アクリレート系などが挙げられる。ここで、エポキシ（メタ）アクリレート系オリゴマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、（メタ）アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。また、このエポキシ（メタ）アクリレート系オリゴマーを部分的に二塩基性カルボン酸無水物で変性したカルボキシル変性型のエポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーも用いることができる。ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリエステル（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリエーテル（メタ）アクリレート系オリゴマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。
重合性オリゴマーとしては、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つオリゴマー、例えばエポキシ（メタ）アクリレート系、ウレタン（メタ）アクリレート系、ポリエステル（メタ）アクリレート系、ポリエーテル（メタ）アクリレート系などが挙げられる。ここで、エポキシ（メタ）アクリレート系オリゴマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、（メタ）アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。また、このエポキシ（メタ）アクリレート系オリゴマーを部分的に二塩基性カルボン酸無水物で変性したカルボキシル変性型のエポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーも用いることができる。ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリエステル（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリエーテル（メタ）アクリレート系オリゴマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。
さらに、重合性オリゴマーとしては、他にポリブタジエンオリゴマーの側鎖に（メタ）アクリレート基をもつ疎水性の高いポリブタジエン（メタ）アクリレート系オリゴマー、主鎖にポリシロキサン結合をもつシリコーン（メタ）アクリレート系オリゴマー、小さな分子内に多くの反応性基をもつアミノプラスト樹脂を変性したアミノプラスト樹脂（メタ）アクリレート系オリゴマー、あるいはノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、脂肪族ビニルエーテル、芳香族ビニルエーテル等の分子中にカチオン重合性官能基を有するオリゴマーなどがある。
＜光重合用開始剤＞
電離放射線硬化性樹脂組成物として紫外線硬化性樹脂組成物を用いる場合には、光重合用開始剤を樹脂組成物１００質量部に対して、０．１〜５質量部程度添加することが望ましい。光重合用開始剤としては、従来慣用されているものから適宜選択することができ、特に限定されず、例えば、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する重合性モノマーや重合性オリゴマーに対しては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−２（ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、ベンゾフェノン、ｐ−フェニルベンゾフェノン、４，４'−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャリーブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタールなどが挙げられる。
また、分子中にカチオン重合性官能基を有する重合性オリゴマー等に対しては、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等が挙げられる。
また、光増感剤としては、例えばｐ−ジメチル安息香酸エステル、第三級アミン類、チオール系増感剤などを用いることができる。
電離放射線硬化性樹脂組成物として紫外線硬化性樹脂組成物を用いる場合には、光重合用開始剤を樹脂組成物１００質量部に対して、０．１〜５質量部程度添加することが望ましい。光重合用開始剤としては、従来慣用されているものから適宜選択することができ、特に限定されず、例えば、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する重合性モノマーや重合性オリゴマーに対しては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−２（ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、ベンゾフェノン、ｐ−フェニルベンゾフェノン、４，４'−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャリーブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタールなどが挙げられる。
また、分子中にカチオン重合性官能基を有する重合性オリゴマー等に対しては、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等が挙げられる。
また、光増感剤としては、例えばｐ−ジメチル安息香酸エステル、第三級アミン類、チオール系増感剤などを用いることができる。
本発明においては、電離放射線硬化性樹脂組成物として電子線硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。電子線硬化性樹脂組成物は無溶剤化が可能であって、環境や健康の観点からより好ましく、また光重合用開始剤を必要とせず、安定な硬化特性が得られるからである。
＜レベリング剤＞
