JP2012174755A - ダイボンダ及び半導体製造方法 - Google Patents
ダイボンダ及び半導体製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012174755A JP2012174755A JP2011032881A JP2011032881A JP2012174755A JP 2012174755 A JP2012174755 A JP 2012174755A JP 2011032881 A JP2011032881 A JP 2011032881A JP 2011032881 A JP2011032881 A JP 2011032881A JP 2012174755 A JP2012174755 A JP 2012174755A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- die
- bonding
- bonding head
- adjustment mechanism
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 68
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 28
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 26
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 16
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 14
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 43
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67144—Apparatus for mounting on conductive members, e.g. leadframes or conductors on insulating substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
- H01L21/681—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
- H01L24/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
- H01L2224/757—Means for aligning
- H01L2224/75743—Suction holding means
- H01L2224/75745—Suction holding means in the upper part of the bonding apparatus, e.g. in the bonding head
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
- H01L2224/757—Means for aligning
- H01L2224/75753—Means for optical alignment, e.g. sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01082—Lead [Pb]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Abstract
本発明は、ダイを正確にボンディングできる信頼性の高いダイボンダ及び半導体製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、ダイをウェハから吸着して基板にボンディングするボンディングヘッドと、前記ダイの位置を所定精度で前記位置決めする第1の調整機構を有し、前記ボンディングヘッドを位置決めする位置決めを機構と、前記位置決め機構を制御する位置決め制御部と、前記ボンディングヘッドに設け、前記第1の調整機構よりも高い精度で前記ダイの位置を調整する第2の調整機構とを有する。
【選択図】図3
Description
ダイボンディング工程では、基板のボンディング面に正確にダイをボンディングする必要がある。しかしながら、基板面はボンディングし易くするために80℃〜250℃前後の高温に加熱されている。高温または輻射熱によって、構成部材の位置ずれ等が発生しダイを正確な位置にボンディングできない。
本発明は、ダイをウェハから吸着して基板にボンディングするボンディングヘッドと、前記ダイの位置を所定精度で前記位置決めする第1の調整機構を有し、前記ボンディングヘッドを位置決めする位置決めを機構と、前記位置決め機構を制御する位置決め制御部と、前記ボンディングヘッドに設け、前記第1の調整機構よりも高い精度で前記ダイの位置を調整する第2の調整機構とを有することを第1の特徴とする。
さらに、本発明は、前記アクチュエータはピエゾ素子又は超磁歪素子であることを第4の特徴とする。
また、本発明は、前記複数の方向の相対する方向から前記変位を元に戻す復元力を発生する復元力手段を設けたことを第5の特徴とする。
図1は、本発明の一実施形態であるダイボンダ10を上から見た概念図である。ダイボンダ10は大別してウェハ供給部1と、基板供給・搬送部5と、ダイボンディング部3と、これ等を制御する制御部4とを有する。
基板供給・搬送部5はスタックローダ51と、フレームフィーダ52と、アンローダ53とを有する。スタックローダ51は、ダイを接着する基板(例えば、リードフレーム)をフレームフィーダ52に供給する。フレームフィーダ52は、基板をフレームフィーダ52上の2箇所の処理位置を介してアンローダ53に搬送する。アンローダ53は、搬送された基板を保管する。
X1=(Xp11+Xp21)/2 (1)
Y1=(Yp11+Yp21)/2 (2)
