JP2012209769A - 積層集積回路装置 - Google Patents
積層集積回路装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012209769A JP2012209769A JP2011074030A JP2011074030A JP2012209769A JP 2012209769 A JP2012209769 A JP 2012209769A JP 2011074030 A JP2011074030 A JP 2011074030A JP 2011074030 A JP2011074030 A JP 2011074030A JP 2012209769 A JP2012209769 A JP 2012209769A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coil
- substrate
- coils
- integrated circuit
- circuit device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 58
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims abstract description 26
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims abstract description 23
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims abstract description 23
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 abstract description 11
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 abstract 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 44
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 40
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 27
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 11
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32135—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/32145—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/48145—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06555—Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
- H01L2225/06562—Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking at least one device in the stack being rotated or offset
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3025—Electromagnetic shielding
Landscapes
- Near-Field Transmission Systems (AREA)
Abstract
【解決手段】 基板上の配線により形成された誘導結合によって信号を送信する四角形のコイルとそれに接続される送信回路で構成される送信チャネルを複数備える第1基板と、
第1基板に積層される基板上の配線により形成され且つ第1基板に設けられたコイルと対応する位置に形成される四角形のコイルとそれに接続される受信回路で構成される受信チャネルを複数有する第2基板とを少なくとも有し、前記各四角形のコイルの対向角を結ぶ2つの方向にコイルの一辺の2/21/2倍乃至3/21/2の間隔で設けられた格子上にコイルの中心が配置され、且つ、前記配線の直交する方向に沿ってコイルを行列配列する。
【選択図】 図1
Description
(5)また、本発明は、上記(1)乃至(3)のいずれかにおいて、隣接したコイル対は、チップ辺方向の斜め方向に沿って並ぶことを特徴とする。
2 配線
3 配線
4 ビア導体
11 送信コイル
12 受信コイル
13 送信器
14 受信器
15 制御回路
Claims (6)
- 基板上の配線により形成された誘導結合によって信号を送信する四角形のコイルとそれに接続される送信回路で構成される送信チャネルを複数備える第1基板と、
前記第1基板に積層される基板上の配線により形成され且つ前記第1基板に設けられたコイルと対応する位置に形成される四角形のコイルとそれに接続される受信回路で構成される受信チャネルを複数有する第2基板と
を少なくとも有し、
前記各四角形のコイルの対向角を結ぶ2つの方向に前記コイルの一辺の2/21/2倍乃至3/21/2の間隔で設けられた格子上に前記コイルの中心が配置され、且つ、前記配線の直交する方向に沿って前記コイルが行列配列されていることを特徴とする積層集積回路装置。 - 誘導結合によって信号を送信する送信器を有する第n基板(但し、1≦n≦Nの整数)と、
前記送信器から送信される信号を誘導結合によって受信し中継して誘導結合によって送信する複数の中継器を有する第n+x基板(但し、1≦x≦N−n−1の 整数)と、
前記中継器から中継される信号を誘導結合によって受信する複数の受信器を有する第n+y基板(但し、x<y≦ N−nの整数)と
を積層して備え、
前記送信器、前記受信器及び前記中継器は、基板上の配線により形成された四角形のコイルに接続されて、積層位置が対応するコイル対の誘導結合によって無線通信し、
前記四角形のコイルの対向角を結ぶ2つの方向に前記コイルの一辺の2/21/2倍乃至3/21/2の間隔で設けられた格子上に前記コイルの中心が配置され、且つ、前記配線の直交する方向に沿って前記コイルが行列配列され、
前記中継器は、前記行列配置されたコイルの中の隣接したコイル対の一方を受信コイルに用いて受信し他方を送信コイルに用いて送信することを特徴とする積層集積回路装置。 - 前記各基板の格子のチップ辺方向の一方に沿った間隔がコイルの一辺よりも短いことを特徴とする請求項2に記載の積層集積回路装置。
- 前記隣接したコイル対は、チップ辺方向に沿って上下あるいは左右に並ぶことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の積層集積回路装置。
- 前記隣接したコイル対は、チップ辺方向の斜め方向に沿って並ぶことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の積層集積回路装置。
- 前記四角形のコイルは前記基板上の互いに異なる層準で且つ互いに直交する配線を交互に接続して形成された3次元コイルであることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の積層集積回路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011074030A JP5791326B2 (ja) | 2011-03-30 | 2011-03-30 | 積層集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011074030A JP5791326B2 (ja) | 2011-03-30 | 2011-03-30 | 積層集積回路装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012209769A true JP2012209769A (ja) | 2012-10-25 |
JP5791326B2 JP5791326B2 (ja) | 2015-10-07 |
Family
ID=47189165
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011074030A Active JP5791326B2 (ja) | 2011-03-30 | 2011-03-30 | 積層集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5791326B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015076153A1 (ja) * | 2013-11-21 | 2015-05-28 | 学校法人慶應義塾 | 集積回路及びそれを備える積層回路 |
