JP2012209513A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
基板処理装置および基板処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012209513A JP2012209513A JP2011075660A JP2011075660A JP2012209513A JP 2012209513 A JP2012209513 A JP 2012209513A JP 2011075660 A JP2011075660 A JP 2011075660A JP 2011075660 A JP2011075660 A JP 2011075660A JP 2012209513 A JP2012209513 A JP 2012209513A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle
- substrate
- viewed
- vertical direction
- processing liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】基板処理装置1は、基板を保持して回転させるスピンチャック2と、スピンチャック2に保持された基板Wに向けて処理液の液滴を吐出するノズル4とを含む。ノズル4には、処理液の液滴を吐出する複数の吐出口33が一列に並べられた列L1が複数列配置されている。ノズル4はノズルアーム18に保持されて、スピンチャック2に保持された基板Wの主面に垂直な垂直方向D1から見たときに基板Wの主面の回転中心C1を通る軌跡X1に沿って移動する。ノズル4は、垂直方向D1から見たときに複数の列L1と軌跡X1とが交差するようにノズルアーム18に保持される。
【選択図】 図2
Description
前記ノズル移動工程において、前記垂直方向から見たときに複数の前記列と前記軌跡とが交差するように前記ノズルは保持される、基板処理方法である。
2 スピンチャック(基板保持回転手段)
4 噴射ノズル(ノズル)
7 制御装置(制御手段)
11 処理液供給機構
14 圧電素子
15 配線
16 電圧印加機構(電圧印加手段)
17 ノズル移動機構(ノズル保持移動手段)
26 本体
27 カバー
29 供給口
30 排出口
31 処理液流通路
32 接続路
33 吐出口
36 分岐流路(処理液流路)
40 減少部
41 上側分割体
42 下側分割体
C1 中心
D1 鉛直方向(垂直方向)
L1 列
Pc1 中心位置
Pe1 周縁位置
X1 軌跡
W 基板
Claims (5)
- 基板を保持して回転させる基板保持回転手段と、
処理液の液滴を吐出する複数の吐出口が一列に並べられた列が複数列配置され、前記基板保持回転手段に保持された基板に向けて処理液の液滴を吐出するノズルと、
前記基板保持回転手段に保持された基板の主面に垂直な垂直方向から見たときに前記主面の回転中心を通る軌跡に沿って前記ノズルを移動させるとともに、前記垂直方向から見たときに複数の前記列と前記軌跡とが交差するように前記ノズルを保持するノズル保持移動手段と、を備えた基板処理装置。 - 前記垂直方向から見たときに前記ノズルが前記主面の回転中心に重なる中心位置と、前記垂直方向から見たときに前記ノズルが前記主面の周縁に重なる周縁位置との間で、前記垂直方向から見たときに複数の前記列が前記主面の回転中心に順次重なるように前記軌跡に沿って前記ノズルを移動させるように前記ノズル保持移動手段を制御する制御手段をさらに備える、請求項1記載の基板処理装置。
- 前記ノズルは、前記列に沿って処理液が流通し、前記吐出口に接続している処理液流路が複数の前記列のそれぞれに対応して設けられている本体と、
前記処理液流路を流通する処理液に振動を付与する圧電素子とを含み、
前記圧電素子に電圧を印加する電圧印加手段をさらに備える、請求項1または2記載の基板処理装置。 - 基板を保持して回転させる基板保持回転工程と、
処理液の液滴を吐出する複数の吐出口が一列に並べられた列が複数列配置された、基板に向けて処理液の液滴を吐出するノズルを、基板の主面に垂直な垂直方向から見たときに前記主面の回転中心を通る軌跡に沿って移動させるノズル移動工程と、を含み、
前記ノズル移動工程において、前記垂直方向から見たときに複数の前記列と前記軌跡とが交差するように前記ノズルは保持される、基板処理方法。 - 前記ノズル移動工程は、前記垂直方向から見たときに前記ノズルが前記主面の回転中心に重なる中心位置と、前記垂直方向から見たときに前記ノズルが前記主面の周縁に重なる周縁位置との間で、前記垂直方向から見たときに複数の前記列が前記主面の回転中心に順次重なるように前記軌跡に沿って前記ノズルを移動させる、請求項4記載の基板処理方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011075660A JP5840854B2 (ja) | 2011-03-30 | 2011-03-30 | 基板処理装置および基板処理方法 |
TW101105592A TWI573629B (zh) | 2011-03-01 | 2012-02-21 | 基板處理裝置及基板處理方法 |
KR1020120017300A KR101398759B1 (ko) | 2011-03-01 | 2012-02-21 | 노즐, 기판처리장치, 및 기판처리방법 |
TW104108062A TWI558467B (zh) | 2011-03-01 | 2012-02-21 | 噴嘴,基板處理裝置及基板處理方法 |
US13/408,563 US8888925B2 (en) | 2011-03-01 | 2012-02-29 | Nozzle, substrate processing apparatus, and substrate processing method |
KR1020140020355A KR101686290B1 (ko) | 2011-03-01 | 2014-02-21 | 노즐, 기판처리장치, 및 기판처리방법 |
US14/529,559 US20150053244A1 (en) | 2011-03-01 | 2014-10-31 | Nozzle, and substrate processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011075660A JP5840854B2 (ja) | 2011-03-30 | 2011-03-30 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012209513A true JP2012209513A (ja) | 2012-10-25 |
JP5840854B2 JP5840854B2 (ja) | 2016-01-06 |
Family
ID=47188992
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011075660A Active JP5840854B2 (ja) | 2011-03-01 | 2011-03-30 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5840854B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9721814B2 (en) | 2013-03-13 | 2017-08-01 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
WO2017154673A1 (ja) * | 2016-03-08 | 2017-09-14 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法、基板処理装置および基板乾燥装置 |
JP2017162889A (ja) * | 2016-03-08 | 2017-09-14 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法、基板処理装置および基板乾燥装置 |
US9887106B2 (en) | 2013-03-14 | 2018-02-06 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Ejection inspection apparatus and substrate processing apparatus |
KR101842128B1 (ko) * | 2017-03-27 | 2018-03-27 | 세메스 주식회사 | 노즐, 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
JP2019160958A (ja) * | 2018-03-12 | 2019-09-19 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003077808A (ja) * | 2001-09-04 | 2003-03-14 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP2005259907A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2011029315A (ja) * | 2009-07-23 | 2011-02-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
-
2011
- 2011-03-30 JP JP2011075660A patent/JP5840854B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003077808A (ja) * | 2001-09-04 | 2003-03-14 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP2005259907A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2011029315A (ja) * | 2009-07-23 | 2011-02-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9721814B2 (en) | 2013-03-13 | 2017-08-01 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
US9887106B2 (en) | 2013-03-14 | 2018-02-06 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Ejection inspection apparatus and substrate processing apparatus |
WO2017154673A1 (ja) * | 2016-03-08 | 2017-09-14 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法、基板処理装置および基板乾燥装置 |
JP2017162889A (ja) * | 2016-03-08 | 2017-09-14 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法、基板処理装置および基板乾燥装置 |
CN108780746A (zh) * | 2016-03-08 | 2018-11-09 | 株式会社荏原制作所 | 基板清洗装置、基板清洗方法、基板处理装置以及基板干燥装置 |
US11676827B2 (en) | 2016-03-08 | 2023-06-13 | Ebara Corporation | Substrate cleaning apparatus, substrate cleaning method, substrate processing apparatus, and substrate drying apparatus |
TWI823063B (zh) * | 2016-03-08 | 2023-11-21 | 日商荏原製作所股份有限公司 | 基板洗淨裝置、基板洗淨方法及基板處理裝置 |
CN108780746B (zh) * | 2016-03-08 | 2024-03-22 | 株式会社荏原制作所 | 基板清洗装置、基板清洗方法、基板处理装置以及基板干燥装置 |
KR101842128B1 (ko) * | 2017-03-27 | 2018-03-27 | 세메스 주식회사 | 노즐, 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
JP2019160958A (ja) * | 2018-03-12 | 2019-09-19 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
CN110262198A (zh) * | 2018-03-12 | 2019-09-20 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理装置以及基板处理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5840854B2 (ja) | 2016-01-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101686290B1 (ko) | 노즐, 기판처리장치, 및 기판처리방법 | |
JP5852898B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
KR102238880B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP5701645B2 (ja) | ノズル、基板処理装置、および基板処理方法 | |
US9539589B2 (en) | Substrate processing apparatus, and nozzle | |
JP5840854B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
TWI620238B (zh) | Substrate processing method and substrate processing device | |
JP2013065795A (ja) | 基板処理方法 | |
JP6103429B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
KR102264352B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP5837788B2 (ja) | ノズル、基板処理装置、および基板処理方法 | |
JP5785462B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP6112509B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2017045938A (ja) | 基板処理装置および吐出ヘッド | |
JP6713370B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2013048179A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140303 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150303 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150428 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151110 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151112 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5840854 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |