JP2012162474A - ナフトール型カリックス(4)アレーン化合物の製造方法 - Google Patents
ナフトール型カリックス(4)アレーン化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012162474A JP2012162474A JP2011022685A JP2011022685A JP2012162474A JP 2012162474 A JP2012162474 A JP 2012162474A JP 2011022685 A JP2011022685 A JP 2011022685A JP 2011022685 A JP2011022685 A JP 2011022685A JP 2012162474 A JP2012162474 A JP 2012162474A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- naphthol
- formaldehyde
- mass
- manufactured
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- -1 calix(4)arene compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 77
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 12
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 77
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 5
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 21
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 14
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- GQPLZGRPYWLBPW-UHFFFAOYSA-N calix[4]arene Chemical compound C1C(C=2)=CC=CC=2CC(C=2)=CC=CC=2CC(C=2)=CC=CC=2CC2=CC=CC1=C2 GQPLZGRPYWLBPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 5
- 239000008098 formaldehyde solution Substances 0.000 description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 3
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- WLZPYTDCBHITRF-UHFFFAOYSA-N 5-methoxynaphthalen-1-ol Chemical compound C1=CC=C2C(OC)=CC=CC2=C1O WLZPYTDCBHITRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N calixarene Chemical class COC(=O)COC1=C(CC=2C(=C(CC=3C(=C(C4)C=C(C=3)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C=2)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C(C)(C)C)C=C1CC1=C(OCC(=O)OC)C4=CC(C(C)(C)C)=C1 VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trioxane Chemical compound C1OCOCO1 BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPJCBXBTQBOAKY-UHFFFAOYSA-N 3-methylnaphthalen-1-ol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C)=CC(O)=C21 ZPJCBXBTQBOAKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XURLSQIGYIACRH-UHFFFAOYSA-N 5-butylnaphthalen-1-ol Chemical compound C1=CC=C2C(CCCC)=CC=CC2=C1O XURLSQIGYIACRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWAWNXODWGJFPU-UHFFFAOYSA-N 5-ethylnaphthalen-1-ol Chemical compound C1=CC=C2C(CC)=CC=CC2=C1O QWAWNXODWGJFPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFFNCYKOPFBODF-UHFFFAOYSA-N 5-methylnaphthalen-1-ol Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=CC2=C1O IFFNCYKOPFBODF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJZJFOHCVAUKE-UHFFFAOYSA-N 5-propylnaphthalen-1-ol Chemical compound C1=CC=C2C(CCC)=CC=CC2=C1O ATJZJFOHCVAUKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIAKUKKFJMAWDV-UHFFFAOYSA-N 6-butylnaphthalen-1-ol Chemical compound OC1=CC=CC2=CC(CCCC)=CC=C21 XIAKUKKFJMAWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBMFLCJBMYYCP-UHFFFAOYSA-N 6-ethylnaphthalen-1-ol Chemical compound OC1=CC=CC2=CC(CC)=CC=C21 NQBMFLCJBMYYCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPPSENSUXVOOII-UHFFFAOYSA-N 6-methoxynaphthalen-1-ol Chemical compound OC1=CC=CC2=CC(OC)=CC=C21 LPPSENSUXVOOII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCABGIMUFLBRMU-UHFFFAOYSA-N 6-methylnaphthalen-1-ol Chemical compound OC1=CC=CC2=CC(C)=CC=C21 SCABGIMUFLBRMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEPJSFJUJJUGPM-UHFFFAOYSA-N 6-propylnaphthalen-1-ol Chemical compound OC1=CC=CC2=CC(CCC)=CC=C21 KEPJSFJUJJUGPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 102000036858 Metal ion transporters Human genes 0.000 description 1
- 108091006974 Metal ion transporters Proteins 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229940097362 cyclodextrins Drugs 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 238000006911 enzymatic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【解決手段】α−ナフトール化合物とホルムアルデヒドとを、両者のモル比(α−ナフトール化合物/ホルムアルデヒド)が1.0以下となる割合で、かつ、アルカリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物を前記α−ナフトール化合物1モルに対して0.02モル以上となる割合で反応触媒として用い、反応させることを特徴とする。
【選択図】なし
Description
とりわけ、フェノール化合物の中でも、カリックスアレーン化合物(誘導体)は、シクロデキストリンと同様な筒状構造の化合物として知られ、このような構造上の特性や機能(包接機能や触媒機能等)を利用し、酵素反応や触媒反応、或いは金属イオンの輸送体や選択性吸着剤として、或いは分子認識の包接化合物として知られている。
斯かるカリックスアレーン化合物の合成法としては、一般的な方法として、キシレン等の芳香族系の溶剤を反応溶媒として、フェノールとホルムアルデヒドとをKOHやNaOH、tert−ブチルアルコキシド(tert−BuOK)等の塩基触媒の存在下で脱水縮合することにより一段法で粗合成し、これをクロロホルム等の溶媒を用いて精製し、必要に応じてクロマト分離することにより目的物を得る方法が知られている他(下記、非特許文献1参照)、ナフトールカリックスアレーン化合物の製造例としては、炭酸カリウムの存在下、DMFを反応溶媒として用い合成する方法が知られている(下記、非特許文献2参照)。
従って、本発明が解決しようとする課題は、ナフトール型カリックス(4)アレーン化合物を選択的に且つ高収率で製造する方法を提供することにある。
本発明のナフトール型カリックス(4)アレーン化合物の製造方法は、α−ナフトール化合物とホルムアルデヒドとを、両者のモル比(α−ナフトール化合物/ホルムアルデヒド)が1.0以下となる割合で、かつ、アルカリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物を前記α−ナフトール化合物1モルに対して0.02モル以上となる割合で反応触媒として用い、反応させることを特徴とするものである。
<GPC測定条件>
測定装置 :東ソー株式会社製「HLC−8220 GPC」、
カラム:東ソー株式会社製ガードカラム「HXL−L」
+東ソー株式会社製「TSK−GEL G2000HXL」
+東ソー株式会社製「TSK−GEL G2000HXL」
+東ソー株式会社製「TSK−GEL G3000HXL」
+東ソー株式会社製「TSK−GEL G4000HXL」
検出器: RI(示差屈折径)
データ処理:東ソー株式会社製「GPC−8020モデルIIバージョン4.10」
測定条件: カラム温度 40℃
展開溶媒 テトラヒドロフラン
流速 1.0ml/分
標準 : 前記「GPC−8020モデルIIバージョン4.10」の測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の下記の単分散ポリスチレンを用いた。
(使用ポリスチレン)
東ソー株式会社製「A−500」
東ソー株式会社製「A−1000」
東ソー株式会社製「A−2500」
東ソー株式会社製「A−5000」
東ソー株式会社製「F−1」
東ソー株式会社製「F−2」
東ソー株式会社製「F−4」
東ソー株式会社製「F−10」
東ソー株式会社製「F−20」
東ソー株式会社製「F−40」
東ソー株式会社製「F−80」
東ソー株式会社製「F−128」
試料 : 樹脂固形分換算で1.0質量%のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの(50μl)。
測定装置 :東ソー株式会社製「HLC−8220 GPC」、
カラム:東ソー株式会社製ガードカラム「HXL−L」
+東ソー株式会社製「TSK−GEL G2000HXL」
+東ソー株式会社製「TSK−GEL G2000HXL」
+東ソー株式会社製「TSK−GEL G3000HXL」
+東ソー株式会社製「TSK−GEL G4000HXL」
検出器: RI(示差屈折径)
データ処理:東ソー株式会社製「GPC−8020モデルIIバージョン4.10」
測定条件: カラム温度 40℃
展開溶媒 テトラヒドロフラン
流速 1.0ml/分
標準 : 前記「GPC−8020モデルIIバージョン4.10」の測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の下記の単分散ポリスチレンを用いた。
(使用ポリスチレン)
東ソー株式会社製「A−500」
東ソー株式会社製「A−1000」
東ソー株式会社製「A−2500」
東ソー株式会社製「A−5000」
東ソー株式会社製「F−1」
東ソー株式会社製「F−2」
東ソー株式会社製「F−4」
東ソー株式会社製「F−10」
東ソー株式会社製「F−20」
東ソー株式会社製「F−40」
東ソー株式会社製「F−80」
東ソー株式会社製「F−128」
試料 : 樹脂固形分換算で1.0質量%のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの(50μl)。
3)13C−NMR:測定条件は以下の通り。
装置:日本電子(株)製 AL−400
測定モード:SGNNE(NOE消去の1H完全デカップリング法)
溶媒 :ジメチルスルホキシド
パルス角度:45℃パルス
試料濃度 :30wt%
積算回数 :10000回
4)MS :日本電子株式会社製 二重収束型質量分析装置 AX505H(FD505H)
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、α−ナフトール216質量部(1.50モル)、37質量%ホルムアルデヒド水溶液146質量部(1.80モル)、イソプロピルアルコール121質量部、49%水酸化ナトリウム水溶液46質量部(0.56モル)を仕込み、室温下、窒素を吹き込みながら撹拌した。その後、80℃に昇温し1時間攪拌した。反応終了後、第1リン酸ソーダ40質量部を添加して中和した後、冷却し結晶物をろ別した。その後、水200質量部で3回洗浄を繰り返した後に、加熱減圧下乾燥してフェノール化合物(A−1)224質量部を得た。収率は95.7質量%であり、カリックス(4)アレーンの純度(GPC測定による面積比基準)は99.9%であった。得られた化合物(A−1)の水酸基当量は156グラム/当量であった。得られたフェノール化合物(A−1)のGPCチャートを図1に、C13NMRチャートを図2に、MSスペクトルを図3に示す。MSスペクトルからナフトールカリックス(4)アレーンを示す624のピークが検出された。
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、α−ナフトール216質量部(1.50モル)、37質量%ホルムアルデヒド水溶液183質量部(2.26モル)、イソプロピルアルコール121質量部、49%水酸化ナトリウム水溶液4質量部(0.05モル)を仕込み、室温下、窒素を吹き込みながら撹拌した。その後、80℃に昇温し1時間攪拌した。反応終了後、第1リン酸ソーダ4質量部を添加して中和した後、メチルイソブチルケトン400質量部加えた。その後、水200質量部で3回洗浄を繰り返した後に、加熱減圧下乾燥してフェノール化合物(A−2)215質量部を得た。収率は91.9質量%であり、カリックス(4)アレーンの純度(GPC測定による面積比基準)は64.4%であった。得られた化合物(A−2)の水酸基当量は155グラム/当量であった。得られたフェノール化合物(A−2)のGPCチャートを図4に示す。
37質量%ホルムアルデヒド水溶液146質量部(1.80モル)にした以外は、実施例2と同様にして、フェノール化合物(A−3)208質量部得られ、収率は88.9質量%であり、カリックス(4)アレーンの純度(GPC測定による面積比基準)は69.1%であった。得られた化合物(A−3)の水酸基当量は155グラム/当量であった。得られたフェノール化合物のGPCチャートを図5に示す。
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、α−ナフトール216質量部(1.50モル)、37質量%ホルムアルデヒド水溶液119質量部(1.47モル)、イソプロピルアルコール121質量部、49%水酸化ナトリウム水溶液4質量部(0.05モル)を仕込み、室温下、窒素を吹き込みながら撹拌した。その後、80℃に昇温し1時間攪拌した。反応終了後、第1リン酸ソーダ4質量部を添加して中和した後、メチルイソブチルケトン400質量部加えた。その後、水200質量部で3回洗浄を繰り返した後に、加熱減圧下乾燥してフェノール化合物(A−4)210質量部得られ、収率は89.7質量%であり、カリックス(4)アレーンの純度(GPC測定による面積比基準)は14.7%であった。得られた化合物(A−4)の水酸基当量は154グラム/当量であった。得られたフェノール化合物(A−4)のGPCチャートを図6に示す。
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、α−ナフトール216質量部(1.50モル)、37質量%ホルムアルデヒド水溶液183質量部(2.26モル)、イソプロピルアルコール121質量部、49%水酸化ナトリウム水溶液1.2質量部(0.015モル)を仕込み、室温下、窒素を吹き込みながら撹拌した。その後、80℃に昇温し1時間攪拌した。反応終了後、フラスコ内でゲル化していた為、中和水洗出来なかった。
Claims (4)
- α−ナフトール化合物とホルムアルデヒドとを、両者のモル比(α−ナフトール化合物/ホルムアルデヒド)が1.0以下となる割合で、かつ、アルカリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物を前記α−ナフトール化合物1モルに対して0.02モル以上となる割合で反応触媒として用い、反応させることを特徴とするナフトール型カリックス(4)アレーン化合物の製造方法。
- α−ナフトール化合物とホルムアルデヒドとのモル比(α−ナフトール化合物/ホルムアルデヒド)が1.0/1.0〜1.0/10.0となる割合である請求項1記載の製造方法。
- α−ナフトール化合物とホルムアルデヒドとの反応を、60〜90℃の温度条件下に行う請求項1記載の製造方法。
- α−ナフトール化合物とホルムアルデヒドとの反応を、プロトン系有機溶剤の存在下に行う請求項1記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011022685A JP5648847B2 (ja) | 2011-02-04 | 2011-02-04 | ナフトール型カリックス(4)アレーン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011022685A JP5648847B2 (ja) | 2011-02-04 | 2011-02-04 | ナフトール型カリックス(4)アレーン化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012162474A true JP2012162474A (ja) | 2012-08-30 |
JP5648847B2 JP5648847B2 (ja) | 2015-01-07 |
Family
