JP2012130826A - ナノ粒子の製造方法、ナノ粒子およびナノ粒子製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ナノ粒子の原料となる原料ガスおよび非反応性のプラズマ生成ガスの混合ガスをプラズマ生成手段(11)に供給しプラズマジェットを生成する工程と、冷却可能な壁面を備え、圧力調整可能な密封可能なチャンバー(14)の内部を非反応性雰囲気あるいは酸素ガスを含む雰囲気で満たし、プラズマジェットを噴出させ、急冷することによりナノ粒子を生成させる工程とを有することを特徴とするナノ粒子の製造方法。
【選択図】図1
Description
図1に示すように、本発明の一実施の形態に係るナノ粒子製造装置10は、ナノ粒子の原料となる原料ガスおよび非反応性のプラズマ生成ガスの供給を受けプラズマジェットを生成するプラズマトーチ(プラズマ生成手段の一例)11と、プラズマトーチ11に原料ガスを供給する原料ガス供給管(原料供給手段の一例)12と、プラズマトーチ11の下流側に接続され、冷却可能な壁面を備えた密封可能なチャンバー15とを有している。
図1に示すような構造を有するナノ粒子製造装置を用い、原料ガスとしてSiCl4、非反応性のプラズマ生成ガスとしてArを用い、両者の混合比を1:10(v/v)、供給圧力を4.2kgf/cm2(0.4118793MPa)、電源電圧30V、電流200Aの条件で実験を行った。このとき、ナノ粒子製造装置のチャンバー内は、0.8気圧のアルゴン雰囲気とし、製造された微粒子の大きさを制御するため、原料ガス圧を制御できるように真空ポンプとガスフローメーターを設置しておいた。コレクターはプラズマジェットの投影面を全てカバーするように位置および大きさを設定したが、プラズマジェットが直接到達しないように、プラズマトーチの先端から500mm以上の距離を置いて設置しておいた。
あらかじめチャンバー内の圧力を1.5気圧にしておくと平均粒径が100nmのSi微粒子が得られた。
プラズマ生成ガスとして用いるArに、酸素を混合し、プラズマ生成時のガス比がSiCl4:O2:Arを1:1:10(v/v/v)の割合になるように注入し、ナノ粒子製造装置内を0.8気圧の空気雰囲気とした以外は実施例1と同様の条件下で実験を行い、平均粒径が60nmのSiO2ナノ粒子が製造できることを確認した。
11 プラズマトーチ
11a 外側電極
11b 中心電極
12 原料ガス供給管
13 電源
14 チャンバー
15 コレクター
16 プラズマジェット
17 ナノ粒子
18 フィルター
19 排気管
20 真空ポンプ
21、21a 流量計
22、22a 圧力計
Claims (7)
- ナノ粒子の原料となる原料ガスおよび非反応性のプラズマ生成ガスの混合ガス、または原料ガス、酸素を含むガス、および非反応性のプラズマ生成ガスの混合ガスを用いてプラズマジェットを生成する工程と、
冷却可能な壁面を備え、かつ圧力調整が可能なチャンバーの内部を非反応性雰囲気あるいは酸素ガスを含む雰囲気で満たし、前記プラズマジェットを噴出させ、急冷することによりナノ粒子を生成させる工程とを有することを特徴とするナノ粒子の製造方法。 - 前記製造されるナノ粒子が、金属ナノ粒子および金属酸化物ナノ粒子のいずれかであることを特徴とする請求項1記載のナノ粒子の製造方法。
- 前記金属がケイ素(Si)であることを特徴とする請求項2記載のナノ粒子の製造方法。
- 前記原料ガスが、SiH2Cl3、SiHCl3およびSiCl4からなる群より選択される1または複数を含むことを特徴とする請求項3記載のナノ粒子の製造方法。
- 前記非反応性のプラズマ生成ガスが、ヘリウムまたはアルゴンのいずれかであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載のナノ粒子の製造方法。
- ナノ粒子の原料となる原料ガスおよび非反応性のプラズマ生成ガスの供給を受けプラズマジェットを生成するプラズマ生成手段と、
前記プラズマ生成手段に前記原料ガスや非反応性のプラズマ生成ガスを供給するガス供給手段と、
前記プラズマ生成手段の下流側に接続され、冷却可能な壁面を備え、かつ圧力調整が可能なチャンバーとを有することを特徴とするナノ粒子製造装置。 - 請求項1〜5のいずれか1項記載のナノ粒子の製造方法を用いて製造されたことを特徴とするナノ粒子。
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