JP2012185434A - 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光ビーム照射装置(20)の空間的光変調器(25)の1つのミラーで反射された光が基板へ照射される領域と、他のミラーで反射された光が基板へ照射される領域が、光ビームによる基板の走査に伴って部分的に重なる多重露光を行って、基板にパターンを描画する。基板に描画するパターンの図形の座標データから、描画の要否を判定するサンプリング点を解像度の大きさの露光領域(2a)毎に周期的に変動させて、描画データを生成し、生成した描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路(27)へ供給する。
【選択図】図13
Description
2 パターンの図形
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6 Yガイド
7 Yステージ
8 θステージ
10 チャック
11 ゲート
20 光ビーム照射装置
20a ヘッド部
21 レーザー光源ユニット
22 光ファイバー
23 レンズ
24 ミラー
25 DMD(Digital Micromirror Device)
26 投影レンズ
27 DMD駆動回路
31,33 リニアスケール
32,34 エンコーダ
40 レーザー測長系制御装置
41 レーザー光源
42,44 レーザー干渉計
43,45 バーミラー
60 ステージ駆動回路
70 主制御装置
71 描画制御部
72 メモリ
73 バンド幅設定部
74 中心点座標決定部
75 座標決定部
82 描画図形座標メモリ
84 描画データ生成部
85 座標補正回路
86 描画データ生成回路
87 X座標カウンタ
88 Y座標カウンタ
90a,90b サンプリング点決定回路
91a,91b サンプリング点移動回路
92a,92b レジスタ
93a,93b,99 選択回路
94a,94b Xオフセットレジスタ
95a,95b Yオフセットレジスタ
96a,96b 演算器
97a,97b サンプリング回路
98a,98b パターン生成回路
Claims (6)
- フォトレジストが塗布された基板を支持するチャックと、
複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置と、
前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動する移動手段とを備え、
前記移動手段により前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動して、前記光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査し、前記光ビーム照射装置の空間的光変調器の1つのミラーで反射された光が基板へ照射される領域と、他のミラーで反射された光が基板へ照射される領域が、光ビームによる基板の走査に伴って部分的に重なる多重露光を行って、基板にパターンを描画する露光装置であって、
基板に描画するパターンの図形の座標データを記憶するメモリと、前記メモリに記憶された座標データから、描画の要否を判定するサンプリング点を解像度の大きさの露光領域毎に周期的に変動させて、描画データを生成する描画データ生成手段とを有し、前記描画データ生成手段が生成した描画データを、前記光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画制御手段を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記描画データ生成手段は、
解像度の大きさの露光領域を複数の区画に分割した各区画内の1点を、互いに異なる順番でサンプリング点として決定する複数のサンプリング点決定回路と、
前記メモリに記憶された座標データについて、各サンプリング点決定回路が決定したサンプリング点で描画の要否を判定する複数のサンプリング回路と、
各サンプリング回路の判定結果に応じて、描画データのパターンを生成する複数のパターン生成回路と、
前記複数のパターン生成回路により生成された描画データのパターンの1つを順番に選択する選択回路とを有することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - フォトレジストが塗布された基板をチャックで支持し、
チャックと、複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置とを、相対的に移動して、光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査し、
光ビーム照射装置の空間的光変調器の1つのミラーで反射された光が基板へ照射される領域と、他のミラーで反射された光が基板へ照射される領域が、光ビームによる基板の走査に伴って部分的に重なる多重露光を行って、基板にパターンを描画する露光方法であって、
基板に描画するパターンの図形の座標データから、描画の要否を判定するサンプリング点を解像度の大きさの露光領域毎に周期的に変動させて、描画データを生成し、生成した描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給することを特徴とする露光方法。 - 複数のサンプリング点決定回路により、解像度の大きさの露光領域を複数の区画に分割した各区画内の1点を、互いに異なる順番でサンプリング点として決定し、
複数のサンプリング回路により、基板に描画するパターンの図形の座標データについて、各サンプリング点決定回路が決定したサンプリング点で描画の要否を判定し、
複数のパターン生成回路により、各サンプリング回路の判定結果に応じて、描画データのパターンを生成し、
選択回路により、複数のパターン生成回路により生成した描画データのパターンの1つを順番に選択して、描画データを生成することを特徴とする請求項3に記載の露光方法。 - 請求項1又は請求項2に記載の露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- 請求項3又は請求項4に記載の露光方法を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
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JP2008112093A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-05-15 | Nano System Solutions:Kk | 露光方法及び露光装置 |
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