次に、ボンディングヘッド41の移動量を求める(ステップ4)。式(1)、式(2)の位置座標は、処理位置カメラ22から見た位置座標である。ボンディングヘッド41と処理位置カメラ22との間にはオフセットがあるから、ボンディングヘッド41から見た位置座標に変える必要がある。そこで、そのオフセット量を(Xh,Yh)とすると、ボンディングヘッド41から見た中心位置45cの位置座標((Xhi,Yhi)は、式(3)、式(4)となる。
Xhi=X1+Xh (3)
Yhi=Y1+Yh (4)
次に、式(3)、式(4)で示す位置にボディングヘッド41を移動させ、処理位置45bに向ってダイDを保持したコレット41cを降下させる(ステップ5)。ボディングヘッド41の移動時間とダイDの降下時間は非常に短い。それ故に、その間にリードフレーム45の熱膨張による形状変化や、オフセット量の変化は殆どない。従って、オフセット量の初期値からの変動または時系列変動がなければ、前記ダイDの降下によって、目標値とする処理位置45bにダイDをボンディングできる。
X2=(Xd1+Xd2)/2 (5)
Y2=(Yd1+Yd2)/2 (6)
次に、式(1)及び式(2)で求めた第1中心座標と、式(5)及び式(6)で求めた第2中心座標から式(7)及び式(8)で示すボンディング位置のずれ量(補正量)(ΔX,ΔY)を求める(ステップ9)。
ΔX=X2−X1 (7)
ΔY=Y2−Y1 (8)
次に、このずれ量を、例えば、まず3次元の粗調整機構61で10μm程度まで追い込み(Step10)、残った一桁のμmの調整を微調整機構62で数μmまで追い込み、リードフレーム(基板)45にボンディングする(ステップ11)。
最後に、コレット41cを上昇させ、次のダイのボンディング処理へと移行する(ステップ12)。
その結果、本ダイボンダを用いることにより、信頼性の高い半導体製造方法を提供できる。
図7は、図3に示す実施例1においてアクチュエータ部62Xa、62Yaが押す先端部軸41jの反対側にバネ62Xb、62Ybを配置している実施例2を示す図である。通常ピエゾ素子は伸張する際は力を発生するが元に戻る際の引張(復元)力はない。従って、実施例2の微調整機構62Aでは、先端部軸41jにバネ性を持たせ、ピエゾ素子が縮むときには先端部軸41j自身で復元するようにした。バネ性をバネ62Xb、62Ybの代わりに弾性体を用いてもよい。バネ性の代わりに、アクチュエータ部62Xa、62Yaの反対側にアクチュエータ部62Xa、62Yaと同じ機構を設けて、それぞれ対でX、Y方向に双方向に移動させてよい。
なお、アクチュエータとして超磁歪素子を用いた場合は、超磁歪素子は双方向に変位をもたらすことが可能であるので、変位方向を変えることによって元の位置に戻す、または新たな方向に変位を与えることができる。
4:制御部 5:基板供給・搬送部
10:ダイボンダ 20:位置ズレ検出部
21:基準マーク形成光源(光源) 22:処理位置カメラ
23、24、25:位置補正撮像カメラ(位置補正カメラ)
31:プリフォーム部 32:ボンディングヘッド部
41:ボンディングヘッド 41c:コレット
41j:ボンディングヘッドの先端部軸
42:位置検出カメラ 43:固定テーブル
44:ボンディングステージ(ステージ) 45:リードフレーム
45b:ボンディング位置(処理位置) 45c:処理位置の中心位置
45p1、45p2:認識パターン
45s:処理位置と基準マークとを含む処理位置周辺領域
47:移動機構 50:ボンディング位置補正装置
60:位置決め機構 61:3次元の粗調整機構
62:微調整機構 62k:微調整機構固定部
62X:X軸微調整機構 62Y:Y軸微調整機構
62Xs、62Ys:支持棒 62Xa、62Ya:アクチュエータ部
D:ダイ KM:基準マーク
θ:位置補正撮像カメラのリードフレーム面からの成す角
Claims (9)
- ダイをウェハから吸着して基板にボンディングするボンディングヘッドと、
前記ダイの位置を所定精度で前記位置決めする第1の調整機構を有し、前記ボンディングヘッドを位置決めする位置決めを機構と、
前記位置決め機構を制御する位置決め制御部と、
前記ボンディングヘッドに設け、前記第1の調整機構よりも高い精度で前記ダイの位置を調整する第2の調整機構と、
を有することを特徴とするダイボンダ。 - 前記第2の調整機構は、前記ボンディングヘッドの先端部軸を複数の方向から作用し、所定の変位で移動させるアクチュエータを有することを特徴とする請求項1に記載のダイボンダ。
- 前記アクチュエータは、前記ダイをボンディングする面と平行な面、又はボンディングする面と角度を有する面のいずれかに設けたことを特徴とする請求項2に記載のダイボンダ。
- 前記アクチュエータは、ピエゾ素子又は超磁歪素子のいずれかであることを特徴とする請求項2に記載のダイボンダ。
- 前記アクチュエータは、ピエゾ素子又は超磁歪素子のいずれかであることを特徴とする請求項3に記載のダイボンダ。
- 前記複数の方向の相対する方向から前記所定の変位を元に戻す復元力を発生する復元力手段を設けたことを特徴とする請求項2に記載のダイボンダ。
- 基板または前記基板の近傍に設けられた基準マークと、
前記基準マークと前記基板のボンディング位置に設けられた認識パターンとを撮像する第1の撮像手段と、
前記基準マークと前記ボンディング位置に近接したダイとを撮像する第2の撮像手段と、
前記第1及び前記第2の撮像手段によって得られた撮像データに基づいて前記ボンディング位置に近接した前記ダイの位置を補正する補正手段とを具備する位置ずれ検出部と、
を有することを特徴とする請求項1に記載のダイボンダ。 - ダイをボンディングヘッドでウェハから吸着するステップと、
第1の調整機構により所定の精度で前記ダイの位置を調整し、第2の調整機構により前記第1の調整機構よりも高い精度で前記ダイの位置を調整して、前記ボンディングヘッドの位置決めを行うステップと、
前記ボンディングヘッドが前記ダイを基板にボンディングするステップと、
を有することを特徴とする半導体製造方法。 - 前記第1の調整機構の調整は、前記ボンディングヘッドの先端部軸を複数の方向から作用し、所定の変位で移動させることを特徴とする請求項8に記載の半導体製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011032881A JP5277266B2 (ja) | 2011-02-18 | 2011-02-18 | ダイボンダ及び半導体製造方法 |
TW100107718A TWI442491B (zh) | 2011-02-18 | 2011-03-08 | Grain bonding machine and semiconductor manufacturing method |
US13/044,148 US8540001B2 (en) | 2011-02-18 | 2011-03-09 | Die bonder and semiconductor manufacturing method |
CN201110062348.XA CN102646572B (zh) | 2011-02-18 | 2011-03-10 | 芯片焊接机以及半导体制造方法 |
KR1020110021188A KR101426583B1 (ko) | 2011-02-18 | 2011-03-10 | 다이 본더 및 반도체 제조 방법 |
KR1020130025706A KR101353685B1 (ko) | 2011-02-18 | 2013-03-11 | 다이 본더 및 반도체 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011032881A JP5277266B2 (ja) | 2011-02-18 | 2011-02-18 | ダイボンダ及び半導体製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012174755A true JP2012174755A (ja) | 2012-09-10 |
JP5277266B2 JP5277266B2 (ja) | 2013-08-28 |
Family
ID=46653063
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011032881A Active JP5277266B2 (ja) | 2011-02-18 | 2011-02-18 | ダイボンダ及び半導体製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8540001B2 (ja) |
JP (1) | JP5277266B2 (ja) |
KR (2) | KR101426583B1 (ja) |
CN (1) | CN102646572B (ja) |
TW (1) | TWI442491B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021124732A1 (ja) * | 2019-12-17 | 2021-06-24 | 株式会社新川 | 半導体装置の製造装置、および、半導体装置の製造方法 |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2343165A1 (en) * | 2010-01-07 | 2011-07-13 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | System and method for picking and placement of chip dies |
JP5789436B2 (ja) * | 2011-07-13 | 2015-10-07 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンダ |
KR101445123B1 (ko) * | 2013-01-31 | 2014-10-01 | (주) 예스티 | 웨이퍼 상에 칩을 정밀하게 본딩하기 위한 장치 |
JP6166069B2 (ja) * | 2013-03-15 | 2017-07-19 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンダ及びコレット位置調整方法 |
US9165902B2 (en) | 2013-12-17 | 2015-10-20 | Kulicke And Soffa Industries, Inc. | Methods of operating bonding machines for bonding semiconductor elements, and bonding machines |
TWI567859B (zh) * | 2014-02-10 | 2017-01-21 | 新川股份有限公司 | 安裝裝置及其偏移量修正方法 |
CN103801787B (zh) * | 2014-02-28 | 2016-05-25 | 成都先进功率半导体股份有限公司 | 一种焊片机装置及其焊片方法 |
KR102238649B1 (ko) * | 2014-09-16 | 2021-04-09 | 삼성전자주식회사 | 반도체 칩 본딩 장치 |
US9847313B2 (en) * | 2015-04-24 | 2017-12-19 | Kulicke And Soffa Industries, Inc. | Thermocompression bonders, methods of operating thermocompression bonders, and horizontal scrub motions in thermocompression bonding |
US9812349B2 (en) * | 2015-12-01 | 2017-11-07 | Lam Research Corporation | Control of the incidence angle of an ion beam on a substrate |
CN105810624A (zh) * | 2016-05-05 | 2016-07-27 | 先进光电器材(深圳)有限公司 | 晶片自动校正装置 |