ID=46842265
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011022685A Active JP5648847B2 (ja) | 2011-02-04 | 2011-02-04 | ナフトール型カリックス(4)アレーン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5648847B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013173839A (ja) * | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Dic Corp | シアン酸エステル樹脂、硬化性樹脂組成物、その硬化物、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及び、ビルドアップフィルム |
JP2013181164A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Dic Corp | 活性エステル樹脂、硬化性樹脂組成物、その硬化物、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルム |
WO2015008560A1 (ja) * | 2013-07-19 | 2015-01-22 | Dic株式会社 | フェノール性水酸基含有化合物、感光性組成物、レジスト用組成物、レジスト塗膜、硬化性組成物、レジスト下層膜用組成物、及びレジスト下層膜 |
WO2016114000A1 (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-21 | Dic株式会社 | レジスト永久膜用硬化性組成物及びレジスト永久膜 |
WO2016114001A1 (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-21 | Dic株式会社 | フェノール性水酸基含有化合物、これを含む組成物及びその硬化膜 |
KR20170008737A (ko) | 2014-05-15 | 2017-01-24 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 변성 페놀성 수산기 함유 화합물, 변성 페놀성 수산기 함유 화합물의 제조 방법, 감광성 조성물, 레지스트 재료 및 레지스트 도막 |
KR20170032221A (ko) | 2014-07-09 | 2017-03-22 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 페놀성 수산기 함유 수지, 그 제조 방법, 감광성 조성물, 레지스트 재료, 도막, 경화성 조성물과 그 경화물, 및 레지스트 하층막 |
KR20170066315A (ko) | 2014-10-10 | 2017-06-14 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 나프톨형 칼릭스아렌 화합물 및 그 제조 방법, 감광성 조성물, 레지스트 재료, 그리고 도막 |
JPWO2017098881A1 (ja) * | 2015-12-11 | 2017-12-07 | Dic株式会社 | ノボラック型樹脂及びレジスト膜 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52144658A (en) * | 1976-05-28 | 1977-12-02 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Preparation of polyhydroxymethyl polyhydroxydiphenylmethanes |
JPH04316528A (ja) * | 1991-04-16 | 1992-11-06 | Nippon Kayaku Co Ltd | 新規化合物、樹脂、樹脂組成物及び硬化物 |
US5750577A (en) * | 1994-04-28 | 1998-05-12 | Seabright Corporation Limited | Chromotropic acid-formaldehyde and 1-naphthol-formaldehyde polymeric compounds |
JPH10333361A (ja) * | 1997-06-04 | 1998-12-18 | Canon Inc | 静電荷像現像用トナー |
JP2000016956A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-01-18 | Orient Chem Ind Ltd | カリックス(4)アレーン誘導体の製造方法 |
-
2011
- 2011-02-04 JP JP2011022685A patent/JP5648847B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52144658A (en) * | 1976-05-28 | 1977-12-02 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Preparation of polyhydroxymethyl polyhydroxydiphenylmethanes |
JPH04316528A (ja) * | 1991-04-16 | 1992-11-06 | Nippon Kayaku Co Ltd | 新規化合物、樹脂、樹脂組成物及び硬化物 |
US5750577A (en) * | 1994-04-28 | 1998-05-12 | Seabright Corporation Limited | Chromotropic acid-formaldehyde and 1-naphthol-formaldehyde polymeric compounds |
JPH10333361A (ja) * | 1997-06-04 | 1998-12-18 | Canon Inc | 静電荷像現像用トナー |