本発明の化粧シートにおいて、表面保護層４に含まれるレベリング剤は、当該化粧シートをホワイトボード化粧シートとして用いる場合、優れた筆記消去性、特に繰り返し消去性と、表面意匠安定性を付与するために用いられる。
本発明においては、このレベリング剤として、アクリル骨格を有する樹脂であって、構成単位として、ヒドロキシ基を有しない（メタ）アクリル酸アルキルエステルを含み、且つ（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル及び芳香族ビニル化合物の中から選ばれる少なくとも一種を含むポリ（メタ）アクリレートを用いる。
本発明の化粧シートにおいて、表面保護層４に含まれるレベリング剤は、当該化粧シートをホワイトボード化粧シートとして用いる場合、優れた筆記消去性、特に繰り返し消去性と、表面意匠安定性を付与するために用いられる。
本発明においては、このレベリング剤として、アクリル骨格を有する樹脂であって、構成単位として、ヒドロキシ基を有しない（メタ）アクリル酸アルキルエステルを含み、且つ（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル及び芳香族ビニル化合物の中から選ばれる少なくとも一種を含むポリ（メタ）アクリレートを用いる。
ヒドロキシ基を有しない（メタ）アクリル酸アルキルエステルのアルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれであっても良く、アルキル基の炭素数は１〜１０であることが好ましい。該ヒドロキシ基を有しない（メタ）アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレートなどのアクリレート及びそれに対応するメタクリレートなどを挙げることができる。
本発明においては、アクリル骨格を有する樹脂の構成単位として、前記ヒドロキシ基を有しない（メタ）アクリル酸アルキルエステルに加えて、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル及び芳香族ビニル化合物の中から選ばれる少なくとも一種を含む。
本発明においては、アクリル骨格を有する樹脂の構成単位として、前記ヒドロキシ基を有しない（メタ）アクリル酸アルキルエステルに加えて、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル及び芳香族ビニル化合物の中から選ばれる少なくとも一種を含む。
本発明においては、アクリル骨格を有する樹脂の構成単位である（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルとしては、炭素数１〜１０のヒドロキシアルキル基を有するものが好ましく、炭素数１〜５のヒドロキシアルキル基を有するものがより好ましい。炭素数１〜１０のヒドロキシアルキル基を有する（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの具体例としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、３−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレートなどのアクリレート、及びそれに対応するメタクリレートなどを挙げることができる。
また、アクリル骨格を有する樹脂の構成単位である芳香族ビニル化合物としては、例えばスチレン及びα−メチルスチレンなどを挙げることができる。
また、アクリル骨格を有する樹脂の構成単位である芳香族ビニル化合物としては、例えばスチレン及びα−メチルスチレンなどを挙げることができる。
本発明においては、アクリル骨格を有する樹脂の構成単位として、不飽和脂肪酸、ポリエーテル成分及び多価アルコール成分を有さないことが好ましい。これらの不飽和脂肪酸、ポリエーテル成分及び／又は多価アルコール成分を有するとホワイトボードマーカーとの親和性により、消去性が低下するからである。
本発明において、レベリング剤として用いるアクリル骨格を有する樹脂（ポリ（メタ）アクリレート）の数平均分子量は、マーカー筆記性及びマーカー消去性を向上させる観点から、１，０００〜２０，０００の範囲にあることが好ましく、１，５００〜１３，０００の範囲にあることがより好ましい。
なお、上記数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定される標準ポリスチレン換算の値である。
また、表面保護層４における当該レベリング剤の含有量は、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．１〜４．０質量部であることを要し、０．２〜２．０質量部であることが好ましい。０．１質量部未満では、筆記消去性、特に繰り返し消去性と、表面意匠安定性を付与することができない。４．０質量部を超えるとマーカー残存率が高くなり好ましくない。
なお、上記数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定される標準ポリスチレン換算の値である。
また、表面保護層４における当該レベリング剤の含有量は、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．１〜４．０質量部であることを要し、０．２〜２．０質量部であることが好ましい。０．１質量部未満では、筆記消去性、特に繰り返し消去性と、表面意匠安定性を付与することができない。４．０質量部を超えるとマーカー残存率が高くなり好ましくない。
本発明における電離放射線硬化性樹脂組成物には、本発明の目的が損なわれない範囲で、所望により各種添加剤を配合することができる。この添加剤としては、例えば、耐候性改善剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、接着性向上剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、溶剤、着色剤などが挙げられる。