WO2017135132A1 (ja) * | 2016-02-03 | 2017-08-10 | 学校法人慶應義塾 | 半導体集積回路装置 |
WO2021106777A1 (ja) * | 2019-11-26 | 2021-06-03 | 国立大学法人 東京大学 | 情報処理装置 |
WO2021229642A1 (ja) * | 2020-05-11 | 2021-11-18 | ウルトラメモリ株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006066454A (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-09 | Keio Gijuku | 電子回路 |
JP2009277842A (ja) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Keio Gijuku | インダクタ素子、集積回路装置、及び、三次元実装回路装置 |
JP2009295699A (ja) * | 2008-06-03 | 2009-12-17 | Keio Gijuku | 電子回路 |
JP2010287113A (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-24 | Keio Gijuku | 密封型半導体記録媒体及び密封型半導体記録装置 |
-
2011
- 2011-03-30 JP JP2011074030A patent/JP5791326B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006066454A (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-09 | Keio Gijuku | 電子回路 |
JP2009277842A (ja) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Keio Gijuku | インダクタ素子、集積回路装置、及び、三次元実装回路装置 |
JP2009295699A (ja) * | 2008-06-03 | 2009-12-17 | Keio Gijuku | 電子回路 |
JP2010287113A (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-24 | Keio Gijuku | 密封型半導体記録媒体及び密封型半導体記録装置 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102317164B1 (ko) * | 2013-11-21 | 2021-10-22 | 가부시키가이샤 트루칩 재팬 | 집적 회로 및 이를 구비한 적층 회로 |
JP2015103584A (ja) * | 2013-11-21 | 2015-06-04 | 学校法人慶應義塾 | 集積回路及びそれを備える積層回路 |
KR20160088851A (ko) * | 2013-11-21 | 2016-07-26 | 트루칩 재팬 가부시키가이샤 | 집적 회로 및 이를 구비한 적층 회로 |
US9749020B2 (en) | 2013-11-21 | 2017-08-29 | Thruchip Japan, Inc. | Integrated circuit and layered circuit provided therewith |
WO2015076153A1 (ja) * | 2013-11-21 | 2015-05-28 | 学校法人慶應義塾 | 集積回路及びそれを備える積層回路 |
WO2017135132A1 (ja) * | 2016-02-03 | 2017-08-10 | 学校法人慶應義塾 | 半導体集積回路装置 |
JP2017139314A (ja) * | 2016-02-03 | 2017-08-10 | 学校法人慶應義塾 | 半導体集積回路装置 |
WO2021106777A1 (ja) * | 2019-11-26 | 2021-06-03 | 国立大学法人 東京大学 | 情報処理装置 |
JP2021087044A (ja) * | 2019-11-26 | 2021-06-03 | 国立大学法人 東京大学 | 情報処理装置 |
JP7193142B2 (ja) | 2019-11-26 | 2022-12-20 | 国立大学法人 東京大学 | 情報処理装置 |
WO2021229642A1 (ja) * | 2020-05-11 | 2021-11-18 | ウルトラメモリ株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
JPWO2021229642A1 (ja) * | 2020-05-11 | 2021-11-18 | ||
JP7352992B2 (ja) | 2020-05-11 | 2023-09-29 | ウルトラメモリ株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5791326B2 (ja) | 2015-10-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101608757B1 (ko) | 인덕터를 포함하는 집적 회로 소자, 집적 회로 장치, 및 삼차원 실장 회로 장치 | |
US9053950B2 (en) | Electronic circuit | |
CN202758883U (zh) | 堆叠的半导体器件组件 | |
US8744349B2 (en) | Multi-stack semiconductor integrated circuit device | |
CN102822966B (zh) | 半导体通信设备及方法 | |
US8791550B1 (en) | Hybrid conductor through-silicon-via for power distribution and signal transmission | |
KR102317164B1 (ko) | 집적 회로 및 이를 구비한 적층 회로 | |
KR101538664B1 (ko) | 반도체 장치 및 그 제조 방법 | |
JP2014011169A (ja) | シリコンインターポーザ及びこれを備える半導体装置 | |
JP5791326B2 (ja) | 積層集積回路装置 | |
JP7228532B2 (ja) | 低クロストークの垂直接続インターフェース | |
JP7149647B2 (ja) | 半導体モジュール | |
JP6570954B2 (ja) | 半導体チップ及びマルチチップモジュール | |
JP5426966B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
CN103887288B (zh) | 半导体集成电路和具有半导体集成电路的半导体系统 | |
JP2011222807A (ja) | 半導体装置 | |
CN112366193A (zh) | 一种桥接芯片及半导体封装结构 | |
JP5643665B2 (ja) | 積層型半導体集積回路装置 | |
CN112366194B (zh) | 一种桥接芯片及半导体封装结构 | |
JP2019091790A (ja) | プリント配線基板、半導体装置、電子機器およびプリント配線基板の製造方法 | |
JP2015149340A (ja) | 半導体装置 | |
TW202412218A (zh) | 半導體模組及其製造方法 | |
JP2013243255A (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150402 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150728 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150804 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5791326 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |