JP2012130825A - ナノ粒子の製造方法、ナノ粒子およびナノ粒子製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】例えば、電磁波を透過する材料からなる中空状の反応器(11)と、その内部に原料ガスを供給する原料供給手段(15)と、反応器(11)中の原料ガスに高周波交番磁界を印加する高周波誘導コイル(12)とを備えた装置(10)を用い、反応器(11)内に導入した原料ガスに高周波交番磁界を印加またはマイクロ波を照射し、原料ガスを分解および/または反応させてナノ粒子を製造する。
【選択図】図1
Description
また、この場合において、前記原料ガスが、SiH2Cl3、SiHCl3およびSiCl4からなる群より選択される1または複数、またはこれらのいずれかと酸素(O2)との混合ガスのいずれかであることが好ましい。
図1に示すように、本発明の第一の実施の形態に係るナノ粒子製造装置10は、石英ガラス(電磁波を透過する材料の一例)からなる円筒状(中空状)の石英ガラス製反応器(以下、「反応器」と略称する場合がある。)11と、反応器11の内部に原料ガスを供給する原料ガス供給管(原料供給手段の一例)15と、反応器11の外側の原料ガス供給管の出口近傍に巻き回され、反応器11の内部に高周波交流磁場を印加するための高周波誘導コイル12と、マッチング回路16を介して高周波誘導コイル12に高周波電力を供給する高周波電源17とからなる高周波印加手段を備えている。また、ナノ粒子製造装置10は、反応器11および高周波誘導コイル12の外側を覆う様に配置され、高周波誘導コイル12より放射され、または原料ガスやプラズマ生成ガスに吸収されずに反応器11を透過してきた電磁波の少なくとも一部を反応器11に向けて反射する電磁波反射材13を備えた中空状のチャンバー14とをさらに有している。
ナノ粒子製造装置100は、石英ガラス(電磁波を透過する材料の一例)からなる円筒状(中空状)の石英ガラス製反応器(以下、「反応器」と略称する場合がある。)101と、反応器101の内部に原料ガスを供給する原料ガス供給管(原料供給手段の一例)104と、反応器101の内部にマイクロ波を照射し、誘電加熱(この場合は、プラズマにする必要はない。加熱だけでも良い。)するためのマグネトロン102(マイクロ波発生手段の一例)と、マイクロ波を反応器101の内部に照射するためのアンテナ103とを有している。
また、ナノ粒子製造装置100は、反応器101およびアンテナ103の外側を覆う様に配置され、アンテナ103より放射され、または原料ガスやプラズマ生成ガスに吸収されずに反応器101を透過してきた電磁波の少なくとも一部を反応器101に向けて反射する電磁波反射材104を備えた中空状のチャンバー105とをさらに有している。
図2に示したナノ粒子製造装置を用いて、トリクロロシランを原料ガス、アルゴンをプラズマ生成ガスとして用い、発生させたプラズマにより原料ガスを分解させてSiナノ粒子を製造した。
具体的には、排気ポンプとマスフローメーターを用いて、ガス圧を3mTorr程度に設定し、マグネトロンと高周波コイルを用いて前記ガスに直接高周波(2.45GHz、3KW/h)を印可して、プラズマを発生させ、20〜30nmの粒径のSi微粒子を製造できた。
バッチ式および連続式のいずれの場合にも、粒度分布の小さなSiナノ粒子を高純度で製造できた。なお、ガス圧を1〜10mTorrの範囲で任意に設定した場合には、それぞれ数ナノメートルから数十ナノメートルの粒径の異なるSiナノ粒子が得られた。
また、このとき、マイクロ波の照射パワーを1〜10KW/hの範囲で変動させると、Siナノ粒子の平均粒径や粒径分散をさらに制御できた。
このとき、原料ガスに酸素ガスを混合しておくと、SiO2(シリカ)ナノ粒子も製造できた。
原料ガスとしてトリクロロシランと酸素との混合ガスを用いた。マグネトロンで発生させた高周波マイクロ波を(2.45GHz、3KW/h)照射して原料ガスを加熱する以外は、実施例1と同様の条件下で実験操作を行い、同様のシリカ(SiO2)ナノ粒子を製造できた。
11、101 石英ガラス製反応器
12 高周波誘導コイル
13、104 電磁波反射材
14、105 チャンバー
15、106 原料ガス供給管
16 マッチング回路
17 高周波電源
18、107 コレクター
19、108 プラズマ
20、109 ナノ粒子
21、110 フィルター
22、111 排気管
23、112 真空ポンプ
24、24a、113、113a 流量計
25、25a、114、114a 圧力計
102 マグネトロン
103 アンテナ
Claims (9)
- 電磁波を透過する材料からなる中空状の反応器内に導入した原料ガスに高周波交番磁界を印加またはマイクロ波を照射し、原料ガスを分解および/または反応させてナノ粒子を製造することを特徴とするナノ粒子の製造方法。
- 前記製造されるナノ粒子が、金属ナノ粒子および金属酸化物ナノ粒子のいずれかであることを特徴とする請求項1記載のナノ粒子の製造方法。
- 前記金属がケイ素(Si)であることを特徴とする請求項4記載のナノ粒子の製造方法。
- 前記原料ガスが、SiH2Cl3、SiHCl3およびSiCl4からなる群より選択される1または複数、またはこれらのいずれかと酸素(O2)との混合ガスのいずれかであることを特徴とする請求項3記載のナノ粒子の製造方法。
- さらにプラズマ生成ガスとしてArまたはHeガスを前記原料ガスに添加することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載のナノ粒子の製造方法。
- 請求項1から5のいずれか1項記載のナノ粒子の製造方法を用いて製造されたことを特徴とするナノ粒子。
- 電磁波を透過する材料からなる中空状の反応器と、
前記反応器の内部に原料ガスを供給し、且つ圧力制御が可能な原料供給手段と、
前記反応器中の前記原料ガスに高周波交番磁界を印加する高周波印加手段とを備えたことを特徴とするナノ粒子製造装置。 - 電磁波を透過する材料からなる中空状の反応器と、
前記反応器の内部に原料ガスを供給し、且つ圧力制御が可能な原料供給手段と、
前記反応器中の前記原料ガスにマイクロ波を照射するマイクロ波照射手段とを備えたことを特徴とするナノ粒子製造装置。 - 前記反応器がガラス管であることを特徴とする請求項7または8記載のナノ粒子製造装置。
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