ここで、耐候性改善剤としては、紫外線吸収剤や光安定剤を用いることができる。紫外線吸収剤は、無機系、有機系のいずれでも良く、無機系紫外線吸収剤としては、平均粒径が５〜１２０ｎｍ程度の二酸化チタン、酸化セリウム、酸化亜鉛などを好ましく用いることができる。また、有機系紫外線吸収剤としては、例えばベンゾトリアゾール系、具体的には、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、ポリエチレングリコールの３−［３−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオン酸エステルなどが挙げられる。一方、光安定剤としては、例えばヒンダードアミン系、具体的には２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２'−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレートなどが挙げられる。また、紫外線吸収剤や光安定剤として、分子内に（メタ）アクリロイル基などの重合性基を有する反応性の紫外線吸収剤や光安定剤を用いることもできる。
重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコールなどが挙げられる。
架橋剤としては、例えばフッ化アクリレート、シリコーンアクリレート、ポリイソシアネート化合物、エポキシ化合物、金属キレート化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物などが用いられる。これらのうち、特にフッ化アクリレート及びシリコーンアクリレートが好ましい。
着色剤としては、例えばキナクリドンレッド、イソインドリノンイエロー、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、酸化チタン、カーボンブラックなどの公知の着色用顔料などが用いられる。
赤外線吸収剤としては、例えば、ジチオール系金属錯体、フタロシアニン系化合物、ジインモニウム化合物等が用いられる。
架橋剤としては、例えばフッ化アクリレート、シリコーンアクリレート、ポリイソシアネート化合物、エポキシ化合物、金属キレート化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物などが用いられる。これらのうち、特にフッ化アクリレート及びシリコーンアクリレートが好ましい。
着色剤としては、例えばキナクリドンレッド、イソインドリノンイエロー、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、酸化チタン、カーボンブラックなどの公知の着色用顔料などが用いられる。
赤外線吸収剤としては、例えば、ジチオール系金属錯体、フタロシアニン系化合物、ジインモニウム化合物等が用いられる。
＜表面保護層の形成＞
前述した電子線硬化性樹脂である重合性モノマーや重合性オリゴマー、レベリング剤であるアクリル骨格を有する樹脂（ポリ（メタ）アクリレート）及び各種添加剤を、それぞれ所定の割合で均質に混合し、電子線硬化性樹脂組成物からなる塗布液を調製する。この塗布液の粘度は、後述の塗布方式により、フィルム基材１の表面に未硬化樹脂層を形成し得る粘度であれば良く、特に制限はない。
本発明においては、このようにして調製された塗布液を、フィルム基材１上に設けられたプライマー層３の表面に、硬化後の厚さが１〜２０μｍ程度になるように、グラビアコート、バーコート、ロールコート、リバースロールコート、コンマコートなどの公知の方式、好ましくはグラビアコートにより塗布し、未硬化樹脂層を形成させる。
前述した電子線硬化性樹脂である重合性モノマーや重合性オリゴマー、レベリング剤であるアクリル骨格を有する樹脂（ポリ（メタ）アクリレート）及び各種添加剤を、それぞれ所定の割合で均質に混合し、電子線硬化性樹脂組成物からなる塗布液を調製する。この塗布液の粘度は、後述の塗布方式により、フィルム基材１の表面に未硬化樹脂層を形成し得る粘度であれば良く、特に制限はない。
本発明においては、このようにして調製された塗布液を、フィルム基材１上に設けられたプライマー層３の表面に、硬化後の厚さが１〜２０μｍ程度になるように、グラビアコート、バーコート、ロールコート、リバースロールコート、コンマコートなどの公知の方式、好ましくはグラビアコートにより塗布し、未硬化樹脂層を形成させる。
上述のようにして形成された未硬化樹脂層に、電子線を照射して該未硬化樹脂層を硬化させる。その加速電圧については、用いる樹脂や層の厚みに応じて適宜選定し得るが、通常加速電圧７０〜３００ｋＶ程度で未硬化樹脂層を硬化させることが好ましい。
なお、電子線の照射においては、加速電圧が高いほど透過能力が増加するため、フィルム基材として電子線により劣化するフィルム基材を使用する場合には、電子線の透過深さと樹脂層の厚みが実質的に等しくなるように、加速電圧を選定することにより、フィルム基材への余分の電子線の照射を抑制することができ、過剰電子線による基材の劣化を最小限にとどめることができる。
また、照射線量は、樹脂層の架橋密度が飽和する量が好ましく、通常５〜３００ｋＧｙの範囲で選定される。
なお、電子線の照射においては、加速電圧が高いほど透過能力が増加するため、フィルム基材として電子線により劣化するフィルム基材を使用する場合には、電子線の透過深さと樹脂層の厚みが実質的に等しくなるように、加速電圧を選定することにより、フィルム基材への余分の電子線の照射を抑制することができ、過剰電子線による基材の劣化を最小限にとどめることができる。
また、照射線量は、樹脂層の架橋密度が飽和する量が好ましく、通常５〜３００ｋＧｙの範囲で選定される。
本発明の化粧シートにおいては、このようにして形成された表面保護層に凹凸を形成し、６０°表面光沢値（６０°グロス値）を５〜３０の範囲にすることが好ましい。該６０°表面光沢値が上記範囲にあれば、良好なプロジェクターによる映写機能が付与される。
表面保護層に凹凸を形成する方法としては、エンボスによる凹凸の形成方法を採用することが好ましい。この場合、電離放射線硬化性樹脂組成物層に電離放射線を照射して架橋硬化させたのち、これに所定の凹凸模様が形成されたエンボスロール又はエンボス板を圧接させて表面保護層の表面に凹凸を設ける。圧接の際には、必要に応じ加熱しても良い。
あるいは、未硬化の電離放射線硬化性樹脂組成物層を、所定の凹凸が形成された賦型材で型付けした状態で、電離放射線を照射して架橋硬化させ、その後、賦型材から剥離することにより、表面保護層の表面に凹凸を形成しても良い。