TWI602260B (zh) * | 2016-12-28 | 2017-10-11 | 梭特科技股份有限公司 | 晶粒定位裝置 |
CN106505141A (zh) * | 2016-12-29 | 2017-03-15 | 深圳市微恒自动化设备有限公司 | 一种固晶机及固晶方法 |
US10050008B1 (en) * | 2017-01-24 | 2018-08-14 | Asm Technology Singapore Pte Ltd | Method and system for automatic bond arm alignment |
CN108986167B (zh) * | 2017-06-05 | 2022-01-11 | 梭特科技股份有限公司 | 置晶设备的校正方法及使用该方法的置晶设备 |
JP7010633B2 (ja) * | 2017-09-19 | 2022-01-26 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
CN108155124A (zh) * | 2017-12-25 | 2018-06-12 | 北京中电科电子装备有限公司 | 一种芯片贴装装置及方法 |
TWI744849B (zh) | 2019-04-15 | 2021-11-01 | 日商新川股份有限公司 | 接合裝置以及接合頭的移動量補正方法 |
JP7377655B2 (ja) * | 2019-09-19 | 2023-11-10 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 |
US11540399B1 (en) * | 2020-04-09 | 2022-12-27 | Hrl Laboratories, Llc | System and method for bonding a cable to a substrate using a die bonder |
KR102296306B1 (ko) * | 2020-04-27 | 2021-09-06 | 성일기업(주) | 자동차 시트의 사이드브라켓 성형용 프레스기 제어방법 |
CN113787276A (zh) * | 2021-09-30 | 2021-12-14 | 苏州艾科瑞思智能装备股份有限公司 | 一种自适应调整水平度的封装机焊头 |
CN114388418B (zh) * | 2021-12-28 | 2022-12-13 | 凌波微步半导体设备(常熟)有限公司 | 一种半导体焊线机的闭环位置补偿方法及系统 |
CN116013818B (zh) * | 2023-02-23 | 2023-10-20 | 深圳市金誉半导体股份有限公司 | 一种SiC封装结构及封装方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005235903A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 部品実装装置と実装方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR0161436B1 (ko) * | 1995-09-16 | 1999-02-01 | 이대원 | 다이 본딩 장치 |
JP3298810B2 (ja) * | 1997-07-09 | 2002-07-08 | 株式会社新川 | ダイボンディング装置 |
JP2001203224A (ja) | 2000-01-19 | 2001-07-27 | Sony Corp | 樹脂封止装置 |
JP4167790B2 (ja) | 2000-03-10 | 2008-10-22 | 東レエンジニアリング株式会社 | チップ実装装置 |
KR20030005372A (ko) * | 2000-05-22 | 2003-01-17 | 토레이 엔지니어링 컴퍼니, 리미티드 | 칩 실장 장치 및 그 장치에 있어서의 얼라인먼트 방법 |
US7299545B2 (en) | 2002-04-04 | 2007-11-27 | Toray Engineering Co., Ltd. | Alignment method and mounting method using the alignment method |
US6605491B1 (en) * | 2002-05-21 | 2003-08-12 | Industrial Technology Research Institute | Method for bonding IC chips to substrates with non-conductive adhesive |
JP2007115851A (ja) | 2005-10-19 | 2007-05-10 | Toshiba Corp | 半導体部品の位置検査方法、位置検査装置および半導体装置の製造方法 |
JP4964522B2 (ja) * | 2006-07-12 | 2012-07-04 | ヤマハ発動機株式会社 | スクリーン印刷装置 |
US8037918B2 (en) * | 2006-12-04 | 2011-10-18 | Stats Chippac, Inc. | Pick-up heads and systems for die bonding and related applications |
KR20090019568A (ko) | 2007-08-21 | 2009-02-25 | 삼성전자주식회사 | 다이 본더와 이를 이용한 다이 본딩 방법 |
-
2011
- 2011-02-18 JP JP2011032881A patent/JP5277266B2/ja active Active
- 2011-03-08 TW TW100107718A patent/TWI442491B/zh active
- 2011-03-09 US US13/044,148 patent/US8540001B2/en active Active
- 2011-03-10 CN CN201110062348.XA patent/CN102646572B/zh active Active
- 2011-03-10 KR KR1020110021188A patent/KR101426583B1/ko active IP Right Grant
-
2013
- 2013-03-11 KR KR1020130025706A patent/KR101353685B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005235903A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 部品実装装置と実装方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021124732A1 (ja) * | 2019-12-17 | 2021-06-24 | 株式会社新川 | 半導体装置の製造装置、および、半導体装置の製造方法 |
JPWO2021124732A1 (ja) * | 2019-12-17 | 2021-06-24 | ||
JP7224695B2 (ja) | 2019-12-17 | 2023-02-20 | 株式会社新川 | 半導体装置の製造装置、および、半導体装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102646572A (zh) | 2012-08-22 |
KR20130035263A (ko) | 2013-04-08 |
US20120214258A1 (en) | 2012-08-23 |
US8540001B2 (en) | 2013-09-24 |
KR101353685B1 (ko) | 2014-01-20 |
TW201246416A (en) | 2012-11-16 |
JP5277266B2 (ja) | 2013-08-28 |
KR20120095271A (ko) | 2012-08-28 |
KR101426583B1 (ko) | 2014-08-05 |
TWI442491B (zh) | 2014-06-21 |
CN102646572B (zh) | 2015-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5277266B2 (ja) | ダイボンダ及び半導体製造方法 | |
JP7164314B2 (ja) | 部品を基板上に搭載する装置及び方法 | |
JP2005277271A (ja) | 電子部品搭載装置および電子部品搭載方法 | |
JP2020102637A (ja) | 電子部品の実装装置と実装方法、およびパッケージ部品の製造方法 | |
JP6787612B2 (ja) | 第1物体を第2物体に対して位置決めする装置及び方法 | |
JP5309503B2 (ja) | 位置決め装置と、位置決め方法と、これらを有する半導体製造装置 | |
KR101667488B1 (ko) | 반도체 소자 이송장치 및 반도체 소자 이송방법 | |
JP5077936B2 (ja) | 実装装置および実装方法 | |
KR102186384B1 (ko) | 다이 본딩 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 | |
JP5690535B2 (ja) | ダイボンダ及び半導体製造方法 | |
JP5986741B2 (ja) | 部品搭載方法及び装置及びプログラム | |
JP5104127B2 (ja) | ウェハ移載装置と、これを有する半導体製造装置 | |
JPH098104A (ja) | チップボンディング装置におけるキャリブレーション方法 | |
JP7285162B2 (ja) | ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 | |
JP2011066162A (ja) | 電子部品の実装装置及び実装方法 | |
KR20220131174A (ko) | 다이 본딩 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 | |
JP5516684B2 (ja) | ウェハ貼り合わせ方法、位置決め方法と、これを有する半導体製造装置 | |
JP5181383B2 (ja) | ボンディング装置 | |
WO2023188500A1 (ja) | 位置合わせ装置、位置合わせ方法、ボンディング装置、ボンディング方法、および半導体装置製造方法 | |
TWI841852B (zh) | 安裝裝置及安裝方法 | |
JP5576219B2 (ja) | ダイボンダおよびダイボンディング方法 | |
JP2003168892A (ja) | 実装精度確認方法、実装方法及び装置、実装精度確認用ジグ | |
JP7112274B2 (ja) | 実装装置、及び実装装置に用いられる校正基板 | |
JP2013191890A (ja) | 位置決め装置と、位置決め方法と、これらを有する半導体製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120913 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130301 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130423 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130520 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5277266 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |