JP2012204720A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置では、回転する基板9の上面に向けてノズル34から処理液を吐出することにより、基板9に対する洗浄処理が行われる。基板処理装置では、ノズル34から吐出された処理液が基板9に接触する位置における処理液の接触方向の水平成分が、接触位置における基板9の回転の接線方向を向く、または、当該接線方向から径方向外側に傾斜する。これにより、基板9上の処理液の基板9の回転に伴う移動が、ノズル34からの吐出される処理液により阻害されることが抑制される。その結果、基板9上を移動する処理液とノズル34から吐出される処理液との衝突の勢いが低減され、基板9から上方へと処理液が飛散することをより抑制することができる。
【選択図】図4
Description
2 基板保持部
5 回転機構
9 基板
13 角度制御部
34 ノズル
71 ノズル走査機構
72 吐出角度変更機構
90 回転軸
Claims (5)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
基板を保持する保持部と、
前記基板の中心を通り、前記基板の主面に垂直な回転軸を中心として、前記基板を前記保持部と共に回転する回転機構と、
前記基板の前記主面に向けて処理液を吐出するノズルと、
前記ノズルを前記基板の前記主面に沿って走査するノズル走査機構と、
を備え、
前記ノズルから吐出された前記処理液が前記基板の前記主面に接触する接触位置において、前記処理液の接触方向の前記主面に平行な成分が、前記接触位置における前記基板の回転の接線方向を向く、または、前記接線方向から径方向外側に傾斜することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記ノズルからの前記処理液の吐出方向の前記基板の前記主面に対する角度である吐出角度を変更する吐出角度変更機構をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記吐出角度変更機構を制御する角度制御部をさらに備え、
前記角度制御部による制御により、前記基板の回転速度が大きくなるに従って前記吐出角度が小さくなることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記吐出角度変更機構を制御する角度制御部をさらに備え、
前記角度制御部による制御により、前記接触位置が、前記基板の前記中心から離れるに従って前記吐出角度が小さくなることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記処理液が、硫酸と過酸化水素水との混合液を加熱したものであることを特徴とする基板処理装置。
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KR20210067893A (ko) | 2019-11-29 | 2021-06-08 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
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- 2011-03-28 JP JP2011069380A patent/JP6016330B2/ja active Active
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