JP2012190827A - インプリントモールド及びその作製方法、パターン形成体 - Google Patents
インプリントモールド及びその作製方法、パターン形成体 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】インプリントモールドは、凹凸パターンが形成されている領域が、その周囲の面よりも高いメサ構造に形成される。このインプリントモールドの作製方法は、パターニングを行う領域の最外周を、所望のパターン領域の最外周よりも2μm以上外側に設定する。パターン形成体は、前記インプリントモールドの凹凸パターンを基材上の被転写層に転写して形成される。
【選択図】図1
Description
12…ハードマスク層
13…レジスト膜
14…レジストパターン
15…ハードマスクパターン
16…モールド
17…パターン
20…モールド
21…基材
22…樹脂層
23…樹脂パターン
24…残膜
25…パターン
31…モールド表面の突起欠陥
32…樹脂の充填不良
33…厚さが不均一な残膜
34…厚い残膜
35…モールド表面に付着した異物
41…所望のパターン領域
42…パターンを形成する領域
43…基板に形成されたパターンの高さ
44…メサ構造の高さ
51…電子線露光装置から直接入射した電子線
52…前方散乱された電子線
53…後方散乱された電子線
Claims (6)
- インプリント法によるパターン形成に用いる凹凸パターンを備えたインプリントモールドであって、前記凹凸パターンが形成されている領域が、その周囲の面よりも高いメサ構造になっていることを特徴とするインプリントモールド。
- 基板にハードマスク層を形成し、
前記ハードマスク層をパターニング処理し、
前記パターニングされたハードマスク層をエッチングマスクとする異方性エッチングを前記基板に対して行い、
前記異方性エッチングを行った基板から前記パターニングされたハードマスク層を除去し、
所望のパターン領域以外の領域を、前記所望のパターン領域よりも低くなるように加工することを特徴とするインプリントモールドの作製方法。 - 前記ハードマスク層のパターニングは、
前記ハードマスク層上にレジスト層を形成し、
電子線リソグラフィによって前記レジスト層のパターニングを行い、
前記パターニングされたレジスト層をエッチングマスクとする異方性エッチングを前記ハードマスク層に対して行う、
ことを特徴とする、請求項2に記載のインプリントモールド作製方法。 - 前記レジスト層のパターニングを行う領域の最外周は、所望のパターン領域の最外周よりも2μm以上外側であることを特徴とする、請求項2又は3に記載のインプリントモールド作製方法。
- 前記基板は、石英基板であり、前記ハードマスク層は、Crからなる層であることを特徴とする、請求項2乃至4のいずれかに記載のインプリントモールドの作製方法。
- 請求項1に記載のインプリントモールドを用いて、該インプリントモールドに形成された凹凸パターンを基材上の被転写層に転写することを特徴とするパターン形成体。
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2011
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