JP5362479B2 - ウエーハの研削装置 - Google Patents
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- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 claims abstract description 13
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
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- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
10 研削ユニット
11 サファイアウエーハ
22 研削ホイール
26 研削砥石
36 チャックテーブル
56 吸引体
58a 平坦保持面
58b 傾斜保持面
60 円形溝
Claims (2)
- 外周部が環状フレームに装着された粘着テープに貼着されたウエーハを保持し回転可能なチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを研削する研削砥石を有する研削ホイールを回転可能に支持する研削手段とを備えたウエーハの研削装置であって、
該チャックテーブルは、該粘着テープ上のウエーハを吸引保持する平坦保持面と該平坦保持面に連続して該平坦保持面の外周側に形成された外周側が下方に傾斜する傾斜保持面とを有する吸引体と、該吸引体の該平坦保持面及び傾斜保持面を除いた外周を囲繞するとともに両保持面の反対面を支持する底部を有する枠体とを含み、
該吸引体は該枠体に形成された該吸引路を介して吸引源に連通されており、
該枠体は該環状フレームを固定するフレーム固定部を有し、
該吸引体の該傾斜保持面には同心状の複数の円形溝が形成されていることを特徴とするウエーハの研削装置。 - ウエーハはサファイアウエーハから構成される請求項1記載のウエーハの研削装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009190078A JP5362479B2 (ja) | 2009-08-19 | 2009-08-19 | ウエーハの研削装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009190078A JP5362479B2 (ja) | 2009-08-19 | 2009-08-19 | ウエーハの研削装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011044474A JP2011044474A (ja) | 2011-03-03 |
JP5362479B2 true JP5362479B2 (ja) | 2013-12-11 |
Family
ID=43831708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009190078A Active JP5362479B2 (ja) | 2009-08-19 | 2009-08-19 | ウエーハの研削装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5362479B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6879807B2 (ja) * | 2017-04-07 | 2021-06-02 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
CN111926305B (zh) * | 2020-08-12 | 2024-10-11 | 厦门乾照半导体科技有限公司 | 一种用于led晶圆制程的载盘 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60142036U (ja) * | 1984-02-29 | 1985-09-20 | オムロン株式会社 | ウエハチヤツクプレ−ト |
JP3325650B2 (ja) * | 1993-04-15 | 2002-09-17 | 株式会社ディスコ | ウェーハの研磨方法 |
JP2538511B2 (ja) * | 1993-09-21 | 1996-09-25 | 住友シチックス株式会社 | 半導体基板の研磨用保持板 |
-
2009
- 2009-08-19 JP JP2009190078A patent/JP5362479B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011044474A (ja) | 2011-03-03 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120717 |
|
A977 | Report on retrieval |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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