JP2012186330A - 窒化物半導体レーザ装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】MgドープAlGaNで構成されたp型クラッド層16をドライエッチングしてリッジ部16Aを形成した後、熱リン酸を用いてp型クラッド層16の表面をウェットエッチングすることにより、リッジ部16Aの両側のp型クラッド層16の深さ(膜厚)の制御性を確保しつつ、リッジ部16Aの側面のダメージ層を除去することが可能となる。
【選択図】図6
Description
11 n型バッファ層
12 n型クラッド層
13 n型ガイド層
14 活性層
15 電子ブロック層
16 p型クラッド層
16A リッジ部
17 p型コンタクト層
18、20 酸化シリコン膜
19 フォトレジスト膜
21 p側電極
22 n側電極
Claims (3)
- (a)基板上に、少なくともn型クラッド層、活性層、およびAlGaNを主体として構成されるp型クラッド層を成長させる工程と、
(b)前記p型クラッド層の上部に形成した絶縁膜をマスクにして、前記p型クラッド層をドライエッチングすることにより、前記p型クラッド層の一部に凸状のリッジ部を形成する工程と、
(c)前記(b)工程の後、前記p型クラッド層の表面を薬液でウェットエッチングすることにより、前記ドライエッチングで生じた前記リッジ部の側面のダメージ層を除去する工程と、
を含み、
前記薬液として、熱リン酸を用いることを特徴とする窒化物半導体レーザ装置の製造方法。 - 前記(b)工程では、前記凸状のリッジ部の側面にテーパが形成され、
前記(c)工程では、前記凸状のリッジ部の側面が垂直になることを特徴とする請求項1記載の窒化物半導体レーザ装置の製造方法。 - 前記基板として、表面面方位が(0001)のGaN基板を用いることを特徴とする窒化物半導体レーザ装置の製造方法。
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