JP2000016956A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-01-18 | Orient Chem Ind Ltd | カリックス(4)アレーン誘導体の製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6014017062; Paris E. Georghiou: 'Calix[4]naphthalenes: Cyclic tetramers of 1-naphthol and formaldehyde' Tetrahedron Letters 34(18), 1993, Pages 2887-2890 * |
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013173839A (ja) * | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Dic Corp | シアン酸エステル樹脂、硬化性樹脂組成物、その硬化物、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及び、ビルドアップフィルム |
JP2013181164A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Dic Corp | 活性エステル樹脂、硬化性樹脂組成物、その硬化物、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルム |
US9828457B2 (en) * | 2013-07-19 | 2017-11-28 | Dic Corporation | Compound containing phenolic hydroxy group, photosensitive composition, composition for resists, resist coating film, curable composition, composition for resist underlayer films, and resist underlayer film |
WO2015008560A1 (ja) * | 2013-07-19 | 2015-01-22 | Dic株式会社 | フェノール性水酸基含有化合物、感光性組成物、レジスト用組成物、レジスト塗膜、硬化性組成物、レジスト下層膜用組成物、及びレジスト下層膜 |
JP5700269B1 (ja) * | 2013-07-19 | 2015-04-15 | Dic株式会社 | フェノール性水酸基含有化合物、感光性組成物、レジスト用組成物、レジスト塗膜、硬化性組成物、レジスト下層膜用組成物、及びレジスト下層膜 |
KR20160033652A (ko) | 2013-07-19 | 2016-03-28 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 페놀성 수산기 함유 화합물, 감광성 조성물, 레지스트용 조성물, 레지스트 도막, 경화성 조성물, 레지스트 하층막용 조성물, 및 레지스트 하층막 |
US9975830B2 (en) | 2014-05-15 | 2018-05-22 | Dic Corporation | Compound containing modified phenolic hydroxy group, method for producing compound containing modified phenolic hydroxy group, photosensitive composition, resist material, and resist coating film |
KR20170008737A (ko) | 2014-05-15 | 2017-01-24 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 변성 페놀성 수산기 함유 화합물, 변성 페놀성 수산기 함유 화합물의 제조 방법, 감광성 조성물, 레지스트 재료 및 레지스트 도막 |
US9963536B2 (en) | 2014-07-09 | 2018-05-08 | Dic Corporation | Phenolic hydroxyl group-containing resin, production method therefor, photosensitive composition, resist material, coating film, curable composition and cured product thereof, and resist underlayer film |
KR20170032221A (ko) | 2014-07-09 | 2017-03-22 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 페놀성 수산기 함유 수지, 그 제조 방법, 감광성 조성물, 레지스트 재료, 도막, 경화성 조성물과 그 경화물, 및 레지스트 하층막 |
US10466590B2 (en) | 2014-10-10 | 2019-11-05 | Dic Corporation | Naphthol-type calixarene compound and method for producing the same, photosensitive composition, resist material, and coating |
KR20170066315A (ko) | 2014-10-10 | 2017-06-14 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 나프톨형 칼릭스아렌 화합물 및 그 제조 방법, 감광성 조성물, 레지스트 재료, 그리고 도막 |
WO2016114000A1 (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-21 | Dic株式会社 | レジスト永久膜用硬化性組成物及びレジスト永久膜 |
KR20170104989A (ko) | 2015-01-16 | 2017-09-18 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 페놀성 수산기 함유 화합물, 이것을 포함하는 조성물 및 그 경화막 |
KR20170104441A (ko) | 2015-01-16 | 2017-09-15 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 레지스트 영구막용 경화성 조성물 및 레지스트 영구막 |
JP6028883B1 (ja) * | 2015-01-16 | 2016-11-24 | Dic株式会社 | レジスト永久膜用硬化性組成物及びレジスト永久膜 |
JP6025011B1 (ja) * | 2015-01-16 | 2016-11-16 | Dic株式会社 | フェノール性水酸基含有化合物、これを含む組成物及びその硬化膜 |
US10179828B2 (en) * | 2015-01-16 | 2019-01-15 | Dic Corporation | Curable composition for permanent resist films, and permanent resist film |
US10266471B2 (en) * | 2015-01-16 | 2019-04-23 | Dic Corporation | Phenolic hydroxyl-containing compound, composition containing the same, and cured film of the composition |
WO2016114001A1 (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-21 | Dic株式会社 | フェノール性水酸基含有化合物、これを含む組成物及びその硬化膜 |
KR102432122B1 (ko) | 2015-01-16 | 2022-08-16 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 페놀성 수산기 함유 화합물, 이것을 포함하는 조성물 및 그 경화막 |
KR102438520B1 (ko) | 2015-01-16 | 2022-09-01 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 레지스트 영구막용 경화성 조성물 및 레지스트 영구막 |
JPWO2017098881A1 (ja) * | 2015-12-11 | 2017-12-07 | Dic株式会社 | ノボラック型樹脂及びレジスト膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5648847B2 (ja) | 2015-01-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5648847B2 (ja) | ナフトール型カリックス(4)アレーン化合物の製造方法 | |
EP3051350B1 (en) | Alcoholic compound and method for producing alcoholic compound | |
EP2955169B1 (en) | Novel allyl compound and method for producing the same | |
JP5958734B2 (ja) | 新規エポキシ化合物及びその製造方法 | |
US8841388B2 (en) | Monofunctional, bifunctional, and multifunctional phosphinated phenols and their derivatives and preparation method thereof | |
JPH05117350A (ja) | 新規フエノール性化合物及びそのエポキシ化物並びにそれらの製造方法 | |
JP6319805B2 (ja) | スピロビフルオレン骨格を有するジオール化合物およびその製造方法 | |
JP5090107B2 (ja) | テトラキス(アリルオキシフェニル)炭化水素化合物の製造方法 | |
JPH0617440B2 (ja) | 新規エポキシ樹脂及びその製造法 | |
JP2007126447A (ja) | ジオキサングリコールの製造方法 | |
JP5761775B2 (ja) | ビスフェノールAプロピレンオキシド付加物のジβ−メチルグリシジルエーテル及びそれを用いた硬化性樹脂組成物 | |
JP5731818B2 (ja) | アントラセン誘導体、硬化性組成物、硬化物及びアントラセン誘導体の製造方法 | |
JP5580712B2 (ja) | アントラセン誘導体、硬化性組成物及び硬化物 | |
JP2008285544A (ja) | フルオレン環を含むエポキシ化合物およびその製造方法 | |
JP6594808B2 (ja) | 新規フルオレン化合物及びその製造方法 | |
JP3930688B2 (ja) | 2,2’−メチレンビス(アルキルフェノール)類の製造方法 | |
JP5347678B2 (ja) | ノボラック樹脂の製造方法 | |
CN115894466B (zh) | 一种环氧树脂的制备方法 | |
JP3732539B2 (ja) | 新規ポリフェノール及びその製造方法 | |
JP2002179749A (ja) | ノボラック樹脂の製造方法 | |
JP6265479B2 (ja) | 3,3−ビス(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−1−プロパノール及びその製造方法 | |
JP3621996B2 (ja) | エポキシ樹脂およびその製造方法 | |
JPWO2020017331A1 (ja) | 新規なポリアシルオキシメチル−4,4’−アシルオキシビフェニル化合物 | |
JPS5912915A (ja) | 8環状体フエノ−ル・ホルムアルデヒド樹脂の製造法 | |
JP2023118156A (ja) | 3,9-ビス(4-オキシ-3-メトキシフェニル)-2,4,8,10,-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンの結晶多形体およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130731 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140416 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140424 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141016 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141029 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5648847 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |