JP2012086291A - 切削砥石 - Google Patents

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Abstract

【課題】 サファイアウエーハのような硬質脆性材料であっても欠けを生じさせること無く切削可能な切削砥石を提供することである。
【解決手段】 ホウ素をドープしたダイアモンド砥粒を含有した切削砥石。切削砥石は、電鋳砥石、レジンボンド砥石、メタルボンド砥石、ビトリファイドボンド砥石の何れかから構成される。
【選択図】図7

Description

本発明は、硬質脆性材料を切削するのに適した切削砥石に関する。
短波長の青色や紫外線を発光するレーザダイオード(LD)や発光ダイオード(LED)等の発光デバイスは、例えばサファイアウエーハ上に窒化ガリウム(GaN)のエピタキシャル層を成長させることにより製造されている。
サファイアウエーハは、モース硬度が比較的高く切削ブレードによる分割が困難であることから、レーザビームの照射によって個々の発光デバイスに分割され、分割された発光デバイスは携帯電話、パソコン等の電気機器に広く利用されている。
レーザビームを用いてサファイアウエーハを個々の発光デバイスに分割する方法として、以下に説明する第1及び第2の加工方法が知られている。第1の加工方法は、サファイアウエーハに対してアブレーション加工を施す波長(例えば355nm)のレーザビームを分割予定ラインに対応する領域に照射してアブレーション加工により分割溝を形成し、その後外力を付与してサファイアウエーハを個々の発光デバイスに分割する方法である(例えば、特開平10−305420号公報参照)。
第2の加工方法は、サファイアウエーハに対して透過性を有する波長(例えば1064nm)のレーザビームの集光点を分割予定ラインに対応するウエーハの内部に位置づけて、レーザビームを分割予定ラインに沿って照射してウエーハ内部に変質層を形成し、その後外力を付与してサファイアウエーハを個々の発光デバイスに分割する方法である(例えば、特許第3408805号公報参照)。
特開平10−305420号公報 特許第3408805号公報
しかし、上述した第1及び第2の加工方法を遂行するレーザ加工装置は切削装置に比べて非常に高額であり、経費を圧迫するという問題がある。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、サファイアウエーハのような硬質脆性材料であっても欠けを生じさせることなく切削可能な切削砥石を提供することである。
本発明によると、被加工物を切削する切削砥石であって、ホウ素をドープしたダイアモンド砥粒によって構成したことを特徴とする切削砥石が提供される。
好ましくは、切削砥石は、ホウ素をドープしたダイアモンド砥粒をニッケルメッキで固定した電鋳砥石から構成される。或いは、切削砥石は、ホウ素をドープしたダイアモンド砥粒をレジンボンド、ビトリファイドボンド、メタルボンドの何れかに混錬して焼結した焼結砥石から構成される。
本発明は、ホウ素をドープしたダイアモンド砥粒によって切削砥石を構成したので、サファイアウエーハ、炭化シリコンウエーハ、合成石英板等の硬質脆性材料を切削すると、ホウ素をドープしたダイアモンド砥粒の潤滑性と耐熱性によって衝撃力が緩和されるとともに、砥粒の磨耗が抑制され、切削溝の表面及び裏面に欠けを生じることなく良好に切削することができる。
本発明の切削砥石を採用可能な切削装置の外観斜視図である。 スピンドルの先端部とスピンドルに固定されるべきブレードマウントとの関係を示す分解斜視図である。 スピンドルの先端に固定されたブレードマウントとブレードマウントに装着されるべきハブブレードとの関係を示す分解斜視図である。 ハブブレードがスピンドルに装着された状態の斜視図である。 スピンドルに固定されたブレードマウントとブレードマウントに装着されるべきリング状切削ブレードとの関係を示す分解斜視図である。 切削ユニットの斜視図である。 図7(A)は本発明第1実施形態の電鋳砥石で切削したサファイアウエーハの顕微鏡写真、図7(B)は従来の電鋳砥石で切削したサファイアウエーハの顕微鏡写真である。 図8(A)は本発明第2実施形態のレジンボンド砥石で切削したサファイアウエーハの顕微鏡写真、図8(B)は従来のレジンボンド砥石で切削したサファイアウエーハの顕微鏡写真である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の切削砥石を装着してサファイアウエーハをダイシングして個々のチップ(発光デバイス)に分割することのできる切削装置2の外観を示している。
切削装置2の前面側には、オペレータが加工条件等の装置に対する指示を入力するための操作手段4が設けられている。装置上部には、オペレータに対する案内画面や後述する撮像手段によって撮像された画像が表示されるCRT等の表示手段6が設けられている。
ダイシング対象のサファイアウエーハの表面においては、よく知られているように複数の分割予定ラインが格子状に形成されており、分割予定ラインによって区画された領域にLED、LD等の発光デバイスが形成されている。
ウエーハWは粘着テープであるダイシングテープTに貼着され、ダイシングテープTの外周縁部は環状フレームFに貼着されている。これにより、ウエーハWはダイシングテープTを介してフレームFに支持された状態となり、図1に示したウエーハカセット8中にウエーハが複数枚(例えば25枚)収容される。ウエーハカセット8は上下動可能なカセットエレベータ9上に載置される。
ウエーハカセット8の後方には、ウエーハカセット8から切削前のウエーハWを搬出するとともに、切削後のウエーハをウエーハカセット8に搬入する搬出入手段10が配設されている。ウエーハカセット8と搬出入手段10との間には、搬出入対象のウエーハが一時的に載置される領域である仮置き領域12が設けられており、仮置き領域12には、ウエーハWを一定の位置に位置合わせする位置合わせ手段14が配設されている。
仮置き領域12の近傍には、ウエーハWと一体となったフレームFを吸着して搬送する旋回アームを有する搬送手段16が配設されており、仮置き領域12に搬出されたウエーハWは、搬送手段16により吸着されてチャックテーブル18上に搬送され、このチャックテーブル18に吸引されるとともに、複数のクランプ19によりフレームFがクランプされることでチャックテーブル18上に保持される。
チャックテーブル18は、回転可能且つX軸方向に往復動可能に構成されており、チャックテーブル18のX軸方向の移動経路の上方には、ウエーハWの切削すべき分割予定ラインを検出するアライメント手段20が配設されている。
アライメント手段20は、ウエーハWの表面を撮像する撮像手段22を備えており、撮像により取得した画像に基づき、パターンマッチング等の処理によって切削すべき分割予定ラインを検出することができる。撮像手段22によって取得された画像は、表示手段6に表示される。
アライメント手段20の左側には、チャックテーブル18に保持されたウエーハWに対して切削加工を施す切削ユニット24が配設されている。切削ユニット24はアライメント手段20と一体的に構成されており、両者が連動してY軸方向及びZ軸方向に移動する。
切削ユニット24は、回転可能なスピンドル26の先端に切削ブレード28が装着されて構成され、Y軸方向及びZ軸方向に移動可能となっている。切削ブレード28は撮像手段22のX軸方向の延長線上に位置している。
図2を参照すると、スピンドルと、スピンドルに装着されるブレードマウントとの関係を示す分解斜視図が示されている。スピンドルユニット30のスピンドルハウジング32中には、図示しないサーボモータにより回転駆動されるスピンドル26が回転可能に収容されている。スピンドル26はテーパ部26a及び先端小径部26bを有しており、先端小径部26bには雄ねじ34が形成されている。
36はボス部(凸部)38と、ボス部38と一体的に形成された固定フランジ40とから構成されるブレードマウントであり、ボス部38には雄ねじ42が形成されている。さらに、ブレードマウント36は装着穴43を有している。
ブレードマウント36は、装着穴43をスピンドル26の先端小径部26b及びテーパ部26aに挿入して、ナット44を雄ねじ34に螺合して締め付けることにより、図3に示すようにスピンドル26の先端部に取り付けられる。
図3はブレードマウント36が固定されたスピンドル26と、切削ブレード28との装着関係を示す分解斜視図である。切削ブレード28はハブブレードと呼ばれ、円形ハブ48を有する円形基台46の外周にニッケル母材中にホウ素(B)をドープしたダイアモンド砥粒が分散された切削砥石(切刃)50が電着されて構成されている。
ホウ素をドープしたダイアモンド砥粒は、例えば特表2006−502955号に開示されたような粉末セル方法により製造される。この粉末セル方法では、グラファイトと、触媒又は溶媒金属と、任意のダイアモンド種結晶と、ホウ素源とで十分高密度な混合物を形成する。この混合物をダイアモンドを製造するのに十分高温高圧な雰囲気中で所定時間保持し、ダイアモンド構造中の炭素原子をホウ素で置換してホウ素をドープしたダイアモンド砥粒を製造することができる。
切削ブレード28の装着穴52をブレードマウント36のボス部38に挿入し、固定ナット54をボス部38の雄ねじ42に螺合して締め付けることにより、図4に示すように切削ブレード28がスピンドル26に取り付けられる。
図5を参照すると、リング状またはワッシャー状の切削ブレード56をスピンドル26に装着する様子を示す分解斜視図が示されている。切削ブレード56はホウ素をドープしたダイアモンド砥粒をレジンボンドに混錬して焼結した焼結砥石から構成されている。
レジンボンドは、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等から構成される。本実施形態では、レジンボンドとしてフェノール樹脂を使用し、ホウ素をドープしたダイアモンド砥粒をフェノール樹脂に混錬してワッシャーブレード形状に成形し、焼結温度180℃〜200℃で7乃至8時間焼結して全体が焼結砥石からなる切削ブレード56を製造した。
焼結砥石はレジンボンド焼結砥石に限定されるものではなく、メタルボンド焼結砥石又はビトリファイドボンド焼結砥石も採用可能である。メタルボンド焼結砥石は、ホウ素をドープしたダイアモンド砥粒をメタルボンドに混錬してワッシャーブレード形状に成形し、焼結温度600℃〜700℃で約1時間焼結して形成する。ここで、メタルボンドとしては、銅と錫合金であるブロンズを主成分とし、コバルト、ニッケル等を微量混入したものを採用するのが好ましい。
ビトリファイドボンド焼結砥石は、ホウ素をドープしたダイアモンド砥粒をビトリファイドボンド中に混錬してワッシャーブレード形状に成形し、焼結温度700℃〜800℃で約1時間焼結して形成する。ここで、ビトリファイドボンドとしては、二酸化珪素(SiO)を主成分とし、長石等を僅かに混入したものを採用するのが好ましい。
ブレードマウント36のボス部38に切削ブレード56を挿入し、さらに着脱フランジ58をボス部38に挿入して、固定ナット54を雄ねじ42に螺合して締め付けることにより、切削ブレード56は固定フランジ40と着脱フランジ58により両側から挟まれてスピンドル26に取り付けられる。
図6を参照すると、切削ブレードとして第1実施形態のハブブレード28を採用した切削ユニット24の拡大斜視図が示されている。60は切削ブレード28をカバーするブレードカバーであり、このブレードカバー60には切削ブレード28の側面に沿って伸長する図示しない切削水ノズルが取り付けられている。切削水が、パイプ72を介して図示しない切削水ノズルに供給される。
62は着脱カバーであり、ねじ64によりブレードカバー60に取り付けられる。着脱カバー62は、ブレードカバー60に取り付けられた際、切削ブレード28の側面に沿って伸長する切削水ノズル70を有している。切削水は、パイプ74を介して切削水ノズル70に供給される。
66はブレード検出ブロックであり、ねじ68によりブレードカバー60に取り付けられる。ブレード検出ブロック66には発光部及び受光部からなる図示しないブレードセンサが取り付けられており、このブレードセンサにより切削ブレード28の切削砥石50の状態を検出する。
ブレードセンサにより切削砥石50の欠け等を検出した場合には、切削ブレード28を新たな切削ブレードに交換する。76はブレードセンサの位置を調整するための調整ねじである。
ホウ素をドープした平均粒径5μmのダイアモンド砥粒を混入したニッケルメッキ液を作成した。このニッケルメッキ液中で図3に示したようなハブブレードの外周を電気鋳造し、平均粒径5μmのホウ素をドープしたダイアモンド砥粒を体積比で15〜20%含有した厚さ30μmの電鋳砥石を製造した。
この電鋳砥石を有するハブブレード28をスピンドル26に装着し、スピンドル回転数10000rpm、切り込み深さ30μm、送り速度10mm/秒で厚さ100μmのサファイアウエーハを切削した。
切削後の2本の切削溝が形成されたサファイアウエーハを表面側から見た状態の顕微鏡写真が図7(A)に示されている。倍率は200倍である。この図から明らかなように、切削溝の両側に欠けは殆ど発生しなかった。
また、電鋳砥石の磨耗量は2.5μm/(1m当たり)であり、磨耗量が従来の電鋳砥石に比べて1/2に低減していることが判明した。更に、この電鋳砥石を有するハブブレード28では、切削開始から約15秒で負荷電流値が安定した。
(比較例1)
平均粒径5μmのダイアモンド砥粒を混入してニッケルメッキ液を作成した。このニッケルメッキ液中でハブブレードの外周を電気鋳造し、平均粒径5μmのダイアモンド砥粒を体積比で15〜20%含有した厚さ30μmの電鋳砥石を有するハブブレード28を製造した。
このハブブレードをスピンドル26の先端に装着し、実施例1と同一条件でサファイアウエーハの切削を行った。切削後の2本の切削溝が形成されたサファイアウエーハを表面側から見た状態の顕微鏡写真が図7(B)に示されている。倍率は200倍である。
この図から明らかなように、切削溝の両側に比較的大きい欠けが数多く発生しており、この電鋳砥石を外周に有する切削ブレードはサファイアウエーハの切削に適していないことが判明した。
この電鋳砥石の磨耗量は5.5μm/(1m当たり)であり、実施例1の電鋳砥石の磨耗に比べて約2倍の速さで磨耗することが判明した。また、この従来の電鋳砥石による切削においては、負荷電流値が中々安定せず、安定するまで長時間を要した。
フェノール樹脂からなるレジンボンドに平均粒径5μmのホウ素をドープしたダイアモンド砥粒を体積比で10〜20%と平均粒径1μmのSiC粒子をフィラーとして体積比で35〜25%混入しワッシャー形状に成形した。この成形体を180℃の焼結温度で約8時間焼結して厚さ200μmのワッシャー状レジンボンド砥石を製造した。
このレジンボンド砥石をスピンドルに装着して、スピンドル回転数20000rpm、切り込み深さ1080μm、送り速度15mm/秒で厚さ1000μmの合成石英基板を切削した。切削後の合成石英基板を裏面から撮影した状態の顕微鏡写真が図8(A)に示されている。倍率は200倍である。図8(A)に示す裏面側のみならず表面側にも欠けが殆ど発生しないことが確認された。
このレジンボンド砥石の磨耗量は3μm/(1m当たり)であり、従来のレジンボンド砥石に比べて磨耗量が約1/2に低減していることが判明した。また、このレジンボンド砥石を有する切削ブレードによると、切削開始から約10秒で負荷電流値が安定した。
ブロンズを主成分とし、コバルト及びニッケルを僅かに混入したメタルボンドに平均粒径5μmのホウ素をドープしたダイアモンド砥粒を体積比で10〜20%と平均粒径1μmのSiC粒子をフィラーとして体積比で35〜25%混入しワッシャー形状に成形した。
この成形体を700℃の焼結温度で約1時間焼結して厚さ200μmのワッシャー形状のメタルボンド砥石を製造した。このメタルボンド砥石をスピンドルに装着して、実施例2と同一条件で合成石英基板を切削したところ、合成石英基板の表面側及び裏面側に欠けが殆ど発生しないことを確認した。
このメタルボンド砥石の磨耗量は2.5μm/(1m当たり)であり、従来のメタルボンド砥石に比べて磨耗量が約1/2に低減していることが判明した。また、このメタルボンド砥石を有する切削ブレードによると、切削開始から約10秒で負荷電流値が安定した。
二酸化珪素を主成分とし、長石を僅かに混入したビトリファイドボンドに平均粒径5μmのホウ素をドープしたダイアモンド砥粒を体積比で10〜20%と平均粒径1μmのSiC粒子をフィラーとして体積比で35〜25%混入しワッシャー形状に成形した。
この成形体を700℃の焼結温度で約1時間焼結して厚さ200μmのワッシャー形状のビトリファイドボンド砥石を製造した。このメタルボンド砥石をスピンドルに装着して、実施例2と同一条件で合成石英基板を切削したところ、合成石英基板の表面側及び裏面側に欠けが殆ど発生しないことを確認した。
このビトリファイドボンド砥石の磨耗量は3μm/(1m当たり)であり、従来のビトリファイドボンド砥石に比べて磨耗量が約1/2に低減していることが判明した。また、このビトリファイドボンド砥石を有する切削ブレードによると、切削開始から約10秒で負荷電流値が安定した。
(比較例2)
フェノール樹脂から形成されたレジンボンドに平均粒径5μmのダイアモンド砥粒を体積比で10〜20%と平均粒径1μmのSiC粒子をフィラーとして体積比で35〜25%混入しワッシャー形状に成形した。
この成形体を180℃の焼結温度で約8時間焼結して厚さ200μmのレジンボンド砥石を製造した。このレジンボンド砥石をスピンドルに装着して、実施例2と同一条件で合成石英基板を切削した。
切削後の合成石英基板の裏面側の顕微鏡斜視図が図8(B)に示されている。倍率は100倍である。この図から明らかなように、合成石英基板の裏面側に比較的大きい欠けが数多く発生しており、従来のレジンボンド砥石が合成石英基板の切削に適していないことが判明した。
従来のレジンボンド砥石の磨耗量は6.5μm/(1m当たり)であり、実施例2のレジンボンド砥石に比べてその磨耗が約2倍の速さで進行することが確認された。また、このレジンボンド砥石を有する切削ブレードによると、切削開始から負荷電流値が中々安定せず、安定するまで長時間を要した。
2 切削装置
18 チャックテーブル
24 切削ユニット
26 スピンドル
28 切削ブレード
50 電鋳砥石
56 ワッシャー状レジンボンド砥石

Claims (3)

  1. 被加工物を切削する切削砥石であって、
    ホウ素をドープしたダイアモンド砥粒によって構成したことを特徴とする切削砥石。
  2. 切削砥石は、ホウ素をドープしたダイアモンド砥粒をニッケルメッキで固定した電鋳砥石から構成される請求項1記載の切削砥石。
  3. 切削砥石は、ホウ素をドープしたダイアモンド砥粒をレジンボンド、ビトリファイドボンド、メタルボンドの何れかに混錬して焼結した焼結砥石から構成される請求項1記載の切削砥石。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015029987A1 (ja) * 2013-08-26 2015-03-05 株式会社東京精密 ダイシングブレード
WO2015029988A1 (ja) * 2013-08-26 2015-03-05 株式会社東京精密 ダイシング装置及びダイシング方法
JP2017226057A (ja) * 2016-06-24 2017-12-28 株式会社ディスコ 切削砥石
WO2022197132A1 (ko) * 2021-03-17 2022-09-22 이화다이아몬드공업주식회사 다이아몬드 디스크 및 그 제조 방법

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6564624B2 (ja) * 2015-06-10 2019-08-21 株式会社ディスコ 研削砥石
JP6549927B2 (ja) * 2015-07-24 2019-07-24 株式会社ディスコ ホウ素化合物を添加した切削砥石
JP2017047502A (ja) * 2015-09-02 2017-03-09 株式会社ディスコ 切削砥石
JP7408232B2 (ja) * 2019-06-11 2024-01-05 株式会社ディスコ 環状の砥石の製造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10151569A (ja) * 1996-11-25 1998-06-09 Osaka Diamond Ind Co Ltd 超砥粒砥石及びその製造方法
JP2001009729A (ja) * 1999-06-25 2001-01-16 Osaka Diamond Ind Co Ltd 超砥粒切断ホイール
JP2001252876A (ja) * 2000-03-10 2001-09-18 Allied Material Corp 粉末高速度工具鋼を基板とした超砥粒切断ホイール
JP2002331464A (ja) * 2001-05-09 2002-11-19 Disco Abrasive Syst Ltd 切削ブレード
JP2006502955A (ja) * 2002-10-16 2006-01-26 ダイヤモンド イノベーションズ、インク. ホウ素をドープしたブルー・ダイヤモンド及びその製造

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10151569A (ja) * 1996-11-25 1998-06-09 Osaka Diamond Ind Co Ltd 超砥粒砥石及びその製造方法
JP2001009729A (ja) * 1999-06-25 2001-01-16 Osaka Diamond Ind Co Ltd 超砥粒切断ホイール
JP2001252876A (ja) * 2000-03-10 2001-09-18 Allied Material Corp 粉末高速度工具鋼を基板とした超砥粒切断ホイール
JP2002331464A (ja) * 2001-05-09 2002-11-19 Disco Abrasive Syst Ltd 切削ブレード
JP2006502955A (ja) * 2002-10-16 2006-01-26 ダイヤモンド イノベーションズ、インク. ホウ素をドープしたブルー・ダイヤモンド及びその製造

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015029987A1 (ja) * 2013-08-26 2015-03-05 株式会社東京精密 ダイシングブレード
WO2015029988A1 (ja) * 2013-08-26 2015-03-05 株式会社東京精密 ダイシング装置及びダイシング方法
JP6039084B2 (ja) * 2013-08-26 2016-12-07 株式会社東京精密 ダイシング装置及びダイシング方法
JP2017226057A (ja) * 2016-06-24 2017-12-28 株式会社ディスコ 切削砥石
WO2022197132A1 (ko) * 2021-03-17 2022-09-22 이화다이아몬드공업주식회사 다이아몬드 디스크 및 그 제조 방법

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