JP2012150437A - 薄膜トランジスタ液晶ディスプレイのアレイ基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明はTFT−LCDアレイ基板及びその製造方法に関し、アレイ基板はベース基板と、ベース基板上に形成され画素領域を限定するゲートライン及びデータラインを含み、前記画素領域内には画素電極、薄膜トランジスタと共通電極が形成される。また、導電性薄膜材料により製造されるブラックマトリクスを含み、前記ブラックマトリクスは前記共通電極と接続される。
【選択図】図1
Description
2 ゲート電極
3 ゲート絶縁層
4 半導体層
5 ドップされた半導体層
6 ソース電極
7 ドレイン電極
8 パッシベーション層
9 ブラックマトリクス
11 ゲートライン
12 データライン
13 画素電極
14 共通電極
20 フォトレジスト
21 透明導電性薄膜
22 ブラックマトリクス金属薄膜
Claims (19)
- ベース基板と、
ベース基板上に形成され画素領域を限定するゲートライン及びデータラインと、
導電性材料により製造されるブラックマトリクスと、
を含む薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板であって、
それぞれの前記画素領域内には、画素電極と、薄膜トランジスタと、前記画素電極と共に多次元空間複合電場を形成する共通電極とが設置され、
前記ブラックマトリクスは前記共通電極と電気接続される
ことを特徴とする薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板。 - 前記薄膜トランジスタはゲート電極と、活性層と、ソース電極とドレイン電極とを含み、パッシベーション層は、ベース基板の全体を覆うように前記薄膜トランジスタ上に形成される、請求項1に記載された薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板。
- 前記共通電極は順次並べられた複数の電極ストリップを含み、前記パッシベーション層上に形成され、前記ブラックマトリクスは前記パッシベーション層と前記共通電極上に形成される請求項2に記載された薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板。
- 前記共通電極とブラックマトリクスは同一なパターニング加工工程により形成される請求項3に記載された薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板。
- 前記ブラックマトリクスは前記パッシベーション層上に形成され、前記共通電極は順次並べられた複数の電極ストリップを含み、前記ブラックマトリクス上に形成される請求項2記載の薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板。
- 前記ブラックマトリクスと共通電極はそれぞれのパターニング加工工程により形成される請求項5記載の薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板。
- 前記ブラックマトリクスは前記ゲートライン及び/あるいはデータラインの上方に位置する部分を含む請求項1記載の薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板。
- 前記ブラックマトリクスは前記薄膜トランジスタの上方に位置する部分を含む請求項7記載の薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板。
- 前記ブラックマトリクスの表面に防反射層が設置されている請求項7記載の薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板。
- 前記ブラックマトリクスは金属薄膜材料により製造される請求項1記載の薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板。
- 前記ブラックマトリクスはカーボンナノチューブ材料により製造される請求項1記載の薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板。
- ブラックマトリクスを構成する前記導電性材料の導電性は共通電極の導電性より強い請求項1記載の薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板。
- ベース基板上にゲートライン、データライン、画素電極と薄膜トランジスタを形成するステップ1と、
前記ステップ1を完了したベース基板上に共通電極とブラックマトリクスを形成し、前記ブラックマトリクスと前記共通電極を電気的に接続させるステップ2と、
を含む薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板製造方法。 - ベース基板上にゲートライン、データライン、画素電極と薄膜トランジスタを形成する工程は、
ベース基板上にゲート金属薄膜を堆積し、該ゲート金属薄膜をパターニングしゲートラインとゲート電極を形成するステップと、
ベース基板上にゲート絶縁層、半導体薄膜とドップされた半導体薄膜を順次堆積し、パターニング加工により薄膜トランジスタの活性層を形成するステップと、
ベース基板上に透明導電性薄膜を堆積し、該透明導電性薄膜をパターニングし画素電極を形成するステップと、
ベース基板上にソース・ドレイン金属薄膜を堆積し、該ソース・ドレイン金属薄膜をパターニングしデータラインとソース電極、ドレイン電極及びTFTチャネル領域を形成するステップとを含み、
前記活性層は半導体層とドップされた半導体層の積層を含み、ゲート絶縁層上に形成されゲート電極の上方に位置し、
前記ソース電極の一端は活性層上に位置し、他端はデータラインと接続され、前記ドレイン電極の一端は活性層上に位置し、他端は画素電極と直接接続され、前記ソース電極とドレイン電極の間にチャネル領域が形成される、
請求項13記載の薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板製造方法。 - 共通電極とブラックマトリクスを形成する工程は、
前記ステップ1が完了したベース基板上に、パッシベーション層と透明導電性薄膜を順次堆積し、該透明導電性薄膜をパターニングし、複数の電極ストリップを順次並べられた共通電極を形成ステップと、
共通電極が完成したベース基板上にブラックマトリクス導電性薄膜を堆積し、該ブラックマトリクス導電性薄膜をパターニングし共通電極と接続されるブラックマトリクスを形成するステップと、
を含む請求項13記載の薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板製造方法。 - 共通電極とブラックマトリクスを形成する工程は、
前記ステップ1が完了したベース基板上に、まずパッシベーション層を堆積し、その後透明導電性薄膜とブラックマトリクス導電性薄膜を順次堆積するステップと、
