JP2018062051A - 加工方法 - Google Patents

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【課題】砥石工具の自生発刃を促進させながら被加工物を加工できる新たな加工方法を提供する。【解決手段】砥石工具10を含む加工手段で被加工物11を加工する加工方法であって、被加工物11を保持テーブル4で保持する保持ステップと、加工手段に砥石工具10の自生発刃を促進させる自生発刃促進液を供給して砥石工具10の自生発刃を促進させながら被加工物11を加工する加工ステップとを含む。また、前記自生発刃促進液は、純水に二酸化炭素を混入させてなるpHが6未満の液体であり、前記砥石工具10は、砥粒と結合材とを含み、前記結合材には、鉄、コバルト、ニッケル、錫のいずれかを含むことを特徴とする。【選択図】図1

Description

本発明は、切削ブレードや研削ホイール等の砥石工具を用いて被加工物を加工する際に適用される加工方法に関する。
半導体ウェーハに代表される被加工物を加工する際には、例えば、切削ブレードや研削ホイール等の砥石工具を備える加工装置が使用される。砥石工具は、ダイヤモンドやCBN(Cubic Boron Nitride)等の砥粒を、ガラスや樹脂、金属等の結合材で固定して形成され、加工の進行に伴い古い砥粒が脱落して新たな砥粒が表出する自生発刃によって、その性能が維持される。
一方で、被加工物や砥石工具の種類、加工の条件等によっては、上述した自生発刃が十分に進まないこともある。その場合には、例えば、アルミナ(Al)や炭化ケイ素(SiC)等の砥粒でなるドレス材を含むドレスボード(ドレッシングボード)で砥石工具をドレッシングし、新たな砥粒を表出させていた。
近年では、被加工物を加工しながら砥石工具の自生発刃を促進させる方法も検討されている。例えば、被加工物に貼付されるダイシングテープにドレス材を含ませたり、ドレス材が混合された樹脂リングを被加工物の周囲に配置したりすることで、被加工物を加工しながら砥石工具の自生発刃を促進させることができる(例えば、特許文献1及び特許文献2参照)。
特開平8−88202号公報 特開2011−140100号公報
しかしながら、例えば、ダイシングテープにドレス材を含ませる方法では、このダイシングテープに対して切削ブレード等の砥石工具を切り込ませない限り自生発刃を促進させることができない。また、そもそもダイシングテープを用いない場合には、この方法を適用できなかった。
一方で、ドレス材が混合された樹脂リングを被加工物の周囲に配置する方法では、被加工物を支持するチャックテーブルや、研削ホイール等の砥石工具を、樹脂リングに合わせて大型化しなくてはならない。更に、各被加工物に対して樹脂リングを配置するのに手間がかかるという問題もあった。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、砥石工具の自生発刃を促進させながら被加工物を加工できる新たな加工方法を提供することである。
本発明の一態様によれば、砥石工具を含む加工手段で被加工物を加工する加工方法であって、被加工物を保持テーブルで保持する保持ステップと、該加工手段に該砥石工具の自生発刃を促進させる自生発刃促進液を供給して該砥石工具の自生発刃を促進させながら被加工物を加工する加工ステップと、を備えることを特徴とする加工方法が提供される。
本発明の一態様において、該自生発刃促進液は、純水に二酸化炭素を混入させてなるpHが6未満の液体であり、該砥石工具は、砥粒と該砥粒を結合する結合材とを含み、該結合材は、鉄、コバルト、ニッケル、錫のいずれかを含むことが好ましい。
本発明の一態様に係る加工方法では、加工手段に砥石工具の自生発刃を促進させる自生発刃促進液を供給しながら被加工物を加工するので、砥石工具の自生発刃を促進させながら被加工物を加工できる。
第1実施形態に係る切削方法(加工方法)を説明するための図である。 第2実施形態に係る研削方法(加工方法)を説明するための図である。
添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。なお、以下の第1実施形態では、切削ブレード(砥石工具)を用いて被加工物を切削(加工)する切削方法(加工方法)の例について説明し、第2実施形態では、研削ホイール(砥石工具)を用いて被加工物を研削(加工)する研削方法(加工方法)の例について説明する。ただし、本発明は、任意の砥石工具を用いる他の加工方法にも適用できる。
(第1実施形態)
本実施形態では、切削ブレード(砥石工具)を用いて被加工物を切削(加工)する切削方法(加工方法)の例について説明する。図1は、本実施形態に係る切削方法を説明するための図である。
本実施形態の切削方法で切削される被加工物11は、例えば、シリコン(Si)等の半導体材料を用いて構成される円盤状のウェーハである。この被加工物11の表面側は、格子状に設定された加工予定ライン(ストリート)で複数の領域に区画されており、各領域には、IC、LSI等のデバイスが形成されている。
本実施形態では、この被加工物11の表面又は裏面に、被加工物11よりも径の大きい円形のダイシングテープ21を貼付し、ダイシングテープ21の外周部分に、環状のフレーム23を固定する。これにより、被加工物11は、ダイシングテープ21を介して環状のフレーム23に支持される。
なお、本実施形態では、シリコン等の半導体材料でなる円盤状のウェーハを被加工物11として用いるが、被加工物11の材質、形状、大きさ、構造等に制限はない。例えば、セラミックス、樹脂、金属等の材料でなる基板を被加工物11として用いることもできる。同様に、デバイスの種類、数量、大きさ、配置等にも制限はない。
本実施形態に係る切削方法では、この板状の被加工物11を、図1に示す切削装置(加工装置)2を用いて切削する。切削装置2は、被加工物11を吸引、保持するためのチャックテーブル(保持テーブル)4を備えている。チャックテーブル4は、モータ等の回転駆動源(不図示)に連結されており、鉛直方向に概ね平行な回転軸の周りに回転する。また、チャックテーブル4の下方には、加工送り機構(不図示)が設けられており、チャックテーブル4は、この加工送り機構によって加工送り方向(水平方向)に移動する。
チャックテーブル4の上面の一部は、被加工物11の下面側を吸引、保持する保持面4aとなっている。保持面4aは、チャックテーブル4の内部に形成された吸引路4b等を通じて吸引源(不図示)に接続されている。吸引源の負圧を保持面4aに作用させることで、被加工物11は、チャックテーブル4に吸引、保持される。チャックテーブル4の周囲には、環状のフレーム23を固定するための複数のクランプ6が設けられている。
チャックテーブル4及びクランプ6の上方には、被加工物11を切削するための切削ユニット(加工手段)8が配置されている。切削ユニット8は、加工送り方向に対して概ね垂直な回転軸となるスピンドル(不図示)を備えている。スピンドルの一端側には、環状の切削ブレード(砥石工具)10が装着されている。スピンドルの他端側には、モータ等の回転駆動源(不図示)が連結されており、スピンドルに装着された切削ブレード10は、この回転駆動源から伝わる力によって回転する。
切削ブレード10は、例えば、ダイヤモンドやCBN(Cubic Boron Nitride)等の砥粒を、ガラスや樹脂、金属等の結合材で固定して形成される。本実施形態では、切削ブレード10の自生発刃が促進され易くなるように、鉄、コバルト、ニッケル、錫の少なくともいずれかを含む結合材を用いる。
また、切削ユニット8は、昇降機構(不図示)及び割り出し送り機構(不図示)に支持されており、昇降機構によって鉛直方向に移動(昇降)し,割り出し送り機構によって加工送り方向に垂直な割り出し送り方向に移動する。このように構成された切削ユニット8には、切削ブレード10を収容するブレードカバー12が設けられている。切削ブレード10の外周部分は、下部を除いてブレードカバー12に覆われている。
ブレードカバー12には、切削ブレード10の下部に純水等の加工液を供給する第1供給ノズル14と、切削ブレード10の外周部分に加工液を供給する第2供給ノズル16とが設けられている。第1供給ノズル14の上流端には、配管18aの下流端が接続されている。第2供給ノズル16の上流端には、配管18bの下流端が接続されている。
配管18a,18bの上流側には、pHを計測するためのpH計20、バルブ22a等を介して、純水供給源24が接続されている。pH計20とバルブ22aとの間には、バルブ22b等を介して、二酸化炭素供給源26が接続されている。バルブ22aとバルブ22bとを同時に開くことで、純水に二酸化炭素を混入(溶解)させて、切削ブレード10の自生発刃を促進させる作用を持つ加工液(自生発刃促進液)を生成し、第1供給ノズル14及び第2供給ノズル16から供給できる。
本実施形態に係る切削方法では、まず、被加工物11をチャックテーブル4で保持する保持ステップを行う。この保持ステップでは、被加工物11に貼付されているダイシングテープ23をチャックテーブル4の保持面4aに接触させて、吸引源の負圧を作用させる。併せて、環状のフレーム23をクランプ6で固定する。これにより、被加工物11は、図1に示すように、上面側が露出した状態でチャックテーブル4に保持される。
保持ステップの後には、被加工物11を切削する切削ステップ(加工ステップ)を行う。切削ステップでは、まず、チャックテーブル4を回転させて、任意の加工予定ラインを加工送り方向に対して平行にする。更に、チャックテーブル4と切削ユニット8とを相対的に移動させて、切削ブレード10を、任意の加工予定ラインの延長線上に合わせる。
その後、回転させた切削ブレード10の下端を被加工物11の上面よりも低い位置まで下降させて、チャックテーブル4を加工送り方向に移動させる。これにより、切削ブレード10を被加工物11に切り込ませて、対象の加工予定ラインに沿って被加工物11を切削できる。なお、切削の態様は、被加工物11に溝を形成するハーフカットでも良いし、被加工物11を完全に切断するフルカットでも良い。
本実施形態では、例えば、切削ステップで被加工物11を切削する際に、切削ブレード10の自生発刃を促進させる加工液を切削ユニット8に供給する。具体的には、バルブ22aとバルブ22bとを同時に開いて、純水に二酸化炭素が混入された加工液を切削ブレード10に供給する。これにより、切削ブレード10の自生発刃を促進させながら被加工物11を切削できる。
ここで、純水に対する二酸化炭素の混入量は、加工液のpHが6未満の値となるように調整されることが望ましい。加工液のpHを6未満にすることで、切削ブレード10の結合材に含まれる鉄、コバルト、ニッケル、錫等を酸化(腐食)させ易くなる。つまり、結合材を脆くできるので、被加工物11を切削する際に切削ブレード10の自生発刃が進み易くなる。
なお、純水に二酸化炭素を混入するタイミングは、任意に設定、変更できる。例えば、スピンドルを回転させる回転駆動源の電流値等をモニタしておき、電流値が閾値よりも大きくなったタイミング(つまり、切削ブレード10の切削能力がある程度まで低下し負荷が大きくなったタイミング)で、純水に二酸化炭素を混入させると良い。この場合には、二酸化炭素の使用量を減らしながら、切削ブレード10の切削能力を維持できる。もちろん、純水に二酸化炭素を混入させた加工液を常に用いても良い。
以上のように、本実施形態に係る切削方法(加工方法)では、切削ユニット(加工手段)8に切削ブレード(砥石工具)10の自生発刃を促進させる加工液(自生発刃促進液)を供給しながら被加工物11を切削(加工)するので、切削ブレード10の自生発刃を促進させながら被加工物11を切削できる。
(第2実施形態)
本実施形態では、研削ホイール(砥石工具)を用いて被加工物を研削(加工)する研削方法(加工方法)の例について説明する。図2は、本実施形態に係る研削方法を説明するための図である。本実施形態でも、上記実施形態と同様の被加工物11が用いられる。ただし、本実施形態では、被加工物11の表面又は裏面に、被加工物11と同等の径を持つ円形の保護テープ31を貼付する。また、本実施形態では、デバイスが形成されていない被加工物11を用いることもできる。
本実施形態に係る研削方法(加工方法)では、例えば、図2に示す研削装置(加工装置)32が用いられる。研削装置32は、被加工物11を吸引、保持するためのチャックテーブル(保持テーブル)34を備えている。チャックテーブル34は、モータ等の回転駆動源(不図示)に連結されており、鉛直方向に概ね平行な回転軸の周りに回転する。また、チャックテーブル34の下方には、移動機構(不図示)が設けられており、チャックテーブル34は、この移動機構によって水平方向に移動する。
チャックテーブル34の上面の一部は、被加工物11の下面側を吸引、保持する保持面34aとなっている。保持面34aは、チャックテーブル34の内部に形成された吸引路(不図示)等を通じて吸引源(不図示)に接続されている。吸引源の負圧を保持面34aに作用させることで、被加工物11は、チャックテーブル34に吸引、保持される。
チャックテーブル34の上方には、研削ユニット(加工手段)36が配置されている。研削ユニット36は、昇降機構(不図示)に支持されたスピンドルハウジング(不図示)を備えている。スピンドルハウジングには、スピンドル38が収容されており、スピンドル38の下端部には、円盤状のマウント40が固定されている。
マウント40の下面には、マウント40と概ね同径の研削ホイール(砥石工具)42が装着されている。研削ホイール42は、ステンレス、アルミニウム等の金属材料で形成されたホイール基台44を備えている。ホイール基台44の下面には、複数の研削砥石46が環状に配列されている。
研削砥石46は、例えば、ダイヤモンドやCBN(Cubic Boron Nitride)等の砥粒を、ガラスや樹脂、金属等の結合材で固定して形成される。本実施形態では、研削砥石46の自生発刃が促進され易くなるように、鉄、コバルト、ニッケル、錫の少なくともいずれかを含む結合材を用いる。
スピンドル38の上端側(基端側)には、モータ等の回転駆動源(不図示)が連結されており、研削ホイール42は、この回転駆動源から伝わる力によって、鉛直方向に概ね平行な回転軸の周りに回転する。研削ユニット36の内部には、純水等の加工液を研削砥石46等に対して供給するための第1供給ノズル48が設けられている。第1供給ノズル48の上流端には、配管50の下流端が接続されている。配管50の上流側には、バルブ52等を介して、純水供給源54が接続されている。
また、研削ユニット36の下方には、純水等の加工液を研削砥石46等に対して供給するための第2供給ノズル56が設けられている。第2供給ノズル56の基端側(上流側)には、pHを計測するためのpH計58、バルブ60a等を介して、純水供給源62が接続されている。pH計58とバルブ60aとの間には、バルブ60b等を介して、二酸化炭素供給源64が接続されている。
バルブ60aとバルブ60bとを同時に開くことで、純水に二酸化炭素を混入(溶解)させて、研削砥石46の自生発刃を促進させる作用を持つ加工液(自生発刃促進液)を生成し、第2供給ノズル56から供給できる。
本実施形態に係る研削方法では、まず、被加工物11をチャックテーブル34で保持する保持ステップを行う。この保持ステップでは、被加工物11に貼付されている保護テープ31をチャックテーブル34の保持面34aに接触させて、吸引源の負圧を作用させる。これにより、被加工物11は、図2に示すように、上面側が露出した状態でチャックテーブル34に保持される。
保持ステップの後には、被加工物11を研削する研削ステップ(加工ステップ)を行う。研削ステップでは、まず、チャックテーブル34を研削ユニット36の下方に移動させる。そして、図2に示すように、チャックテーブル34と研削ホイール42とをそれぞれ回転させて、第1供給ノズル48及び第2供給ノズル56から加工液を供給しながら、スピンドルハウジング(スピンドル38、研削ホイール42)を下降させる。
スピンドルハウジングの下降速度(下降量)は、被加工物11の上面側に研削砥石46の下面が押し当てられる程度に調整される。これにより、上面側を研削して、被加工物11を薄くできる。例えば、被加工物11が所定の厚み(仕上げ厚み)まで薄くなると、研削ステップは終了する。
本実施形態では、例えば、研削ステップで被加工物11を研削する際に、研削砥石46の自生発刃を促進させる加工液を研削ユニット36に供給する。具体的には、バルブ60aとバルブ60bとを同時に開いて、純水に二酸化炭素が混入された加工液を研削砥石46に供給する。これにより、研削砥石46の自生発刃を促進させながら被加工物11を研削できる。
ここで、純水に対する二酸化炭素の混入量は、加工液のpHが6未満の値となるように調整されることが望ましい。加工液のpHを6未満にすることで、研削砥石46の結合材に含まれる鉄、コバルト、ニッケル、錫等を酸化(腐食)させ易くなる。つまり、結合材が脆くなるので、被加工物11を研削する際に研削砥石46の自生発刃が進み易くなる。
なお、純水に二酸化炭素を混入するタイミングは、任意に設定、変更できる。例えば、スピンドル38を回転させる回転駆動源の電流値等をモニタしておき、電流値が閾値よりも大きくなったタイミング(つまり、研削砥石46の研削能力がある程度まで低下し負荷が大きくなったタイミング)で、純水に二酸化炭素を混入させると良い。この場合には、二酸化炭素の使用量を減らしながら、研削砥石46の研削能力を維持できる。もちろん、純水に二酸化炭素を混入させた加工液を常に用いても良い。
以上のように、本実施形態に係る研削方法(加工方法)では、研削ユニット(加工手段)36に対して、研削ホイール(砥石工具)42が備える研削砥石46の自生発刃を促進させる加工液(自生発刃促進液)を供給しながら被加工物11を研削(加工)するので、研削砥石46の自生発刃を促進させながら被加工物11を研削できる。
なお、本発明は、上記実施形態の記載に制限されず種々変更して実施可能である。例えば、上記第1実施形態では、第1供給ノズル14及び第2供給ノズル16から同等の加工液を供給しているが、第1供給ノズル14及び第2供給ノズル16から異なる加工液を供給しても良い。
また、上記第2実施形態では、純水に二酸化炭素が混入された加工液(自生発刃促進液)を第2供給ノズル56のみから供給しているが、純水に二酸化炭素が混入された加工液を第1供給ノズル48のみから供給しても良い。もちろん、純水に二酸化炭素が混入された加工液を第1供給ノズル48及び第2供給ノズル56の両方から供給することもできる。
また、上記第1実施形態及び第2実施形態では、純水に二酸化炭素が混入された加工液を用いているが、自生発刃を促進させる作用を持つ加工液(自生発刃促進液)の種類に制限はない。自生発刃を促進させる作用を持つ加工液(自生発刃促進液)として、例えば、pHが6未満の任意の液体を用いることもできる。
その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。
11 ウェーハ
21 ダイシングテープ
23 フレーム
31 保護テープ
2 切削装置(加工装置)
4 チャックテーブル(保持テーブル)
4a 保持面
4b 吸引路
6 クランプ
8 切削ユニット(加工手段)
10 切削ブレード(砥石工具)
12 ブレードカバー
14 第1供給ノズル
16 第2供給ノズル
18a,18b 配管
20 pH計
22a,22b バルブ
24 純水供給源
26 二酸化炭素供給源
32 研削装置(加工装置)
34 チャックテーブル(保持テーブル)
34a 保持面
36 研削ユニット(加工手段)
38 スピンドル
40 マウント
42 研削ホイール(砥石工具)
44 ホイール基台
46 研削砥石
48 第1供給ノズル
50 配管
52 バルブ
54 純水供給源
56 第2供給ノズル
58 pH計
60a,60b バルブ
62 純水供給源
64 二酸化炭素供給源

Claims (2)

  1. 砥石工具を含む加工手段で被加工物を加工する加工方法であって、
    被加工物を保持テーブルで保持する保持ステップと、
    該加工手段に該砥石工具の自生発刃を促進させる自生発刃促進液を供給して該砥石工具の自生発刃を促進させながら被加工物を加工する加工ステップと、を備えることを特徴とする加工方法。
  2. 該自生発刃促進液は、純水に二酸化炭素を混入させてなるpHが6未満の液体であり、
    該砥石工具は、砥粒と該砥粒を結合する結合材とを含み、
    該結合材は、鉄、コバルト、ニッケル、錫のいずれかを含むことを特徴とする請求項1に記載の加工方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020088215A (ja) * 2018-11-28 2020-06-04 株式会社ディスコ 被加工物の研削方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04105874A (ja) * 1990-08-28 1992-04-07 Toshiba Corp 研磨用砥石およびそれを用いた研磨方法
JPH05228836A (ja) * 1992-02-20 1993-09-07 Tokyo Seimitsu Co Ltd ダイシング装置及びダイシング装置の目立て方法
JPH05237763A (ja) * 1992-02-28 1993-09-17 Asahi Daiyamondo Kogyo Kk 電着式砥石の目立て方法
JPH08279481A (ja) * 1995-04-07 1996-10-22 Sony Corp 半導体装置の製造方法および製造装置
JP2006012966A (ja) * 2004-06-23 2006-01-12 Seiko Epson Corp 切削方法
JP2006326787A (ja) * 2005-05-27 2006-12-07 Hitachi Maxell Ltd 固定砥粒研削研磨用工具
JP2010194672A (ja) * 2009-02-25 2010-09-09 Disco Abrasive Syst Ltd 被加工物の研削方法
JP2015216309A (ja) * 2014-05-13 2015-12-03 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04105874A (ja) * 1990-08-28 1992-04-07 Toshiba Corp 研磨用砥石およびそれを用いた研磨方法
JPH05228836A (ja) * 1992-02-20 1993-09-07 Tokyo Seimitsu Co Ltd ダイシング装置及びダイシング装置の目立て方法
JPH05237763A (ja) * 1992-02-28 1993-09-17 Asahi Daiyamondo Kogyo Kk 電着式砥石の目立て方法
JPH08279481A (ja) * 1995-04-07 1996-10-22 Sony Corp 半導体装置の製造方法および製造装置
JP2006012966A (ja) * 2004-06-23 2006-01-12 Seiko Epson Corp 切削方法
JP2006326787A (ja) * 2005-05-27 2006-12-07 Hitachi Maxell Ltd 固定砥粒研削研磨用工具
JP2010194672A (ja) * 2009-02-25 2010-09-09 Disco Abrasive Syst Ltd 被加工物の研削方法
JP2015216309A (ja) * 2014-05-13 2015-12-03 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020088215A (ja) * 2018-11-28 2020-06-04 株式会社ディスコ 被加工物の研削方法
JP7191467B2 (ja) 2018-11-28 2022-12-19 株式会社ディスコ 被加工物の研削方法

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