表面保護層に凹凸を形成する方法としては、エンボスによる凹凸の形成方法を採用することが好ましい。この場合、電離放射線硬化性樹脂組成物層に電離放射線を照射して架橋硬化させたのち、これに所定の凹凸模様が形成されたエンボスロール又はエンボス板を圧接させて表面保護層の表面に凹凸を設ける。圧接の際には、必要に応じ加熱しても良い。
あるいは、未硬化の電離放射線硬化性樹脂組成物層を、所定の凹凸が形成された賦型材で型付けした状態で、電離放射線を照射して架橋硬化させ、その後、賦型材から剥離することにより、表面保護層の表面に凹凸を形成しても良い。
さらに、電離放射線硬化性樹脂組成物に、平均粒子径０．１〜２０μｍ程度の有機フィラー又は無機フィラーを、本発明の目的が損なわれない範囲で添加してなる未硬化樹脂組成物層に、電離放射線を照射して加熱硬化させることにより、表面保護層に凹凸を形成することができるが、フィラーの添加はマーカー消去性に悪影響を与えるので好ましくない。
［化粧板］
本発明の化粧シートは、ホワイトボードとしてのマーカー消去性を有し、マーカーを消去した際に発生するマーカー中に含まれる剥離剤の残り（ゴースト）を軽減させると共に、耐擦傷性とプロジェクターによる映写機能が付与されており、映写スクリーン兼用ホワイトボード用シートとして好適であるが、用途はホワイトボードに限定されず、本発明の化粧シートの用途として、本発明の化粧シートを基板に積層した各種化粧板が挙げられる。なお、化粧シートのフィルム基材１側と基板とが対向するように積層され、化粧板が得られる。
（基板）
本発明の化粧シートを貼り付けるための基板は、特に限定されず、板状体であればどのような基板も使用できるが、例えば、鋼板、アルミニウム板等の金属板；杉、檜、欅、松、ラワン、チーク、メラピー等各種素材の木質単板、木質合板、早成樹合板、パーチクルボード、中密度木質繊維板（ＭＤＦ）、高密度木質繊維板（ＨＤＦ）等の木質基板；ガラス基板；石膏板、珪酸カルシウム板、木片セメント板等の窯業系基板；ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリメタクリル酸エチル樹脂、ポリアクリル酸ブチル樹脂、ナイロン６又はナイロン６６等で代表されるポリアミド樹脂、三酢酸セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂等の、プラスチック単板、プラスチック多層板、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）板等のプラスチック板；ペーパーハニカムの両面に鉄板を貼ったもの、２枚のアルミニウム板でポリエチレン樹脂を挟んだもの等、各種の素材の複合体；などが例示される。
本発明の化粧シートは、ホワイトボードとしてのマーカー消去性を有し、マーカーを消去した際に発生するマーカー中に含まれる剥離剤の残り（ゴースト）を軽減させると共に、耐擦傷性とプロジェクターによる映写機能が付与されており、映写スクリーン兼用ホワイトボード用シートとして好適であるが、用途はホワイトボードに限定されず、本発明の化粧シートの用途として、本発明の化粧シートを基板に積層した各種化粧板が挙げられる。なお、化粧シートのフィルム基材１側と基板とが対向するように積層され、化粧板が得られる。
（基板）
本発明の化粧シートを貼り付けるための基板は、特に限定されず、板状体であればどのような基板も使用できるが、例えば、鋼板、アルミニウム板等の金属板；杉、檜、欅、松、ラワン、チーク、メラピー等各種素材の木質単板、木質合板、早成樹合板、パーチクルボード、中密度木質繊維板（ＭＤＦ）、高密度木質繊維板（ＨＤＦ）等の木質基板；ガラス基板；石膏板、珪酸カルシウム板、木片セメント板等の窯業系基板；ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリメタクリル酸エチル樹脂、ポリアクリル酸ブチル樹脂、ナイロン６又はナイロン６６等で代表されるポリアミド樹脂、三酢酸セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂等の、プラスチック単板、プラスチック多層板、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）板等のプラスチック板；ペーパーハニカムの両面に鉄板を貼ったもの、２枚のアルミニウム板でポリエチレン樹脂を挟んだもの等、各種の素材の複合体；などが例示される。
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、この例によってなんら限定されるものではない。
＜化粧シートの評価方法＞
（１）シート表面光沢値（６０°グロス値）
各実施例及び比較例にて製造した化粧シートについて、表面光沢値をグロスメーター（Ｇａｒｄｎｅｒ社製「ｍｉｃｒｏ−ＴＲＩ−ｇｌｏｓｓ」）を使用し、入射光＝６０°の条件で測定した。
（２）プロジェクター映写性試験
各実施例及び比較例にて製造した化粧シートについて、シートを垂直面にシワ無く張り合わせた状態で、プロジェクターとして「CANON製LV7365」を用い、ホットスポット、光のぎらつき、色のくすみの有無を目視にて確認、それぞれの評価を以下の評価基準で行った。
ホットスポット：
○：プロジェクターの照射光（ホットスポット）がほとんど確認されないもの
△：プロジェクターの照射光（ホットスポット）がぼやけた状態で確認されるが、まぶしさは感じないもの
×：プロジェクターの照射光（ホットスポット）が確認され、若干まぶしさを感じるもの
色くすみ：
○；白色の光を投影した際に、原色どおりの色調が再現されるもの
△：白色の光を投影した際に、映写幕での色調が若干グレーになるもの
×：白色の光を投影した際に、映写幕での色調がグレーになるもの
＜化粧シートの評価方法＞
（１）シート表面光沢値（６０°グロス値）
各実施例及び比較例にて製造した化粧シートについて、表面光沢値をグロスメーター（Ｇａｒｄｎｅｒ社製「ｍｉｃｒｏ−ＴＲＩ−ｇｌｏｓｓ」）を使用し、入射光＝６０°の条件で測定した。
（２）プロジェクター映写性試験
各実施例及び比較例にて製造した化粧シートについて、シートを垂直面にシワ無く張り合わせた状態で、プロジェクターとして「CANON製LV7365」を用い、ホットスポット、光のぎらつき、色のくすみの有無を目視にて確認、それぞれの評価を以下の評価基準で行った。
ホットスポット：
○：プロジェクターの照射光（ホットスポット）がほとんど確認されないもの
△：プロジェクターの照射光（ホットスポット）がぼやけた状態で確認されるが、まぶしさは感じないもの
×：プロジェクターの照射光（ホットスポット）が確認され、若干まぶしさを感じるもの
色くすみ：
○；白色の光を投影した際に、原色どおりの色調が再現されるもの
△：白色の光を投影した際に、映写幕での色調が若干グレーになるもの
×：白色の光を投影した際に、映写幕での色調がグレーになるもの
（３）マーカー筆記性（ハジキ）
ホワイトボードマーカーとしてサンフォード製「エキスポ ローオーダー 太字 黒」を用い、化粧シート表面に描画した後、マーカーのはじきの程度を下記基準にて判定する。
○：化粧シート上にマーカーが弾かないもの
×：化粧シート上にマーカーが弾くもの
（４）マーカー消去性（易消去性）
ホワイトボードマーカーとして、ぺんてる株式会社製「ホワイトボードマーカー ノックル 太字丸芯 黒」を用い、化粧シート表面に描画した後、室温環境下で２４時間乾燥させる。次にイレーサーとして株式会社マグエックス製「マグネットイレーサー」を用い、荷重２０ｇ／ｃｍ2にて２往復回消去した後のマーカーの残存状態について、下記基準にて判定する。
○：化粧シート上にマーカーが殆ど残らないもの
△：化粧シート上のマーカー残存率が５０％以下のもの
×：化粧シート上のマーカー残存率が５０％以上のもの
（５）マーカー消去性（ゴースト残り）
ホワイトボードマーカーとして、ぺんてる株式会社製「ホワイトボードマーカー ノックル 太字丸芯 黒」を用い、化粧シート表面に描画した後、室温環境下で１分間乾燥させる。次にイレーサーとして株式会社マグエックス製「マグネットイレーサー」を用い消去した後のマーカー中に含まれる剥離剤の残存状態（ゴースト）について、下記基準にて判定する。
○：化粧シート上にマーカー剥離剤が殆ど残らないもの
×：化粧シート上のマーカー剥離剤が残るもの
（６）耐傷性（耐摩耗性）
摩耗基材としてメラミンイレーサー（ＯＨＴＯ(株)製 激落ちイレーサー）を使用し、荷重５００ｇにて１５０００往復回シート表面を摩耗させた際の傷発生の有無を、下記基準にて目視で評価する。
○：シート表面に傷が生じないもの
×：シート表面に傷が生じるもの
ホワイトボードマーカーとしてサンフォード製「エキスポ ローオーダー 太字 黒」を用い、化粧シート表面に描画した後、マーカーのはじきの程度を下記基準にて判定する。
○：化粧シート上にマーカーが弾かないもの
×：化粧シート上にマーカーが弾くもの
（４）マーカー消去性（易消去性）
ホワイトボードマーカーとして、ぺんてる株式会社製「ホワイトボードマーカー ノックル 太字丸芯 黒」を用い、化粧シート表面に描画した後、室温環境下で２４時間乾燥させる。次にイレーサーとして株式会社マグエックス製「マグネットイレーサー」を用い、荷重２０ｇ／ｃｍ2にて２往復回消去した後のマーカーの残存状態について、下記基準にて判定する。
○：化粧シート上にマーカーが殆ど残らないもの
△：化粧シート上のマーカー残存率が５０％以下のもの
×：化粧シート上のマーカー残存率が５０％以上のもの
（５）マーカー消去性（ゴースト残り）
ホワイトボードマーカーとして、ぺんてる株式会社製「ホワイトボードマーカー ノックル 太字丸芯 黒」を用い、化粧シート表面に描画した後、室温環境下で１分間乾燥させる。次にイレーサーとして株式会社マグエックス製「マグネットイレーサー」を用い消去した後のマーカー中に含まれる剥離剤の残存状態（ゴースト）について、下記基準にて判定する。
○：化粧シート上にマーカー剥離剤が殆ど残らないもの
×：化粧シート上のマーカー剥離剤が残るもの
（６）耐傷性（耐摩耗性）
摩耗基材としてメラミンイレーサー（ＯＨＴＯ(株)製 激落ちイレーサー）を使用し、荷重５００ｇにて１５０００往復回シート表面を摩耗させた際の傷発生の有無を、下記基準にて目視で評価する。
○：シート表面に傷が生じないもの
×：シート表面に傷が生じるもの
＜レベリング剤の数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）の測定＞
東ソー(株)製高速ＧＰＣ装置を用いた。用いたカラムは東ソー（株）製、商品名「ＴＳＫｇｅｌ αＭ」であり、溶媒は、クロロホルムを用い、カラム温度４０℃、流速０．５ｃｍ3／ｍｉｎで測定を行った。尚、本発明における分子量及び分子量分布は標準ポリスチレン換算を行った。
東ソー(株)製高速ＧＰＣ装置を用いた。用いたカラムは東ソー（株）製、商品名「ＴＳＫｇｅｌ αＭ」であり、溶媒は、クロロホルムを用い、カラム温度４０℃、流速０．５ｃｍ3／ｍｉｎで測定を行った。尚、本発明における分子量及び分子量分布は標準ポリスチレン換算を行った。
実施例１
フィルム基材１として、厚さ１４０μｍの白色ポリプロピレンフィルム（三菱樹脂（株）製「ＰＢ０２０ Ｗ２２」）の表側にチタン白（酸化チタン）を７３質量％含有させた白色インキ（昭和インク（株）製 ＰＥＲホワイト）を塗布量３ｇ／ｍ2で塗布し、全面白色層２を形成した。次にアクリルポリオール系樹脂、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）系硬化剤からなるプライマーインキ（昭和インク(株)製「ＥＢＦプライマー」）を１．５ｇ／ｍ2で塗布してプライマー層３を作成した。上記全面白色層及びプライマーの厚さの総和は５μｍであった。次に、プライマー層３の上に電子線硬化性アクリレート樹脂及び多官能モノマーを主体とする電子線硬化性樹脂（ＤＩＣグラフィックス製 WBWハード；樹脂分＝７０質量％、平均官能基数＝３．３、数平均分子量＝約２０００）、構成単位として、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、スチレン及びα−メチルスチレンを有するレベリング剤のアクリル系樹脂（Ｗ−１）を、電子線硬化性樹脂の樹脂分１００質量部に対して０．２質量部添加した電子線硬化性樹脂組成物をグラビアダイレクトコータ法により３．０ｇ／ｍ2（塗付厚み３．０μｍ）塗布した。
塗布後、加速電圧１６５ｋＶ、照射線量５０ｋＧｙ（５Ｍｒａｄ）の電子線を照射して、電子線硬化性樹脂組成物を硬化させて、表面保護層４とした。次いでエッチング法により生成したエンボスロールを１２０℃に加熱し、前もって予備ヒーターにより過熱させた上記化粧シートをこのエンボスロールとゴム圧胴で加圧しながら、表面凹凸処理を行い、表面艶（６０°グロス）が２０の化粧シート５を作成した。
第１表にレベリング剤のアクリル系樹脂（Ｗ−１）の性状として、構成単位と共に、Ｍｎ、Ｍｗ及びＭｗ／Ｍｎ比を示し、第２表に上記化粧シート５の評価結果を示す。
フィルム基材１として、厚さ１４０μｍの白色ポリプロピレンフィルム（三菱樹脂（株）製「ＰＢ０２０ Ｗ２２」）の表側にチタン白（酸化チタン）を７３質量％含有させた白色インキ（昭和インク（株）製 ＰＥＲホワイト）を塗布量３ｇ／ｍ2で塗布し、全面白色層２を形成した。次にアクリルポリオール系樹脂、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）系硬化剤からなるプライマーインキ（昭和インク(株)製「ＥＢＦプライマー」）を１．５ｇ／ｍ2で塗布してプライマー層３を作成した。上記全面白色層及びプライマーの厚さの総和は５μｍであった。次に、プライマー層３の上に電子線硬化性アクリレート樹脂及び多官能モノマーを主体とする電子線硬化性樹脂（ＤＩＣグラフィックス製 WBWハード；樹脂分＝７０質量％、平均官能基数＝３．３、数平均分子量＝約２０００）、構成単位として、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、スチレン及びα−メチルスチレンを有するレベリング剤のアクリル系樹脂（Ｗ−１）を、電子線硬化性樹脂の樹脂分１００質量部に対して０．２質量部添加した電子線硬化性樹脂組成物をグラビアダイレクトコータ法により３．０ｇ／ｍ2（塗付厚み３．０μｍ）塗布した。
塗布後、加速電圧１６５ｋＶ、照射線量５０ｋＧｙ（５Ｍｒａｄ）の電子線を照射して、電子線硬化性樹脂組成物を硬化させて、表面保護層４とした。次いでエッチング法により生成したエンボスロールを１２０℃に加熱し、前もって予備ヒーターにより過熱させた上記化粧シートをこのエンボスロールとゴム圧胴で加圧しながら、表面凹凸処理を行い、表面艶（６０°グロス）が２０の化粧シート５を作成した。
第１表にレベリング剤のアクリル系樹脂（Ｗ−１）の性状として、構成単位と共に、Ｍｎ、Ｍｗ及びＭｗ／Ｍｎ比を示し、第２表に上記化粧シート５の評価結果を示す。
実施例２〜８
レベリング剤として第２表に示す種類のものを用い、その添加量（電子線硬化性樹脂の樹脂分１００質量部に対する質量部）を第２表に示す値とし、かつ表面保護層に対し、第２表に示すように表面処理を施すか又は施さずに、実施例１と同様な操作を行い、第２表に示す６０°グロス値を有する各化粧シート５を作成した。
第１表に各種レベリング剤の性状として、構成単位と共に、Ｍｎ、Ｍｗ及びＭｗ／Ｍｎ比を示し、第２表に上記化粧シート５の評価結果を示す。
レベリング剤として第２表に示す種類のものを用い、その添加量（電子線硬化性樹脂の樹脂分１００質量部に対する質量部）を第２表に示す値とし、かつ表面保護層に対し、第２表に示すように表面処理を施すか又は施さずに、実施例１と同様な操作を行い、第２表に示す６０°グロス値を有する各化粧シート５を作成した。
第１表に各種レベリング剤の性状として、構成単位と共に、Ｍｎ、Ｍｗ及びＭｗ／Ｍｎ比を示し、第２表に上記化粧シート５の評価結果を示す。
比較例１
実施例１において、レベリング剤（Ｗ−１）の添加量を５．０質量部に変更した以外は、実施例１と同様な操作を行い、６０°グロス値が２０の化粧シートを作成した。
この化粧シートの評価結果を第２表に示す。
実施例１において、レベリング剤（Ｗ−１）の添加量を５．０質量部に変更した以外は、実施例１と同様な操作を行い、６０°グロス値が２０の化粧シートを作成した。
この化粧シートの評価結果を第２表に示す。
比較例２
レベリング剤として、第１表に示す性状を有するポリエステルアクリレート（Ｗ−４）を用いた以外は、実施例１と同様な操作を行い、６０°グロス値２０の化粧シートを作成した。第２表に上記化粧シートの評価結果を示す。
レベリング剤として、第１表に示す性状を有するポリエステルアクリレート（Ｗ−４）を用いた以外は、実施例１と同様な操作を行い、６０°グロス値２０の化粧シートを作成した。第２表に上記化粧シートの評価結果を示す。
比較例３
レベリング剤として、第１表に示す性状を有するアクリル系樹脂（Ｗ−５）を用いた以外は、実施例１と同様な操作を行い、６０°グロス値が２０の化粧シートを作成した。
第２表に上記化粧シートの評価結果を示す。
レベリング剤として、第１表に示す性状を有するアクリル系樹脂（Ｗ−５）を用いた以外は、実施例１と同様な操作を行い、６０°グロス値が２０の化粧シートを作成した。
第２表に上記化粧シートの評価結果を示す。
比較例４
レベリング剤として、シリコーン、酢酸ビニル共重合体樹脂を用いた以外は、実施例１と同様な操作を行い、６０°グロス値が２０の化粧シートを作成した。
第２表に上記化粧シートの評価結果を示す。
レベリング剤として、シリコーン、酢酸ビニル共重合体樹脂を用いた以外は、実施例１と同様な操作を行い、６０°グロス値が２０の化粧シートを作成した。
第２表に上記化粧シートの評価結果を示す。
比較例５
レベリング剤を用いなかった以外は、実施例１と同様な操作を行い、６０°グロス値が２０の化粧シートを作成した。
第２表に上記化粧シートの評価結果を示す。
レベリング剤を用いなかった以外は、実施例１と同様な操作を行い、６０°グロス値が２０の化粧シートを作成した。
第２表に上記化粧シートの評価結果を示す。
第２表の評価結果から、下記のことが分かる。
レベリング剤として、本発明の要件を満たすアクリル樹脂を用い、かつその添加量が電子線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．１〜４．０質量部の範囲にある実施例１〜８の化粧シートの各評価結果は、いずれも「◎」、「○」又は「△」であり合格であった。それに対し、レベリング剤として、本発明の要件を満たすアクリル樹脂を用いているが、その添加量が４．０質量部を超える比較例１、本発明の要件を満たさない樹脂を用いた比較例２〜４、及びレベリング剤無添加の比較例５は、いずれも化粧シートの各評価結果の中に「×」が存在し、不合格であった。
レベリング剤として、本発明の要件を満たすアクリル樹脂を用い、かつその添加量が電子線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．１〜４．０質量部の範囲にある実施例１〜８の化粧シートの各評価結果は、いずれも「◎」、「○」又は「△」であり合格であった。それに対し、レベリング剤として、本発明の要件を満たすアクリル樹脂を用いているが、その添加量が４．０質量部を超える比較例１、本発明の要件を満たさない樹脂を用いた比較例２〜４、及びレベリング剤無添加の比較例５は、いずれも化粧シートの各評価結果の中に「×」が存在し、不合格であった。
本発明の化粧シートは、ホワイトボードとしてのマーカー消去性を有し、マーカーを消去した際に発生するマーカー中に含まれる剥離剤の残り（ゴースト）を軽減させると共に、耐擦傷性とプロジェクターによる映写機能が付与されており、映写スクリーン兼用ホワイトボード用シートとして好適である。
［符号の説明］
［符号の説明］
１ フィルム基材
２ 全面白色層
３ プライマー層
４ 表面保護層
５ 化粧シート
２ 全面白色層
３ プライマー層
４ 表面保護層
５ 化粧シート
Claims (4)
- フィルム基材と、電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋硬化物からなる表面保護層を有する化粧シートであって、
（１）前記表面保護層が、レベリング剤としてアクリル骨格を有する樹脂を、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して０．１〜４．０質量部の割合で含有し、
（２）該アクリル骨格を有する樹脂の構成単位として、ヒドロキシ基を有しない（メタ）アクリル酸アルキルエステルを含み、且つ（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル及び芳香族ビニル化合物の中から選ばれる少なくとも一種を含むポリ（メタ）アクリレートであることを特徴とする化粧シート。 - 前記フィルム基材と表面保護層との間に、全面白色層及び／又はプライマー層を有する、請求項１に記載の化粧シート。
- 前記表面保護層が凹凸形状を有し、６０°表面光沢値が５〜３０である、請求項１又は２に記載の化粧シート。
表面光沢値の測定方法： グロスメーターを使用し、入射光＝６０°の条件で測定する。 - 請求項１〜３のいずれかに記載の化粧シートを基板に積層した化粧板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011081196A JP5708158B2 (ja) | 2011-03-31 | 2011-03-31 | ホワイトボード用化粧シート及びそれを用いたホワイトボード用化粧板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011081196A JP5708158B2 (ja) | 2011-03-31 | 2011-03-31 | ホワイトボード用化粧シート及びそれを用いたホワイトボード用化粧板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012213933A true JP2012213933A (ja) | 2012-11-08 |
| JP5708158B2 JP5708158B2 (ja) | 2015-04-30 |
Family
ID=47267233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011081196A Active JP5708158B2 (ja) | 2011-03-31 | 2011-03-31 | ホワイトボード用化粧シート及びそれを用いたホワイトボード用化粧板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5708158B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017186690A (ja) * | 2016-04-01 | 2017-10-12 | 株式会社サンゲツ | 壁紙及び壁紙の製造方法 |
| JP2017213760A (ja) * | 2016-05-31 | 2017-12-07 | 株式会社ユポ・コーポレーション | ホワイトボード用シートおよびホワイトボード用インク |
| JP2020513207A (ja) * | 2017-02-15 | 2020-05-07 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 乾式消去物品 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001030683A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-06 | Okamoto Ind Inc | ホワイトボード用シート |
| WO2001032440A1 (fr) * | 1999-11-04 | 2001-05-10 | Kimoto Co., Ltd. | Combinaison d'un panneau d'ecriture et d'une feuille ecran reflechissant |
| JP2002179991A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-06-26 | Byk Chem Gmbh | 表面コーティング用レベリング剤 |
| JP2004091618A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Toray Ind Inc | ハードコートフィルム |
| JP2007284626A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Daicel Value Coating Ltd | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物および当該組成物が塗布されたフィルム |
| JP2010046961A (ja) * | 2008-08-22 | 2010-03-04 | Three M Innovative Properties Co | 筆記シート |
-
2011
- 2011-03-31 JP JP2011081196A patent/JP5708158B2/ja active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001030683A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-06 | Okamoto Ind Inc | ホワイトボード用シート |
| WO2001032440A1 (fr) * | 1999-11-04 | 2001-05-10 | Kimoto Co., Ltd. | Combinaison d'un panneau d'ecriture et d'une feuille ecran reflechissant |
| JP2002179991A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-06-26 | Byk Chem Gmbh | 表面コーティング用レベリング剤 |
| JP2004091618A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Toray Ind Inc | ハードコートフィルム |
| JP2007284626A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Daicel Value Coating Ltd | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物および当該組成物が塗布されたフィルム |
| JP2010046961A (ja) * | 2008-08-22 | 2010-03-04 | Three M Innovative Properties Co | 筆記シート |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017186690A (ja) * | 2016-04-01 | 2017-10-12 | 株式会社サンゲツ | 壁紙及び壁紙の製造方法 |
| JP2017213760A (ja) * | 2016-05-31 | 2017-12-07 | 株式会社ユポ・コーポレーション | ホワイトボード用シートおよびホワイトボード用インク |
| JP2020513207A (ja) * | 2017-02-15 | 2020-05-07 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 乾式消去物品 |
| US10787589B2 (en) | 2017-02-15 | 2020-09-29 | 3M Innovative Properties Company | Dry erase article |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5708158B2 (ja) | 2015-04-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5003086B2 (ja) | 化粧シート | |
| JP4957319B2 (ja) | 鋼板用化粧シート及びこれを用いた化粧鋼板 | |
| WO2009113168A1 (ja) | 三次元加工用加飾シート | |
| JP2008105420A (ja) | 三次元加工用加飾シート | |
| JP2006239954A (ja) | 高光沢化粧シート | |
| JP2009083300A (ja) | 真空成形用化粧シート | |
| JP5298582B2 (ja) | 化粧シート及び該化粧シートを用いた化粧板 | |
| JP2009234238A (ja) | 真空成形用化粧シート | |
| JP5287077B2 (ja) | 鋼板用化粧シート及びこれを用いた化粧鋼板 | |
| JP4672502B2 (ja) | 壁紙 | |
| JP4867744B2 (ja) | 高圧メラミン樹脂化粧板 | |
| JP2009083301A (ja) | 真空成形用化粧シート | |
| JP5035058B2 (ja) | 化粧シート及び該化粧シートを用いた化粧板 | |
| JP5708158B2 (ja) | ホワイトボード用化粧シート及びそれを用いたホワイトボード用化粧板 | |
| JP5012106B2 (ja) | 化粧シート | |
| JP5380983B2 (ja) | 鋼板用化粧シート及びこれを用いた化粧鋼板 | |
| JP4725017B2 (ja) | 化粧材 | |
| JP4672503B2 (ja) | 床材用シート | |
| JP5035038B2 (ja) | 化粧シート | |
| JP2008081869A (ja) | 壁紙 | |
| JP2007204966A (ja) | 化粧シート及び該化粧シートを用いた化粧板 | |
| JP4725013B2 (ja) | 化粧材 | |
| JP5659608B2 (ja) | 化粧シート及びその化粧シートを用いた化粧鋼板 | |
| JP5380982B2 (ja) | 鋼板用化粧シート及びこれを用いた化粧鋼板 | |
| JP2007270508A (ja) | 高光沢化粧シート及びそれを用いた化粧板 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140131 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141023 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141028 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141224 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150203 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150216 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5708158 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |