JP2012098397A5 - - Google Patents
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本発明の一側面としてのプログラムは、マスクのパターンの像を基板に投影する投影光学系を用いて前記基板を露光する露光装置に用いられる前記マスクのデータをコンピュータに作成させるプログラムであって、前記マスクのパターンとして、前記基板に形成すべき目標パターンを解像するためのメインパターンと前記メインパターンの解像を補助する補助パターンとを設定し、前記メインパターンのパラメータの値と、前記補助パターンのパラメータの値を設定する設定ステップと、該設定された前記メインパターンのパラメータおよび前記補助パターンのパラメータのそれぞれの値で定められる前記メインパターンおよび前記補助パターンを前記投影光学系を用いて投影した場合の前記メインパターンの像を計算する計算ステップと、該計算された前記メインパターンの像を評価する評価ステップとを有し、前記メインパターンのパラメータの値と前記補助パターンのパラメータの値とを変更して前記計算ステップ及び前記評価ステップを繰り返し行って得られる評価結果に基づいて、前記メインパターンのパラメータの値と前記補助パターンのパラメータの値を決定して、該決定されたメインパターン及び補助パターンを含むマスクのデータを作成することを特徴とする。
Claims (9)
- マスクのパターンの像を基板に投影する投影光学系を用いて前記基板を露光する露光装置に用いられる前記マスクのデータをコンピュータに作成させるプログラムであって、
前記マスクのパターンとして、前記基板に形成すべき目標パターンを解像するためのメインパターンと前記メインパターンの解像を補助する補助パターンとを設定し、前記メインパターンのパラメータの値と、前記補助パターンのパラメータの値を設定する設定ステップと、
該設定された前記メインパターンのパラメータおよび前記補助パターンのパラメータのそれぞれの値で定められる前記メインパターンおよび前記補助パターンを前記投影光学系を用いて投影した場合の前記メインパターンの像を計算する計算ステップと、
該計算された前記メインパターンの像を評価する評価ステップとを有し、
前記メインパターンのパラメータの値と前記補助パターンのパラメータの値とを変更して前記計算ステップ及び前記評価ステップを繰り返し行って得られる評価結果に基づいて、前記メインパターンのパラメータの値と前記補助パターンのパラメータの値を決定して、該決定されたメインパターン及び補助パターンを含むマスクのデータを作成することを特徴とするプログラム。 - 該計算された前記メインパターンの像の評価結果が目標を満たすかどうかを判定する判定ステップと、
前記判定ステップにおいて、評価結果が目標を満たさないと判定した場合は、前記メインパターンのパラメータの値と前記補助パターンのパラメータの値とを変更して前記計算ステップを実行し、
前記判定ステップにおいて、評価結果が目標を満たすと判定した場合は、その場合に設定された前記メインパターンのパラメータの値と前記補助パターンのパラメータの値で定められるメインパターン及び補助パターンを含むマスクのデータを作成することを特徴とする請求項１に記載のプログラム。 - 前記マスクを照明する照明光学系の瞳面の光強度分布のパラメータの値を設定するステップを有し、
前記計算ステップにおいて、該設定された前記メインパターンのパラメータおよび前記補助パターンのパラメータのそれぞれの値で定められる前記メインパターンおよび前記補助パターンを、該設定された前記照明光学系の瞳面の光強度分布で前記投影光学系を用いて投影した場合の前記メインパターンの像を計算し、
前記メインパターンのパラメータの値、前記補助パターンのパラメータの値および前記照明光学系の瞳面の光強度分布のパラメータの値を変更して前記計算ステップ及び前記評価ステップを行った結果に基づいて、前記メインパターンのパラメータの値、前記補助パターンのパラメータの値および前記照明光学系の瞳面の光強度分布のパラメータの値を決定して、該決定されたメインパターン及び補助パターンを含むマスクのデータを作成することを特徴とする請求項１に記載のプログラム。 - マスクのパターンの像を基板に投影する投影光学系を用いて前記基板を露光する露光装置に用いられる前記マスクのデータおよび露光条件をコンピュータに決定させるプログラムであって、
前記マスクのパターンとして、前記基板に形成すべき目標パターンを解像するためのメインパターンと前記メインパターンの解像を補助する補助パターンとを設定し、前記メインパターンのパラメータの値と、前記補助パターンのパラメータの値を設定する設定ステップと、
前記マスクを照明する照明光学系の瞳面の光強度分布のパラメータの値を設定するステップと、
該設定された前記メインパターンのパラメータおよび前記補助パターンのパラメータのそれぞれの値で定められる前記メインパターンおよび前記補助パターンを、該設定された前記照明光学系の瞳面の光強度分布で前記投影光学系を用いて投影した場合の前記メインパターンの像を計算する計算ステップと、
該計算された前記メインパターンの像を評価する評価ステップとを有し、
前記メインパターンのパラメータの値、前記補助パターンのパラメータの値および前記照明光学系の瞳面の光強度分布のパラメータの値を変更して前記計算ステップ及び前記評価ステップを繰り返し行って得られる評価結果に基づいて、前記メインパターンのパラメータの値、前記補助パターンのパラメータの値および前記照明光学系の瞳面の光強度分布のパラメータの値を決定することを特徴とするプログラム。 - 前記メインパターンは多角形の形状であり、前記メインパターンのパラメータは前記多角形に関するパラメータであることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載のプログラム。
- 前記補助パターンは多角形の形状であり、前記補助パターンのパラメータは前記多角形に関するパラメータであることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載のプログラム。
- 請求項１に記載のプログラムをコンピュータに実行させることによりマスクのデータを作成するステップと、
該作成されたマスクのデータを用いてマスクを製造するステップとを有することを特徴とするマスク製造方法。 - 請求項７に記載のマスク製造方法を用いてマスクを製造するステップと、
該製造されたマスクのパターンの像を基板に投影して前記基板を露光するステップとを有することを特徴とする露光方法。 - 請求項８に記載の露光方法を用いて基板を露光するステップと、
該露光された基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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