ブラックマトリクス導電性薄膜上に一層のフォトレジストを塗布するステップと、
ハーフトーンまたはグレートーンマスクを用いフォトレジストに露光を施し、露光後のフォトレジストは、ブラックマトリクスパターンが位置する領域に対応したフォトレジスト完全保留領域、共通電極パターンが位置する領域に対応したフォトレジスト一部保留領域、前記パターン以外の領域に対応したフォトレジスト完全除去領域、を形成するステップと、
第一回エッチングによりフォトレジスト完全除去領域のブラックマトリクス導電性薄膜と透明導電性薄膜をエッチングして除去し、ブラックマトリクスを形成するステップと、
アッシングによりフォトレジスト一部保留領域のフォトレジストを除去し、該領域のブラックマトリクス導電性薄膜を露出させるステップと、
第二回エッチングによりフォトレジスト一部保留領域のブラックマトリクス導電性薄膜を完全にエッチングにより除去し、共通電極を形成するステップと、
残留したフォトレジストを剥離するステップと、
を含む請求項13記載の薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板製造方法。 - 共通電極とブラックマトリクスを形成する工程は、
前記ステップ1が完了したベース基板上にパッシベーション層とブラックマトリクス導電性薄膜を堆積し、該ブラックマトリクス導電性薄膜をパターニングしブラックマトリクスを形成するステップと、
ブラックマトリクスが完成したベース基板上に透明導電性薄膜を堆積し、該透明導電性薄膜をパターニングし、複数の順次並べられた電極ストリップを含むとともにブラックマトリクスと電気接続される共通電極を形成するステップと、
を含む請求項13記載の薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板製造方法。 - 前記ブラックマトリクス導電性薄膜は、金属薄膜材料あるいはカーボンナノチューブ材料である請求項13記載の薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板製造方法。
- 前記ブラックマトリクスを構成する導電性薄膜材料の導電性は共通電極の導電性より強い請求項13記載の薄膜トランジスタ液晶ディスプレイアレイ基板製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2015090435A (ja) * | 2013-11-06 | 2015-05-11 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102707355A (zh) * | 2011-10-24 | 2012-10-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种半反半透彩色滤光片及其制作方法 |
US8749738B2 (en) | 2011-12-02 | 2014-06-10 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Liquid crystal panel and manufacturing method thereof, and liquid crystal display |
CN102495493A (zh) * | 2011-12-02 | 2012-06-13 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶面板的制作方法及液晶面板、液晶显示装置 |
KR101859483B1 (ko) | 2012-03-06 | 2018-06-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 입체 영상 표시 장치 및 그 제조 방법 |
CN102790012A (zh) | 2012-07-20 | 2012-11-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板的制造方法及阵列基板、显示装置 |
CN102967971B (zh) * | 2012-11-02 | 2015-09-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板以及显示装置 |
CN103985713B (zh) * | 2013-03-20 | 2017-02-08 | 上海天马微电子有限公司 | Tft阵列基板及其制造方法 |
US9575353B2 (en) | 2013-04-10 | 2017-02-21 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display |
CN103226272B (zh) | 2013-04-16 | 2015-07-22 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种阵列基板及其制备方法、显示装置 |
TWI687748B (zh) | 2013-06-05 | 2020-03-11 | 日商半導體能源研究所股份有限公司 | 顯示裝置及電子裝置 |
US10180700B2 (en) | 2013-07-01 | 2019-01-15 | Lg Display Co., Ltd. | Display device |
CN103474432B (zh) * | 2013-08-28 | 2016-01-06 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种阵列基板及其制备方法和显示装置 |
CN103472646B (zh) * | 2013-08-30 | 2016-08-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板及其制备方法和显示装置 |
CN103943637B (zh) * | 2014-04-10 | 2016-08-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板、其制作方法及显示装置 |
CN104269414B (zh) * | 2014-09-25 | 2018-03-09 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种阵列基板及其制作方法、显示装置 |
CN104360550A (zh) * | 2014-11-18 | 2015-02-18 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶显示器及其阵列基板 |
JP2016191892A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
CN104880879A (zh) | 2015-06-19 | 2015-09-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | Coa阵列基板及其制造方法、显示装置 |
CN105097943A (zh) * | 2015-06-24 | 2015-11-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置 |
CN105607337A (zh) * | 2016-03-15 | 2016-05-25 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种彩膜基板的制作方法以及彩膜基板、液晶显示面板 |
CN105895639A (zh) | 2016-06-29 | 2016-08-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制备方法、显示器件 |
CN105954919A (zh) * | 2016-07-11 | 2016-09-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 液晶显示面板及其制作方法以及显示装置 |
CN106066551A (zh) * | 2016-08-12 | 2016-11-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板及显示装置 |
US20190355836A1 (en) * | 2018-05-21 | 2019-11-21 | Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Manufacturing method for amorphous silicon tft substrate |
KR20210090309A (ko) * | 2020-01-09 | 2021-07-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 블랙 매트릭스 조성물 및 이를 포함하는 표시 장치 |
CN112981315A (zh) * | 2021-02-05 | 2021-06-18 | 惠州市聚飞光电有限公司 | 一种黑矩阵形成方法、显示模组及显示装置 |
US11740471B2 (en) | 2020-12-04 | 2023-08-29 | Meta Platforms Technologies, Llc | Display device with transparent illuminator |
CN114063355B (zh) | 2022-01-18 | 2022-05-10 | 惠科股份有限公司 | 一种阵列基板和显示面板 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002258262A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
JP2002296615A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-10-09 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
JP2003295207A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Nec Lcd Technologies Ltd | 横電界方式のアクティブマトリクス型液晶表示装置 |
JP2006189779A (ja) * | 2004-12-31 | 2006-07-20 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2006281189A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Mikuni Denshi Kk | インクジェット塗布溶液と乾燥方法 |
JP2007233317A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-09-13 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示素子 |
US20080001883A1 (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Liquid Crystal Display Device and Method for Fabricating the Same |
JP2008191669A (ja) * | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Boe Hydis Technology Co Ltd | フリンジフィールドスイッチングモード液晶表示装置 |
JP2010008758A (ja) * | 2008-06-27 | 2010-01-14 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶表示パネル |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3087841B2 (ja) * | 1996-10-29 | 2000-09-11 | 日本電気株式会社 | 広視野角液晶表示装置 |
JP3883244B2 (ja) * | 1997-01-23 | 2007-02-21 | エルジー フィリップス エルシーディー カンパニー リミテッド | 液晶表示装置 |
EP1255240B1 (en) * | 1997-02-17 | 2005-02-16 | Seiko Epson Corporation | Active matrix electroluminescent display with two TFTs and storage capacitor in each pixel |
JPH11337976A (ja) * | 1998-03-26 | 1999-12-10 | Toshiba Corp | 表示装置用アレイ基板及びこのアレイ基板を備えた平面表示装置 |
US6466281B1 (en) * | 1999-08-23 | 2002-10-15 | Industrial Technology Research Institute | Integrated black matrix/color filter structure for TFT-LCD |
TW575775B (en) | 2001-01-29 | 2004-02-11 | Hitachi Ltd | Liquid crystal display device |
JP3807550B2 (ja) * | 2002-10-21 | 2006-08-09 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | アクティブマトリクス型表示装置 |
KR100539623B1 (ko) * | 2003-06-25 | 2005-12-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 버텀 게이트형 폴리 실리콘 박막트랜지스터 소자의 제조방법 |
KR100930919B1 (ko) * | 2003-06-30 | 2009-12-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계형 액정표시장치 및 그 제조방법 |
US7612373B2 (en) * | 2004-06-30 | 2009-11-03 | Lg Display Co., Ltd. | Liquid crystal display device and method of manufacturing liquid crystal display device with color filter layer on thin film transistor |
CN100517033C (zh) | 2005-12-07 | 2009-07-22 | 群康科技(深圳)有限公司 | 液晶显示面板 |
KR101261608B1 (ko) * | 2006-04-26 | 2013-05-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법 |
JP5061505B2 (ja) | 2006-05-25 | 2012-10-31 | 日本電気株式会社 | 横電界方式のアクティブマトリクス型液晶表示装置 |
KR101182322B1 (ko) | 2006-06-30 | 2012-09-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | 수평 전계 인가형 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 |
CN101295090B (zh) * | 2007-04-27 | 2010-12-29 | 群康科技(深圳)有限公司 | 液晶显示装置 |
KR101427588B1 (ko) * | 2007-06-14 | 2014-08-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정조성물과 이를 포함하는 액정표시장치 |
CN101650526B (zh) * | 2008-08-13 | 2012-05-30 | 北京京东方光电科技有限公司 | 掩模板及其制造方法 |
TWI444758B (zh) * | 2009-06-19 | 2014-07-11 | Au Optronics Corp | 薄膜電晶體元件與用於定義薄膜電晶體元件之光罩及薄膜電晶體元件之製作方法 |
-
2011
- 2011-01-18 CN CN2011100202423A patent/CN102156368A/zh active Pending
- 2011-09-22 US US13/239,744 patent/US8692258B2/en active Active
- 2011-11-16 JP JP2011250536A patent/JP6030296B2/ja active Active
- 2011-11-16 KR KR1020110119470A patent/KR101390910B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002296615A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-10-09 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
JP2002258262A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
JP2003295207A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Nec Lcd Technologies Ltd | 横電界方式のアクティブマトリクス型液晶表示装置 |
JP2006189779A (ja) * | 2004-12-31 | 2006-07-20 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2006281189A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Mikuni Denshi Kk | インクジェット塗布溶液と乾燥方法 |
JP2007233317A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-09-13 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示素子 |
US20080001883A1 (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Liquid Crystal Display Device and Method for Fabricating the Same |
JP2008191669A (ja) * | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Boe Hydis Technology Co Ltd | フリンジフィールドスイッチングモード液晶表示装置 |
JP2010008758A (ja) * | 2008-06-27 | 2010-01-14 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶表示パネル |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015090435A (ja) * | 2013-11-06 | 2015-05-11 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
US9946131B2 (en) | 2013-11-06 | 2018-04-17 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device |
US10018886B1 (en) | 2013-11-06 | 2018-07-10 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8692258B2 (en) | 2014-04-08 |
CN102156368A (zh) | 2011-08-17 |
JP6030296B2 (ja) | 2016-11-24 |
KR20120083836A (ko) | 2012-07-26 |
KR101390910B1 (ko) | 2014-04-30 |
US20120181557A1 (en) | 2012-07-19 |
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