JP6151529B2 - サファイアウェーハの研削方法 - Google Patents

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本発明は、サファイアウェーハの研削方法に関し、特に複数の研削軸を備えた多軸式の研削装置を用いたサファイアウェーハの研削方法に関する。
サファイアウェーハはa面、c面等を主面としてインゴットから切り出され、その後に研削装置や研磨装置により所定厚みに薄化される。サファイアウェーハのように結晶方位を有するウェーハの研削時には、通常のインフィード研削を行うと、図5Aに示すようにウェーハWの主面に放射状にソーマーク(研削痕)Sが形成され、結晶方位の影響で所定方向に割れが発生する場合がある。このため、結晶方位に対して割れが発生し易い方向にソーマークSが形成されないように研削する方法が採用されている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1に記載の研削方法では、ウェーハWが保持されたチャックテーブルを直動させ、研削砥石をウェーハWの一端から他端に平行移動させるようにして研削している。これより、図5Bに示すように、ウェーハWの主面には同心円弧状のソーマークSが形成される。特許文献1に記載の研削方法では、ウェーハWの結晶方位を考慮して、ウェーハWの割れが発生し易い方向に対してソーマークSが略直交するように研削されることで、ウェーハWの割れが防止されている。
特開2005−033111号公報
しかしながら、図5Cに示すようなサファイアウェーハSWはモース硬度が高いため、特にa面が主面である場合に上記した結晶方位を考慮した研削を行うと、研削砥石が一端から他端に平行移動する間に研削砥石が徐々に摩耗してしまうという問題があった。このため、サファイアウェーハSWの被研削面が一端側から他端側に傾斜するように研削されてしまい、サファイアウェーハSWの被加工面の平坦度が悪化するという問題があった。
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、サファイアウェーハを研削する場合において、サファイアウェーハの割れを防止しつつ、被加工面の平坦度を向上させることができるサファイアウェーハの研削方法を提供することを目的とする。
本発明のサファイアウェーハの研削方法は、チャックテーブル上に保持されたサファイアウェーハを研削砥石により仕上げ厚みまで研削するサファイアウェーハの研削方法であって、サファイアウェーハに対して回転する該研削砥石を所定速度で下降させながら、サファイアウェーハの割れが発生し易い方向にソーマークが沿わない向きを維持しつつ該研削砥石がサファイアウェーハの一端から他端に移動するように該研削砥石と該チャックテーブルとを相対的に水平方向に移動させてサファイアウェーハの裏面をクリープフィード研削する第1の研削工程と、サファイアウェーハに対して回転する該研削砥石を所定速度で下降させながら、サファイアウェーハの割れが発生し易い方向にソーマークが沿わない向きを維持しつつ該研削砥石がサファイアウェーハの該他端から該一端に移動するように該研削砥石と該チャックテーブルとを相対的に水平方向に移動させてサファイアウェーハの裏面をクリープフィード研削する第2の研削工程と、を含み、該第1の研削工程と該第2の研削工程とを交互に繰り返して仕上げ厚みまで研削することを特徴とする。
また、本発明のサファイアウェーハの研削方法において、該チャックテーブルは、多軸式の研削装置のチャックテーブルであり、該サファイアウェーハは、保護テープを介してリングフレームに支持され、該リングフレームの内径の半径よりも小さな直径で形成されており、該リングフレームの中心を該チャックテーブルの回転軸に合わせるようにして、該サファイアウェーハが該チャックテーブルの回転軸回りに周回可能に保持され、該1の研削工程は、該チャックテーブルを回転させて該研削砥石がサファイアウェーハの該一端から該他端に移動するように該研削砥石と該チャックテーブルとを相対的に水平方向に移動させ、該2の研削工程は、該チャックテーブルを該第1の研削工程とは逆回転させて該研削砥石がサファイアウェーハの該他端から該一端に移動するように該研削砥石と該チャックテーブルとを相対的に水平方向に移動させる。
この構成によれば、研削砥石を下降させながらサファイアウェーハの一端から他端、他端から一端に交互に水平移動されることで、研削砥石の摩耗によるサファイアウェーハの裏面の平坦度のバラツキを抑えることができる。このとき、サファイアウェーハの結晶方位を考慮して、サファイアウェーハの割れが発生し易い方向にソーマークが沿わないように研削することで、研削時のサファイアウェーハの割れを防止することができる。
本発明によれば、研削砥石を下降させながら、サファイアウェーハの両端間で研削砥石を水平方向に往復移動させることで、サファイアウェーハの割れを防止しつつ、被加工面の平坦度を向上させることができる。
本実施の形態に係る研削装置の一例を示す斜視図である。 本実施の形態に係るサファイアウェーハと研削ホイールとの位置関係を示す図である。 本実施の形態に係るサファイアウェーハに対する研削動作の説明図である。 本実施の形態に係る粗研削動作、仕上げ研削動作を示す図である。 従来の研削方法によって加工されたウェーハを示す図である。
以下、添付図面を参照して、本実施の形態に係る研削装置について説明する。図1は、本実施の形態に係る研削装置の一例を示す斜視図である。なお、本実施の形態に係る研削装置は、図1に示す構成に限定されない。研削装置は、研削砥石を下降させながら、サファイアウェーハの一端から他端、他端から一端に研削砥石を往復移動させることができる構成であれば、どのような構成でもよい。
図1に示すように、研削装置1は、複数の研削軸を備えた多軸式の研削装置であり、サファイアウェーハSWに対する粗研削加工及び仕上げ研削加工を実施するように構成されている。サファイアウェーハSWは、小径ウェーハであり、例えば、3インチの円板状に形成されている。サファイアウェーハSWは、裏面を上向きにした状態で大径のリングフレームFに張られた保護テープTに貼着されている。この場合、サファイアウェーハSWは、リングフレームFの半径よりも小さく、リングフレームFの中心から外周側にずれた位置に貼着されている(図2参照)。
研削装置1は、略直方体状の基台11を有しており、基台11の上面には複数のチャックテーブル12が配置されたターンテーブル13が設けられている。ターンテーブル13の後方には、粗研削用の研削手段14、仕上げ用の研削手段15を支持する一対の支柱部16、17が立設されている。ターンテーブル13には周方向に等間隔で3つのチャックテーブル12が配置され、ターンテーブル13は120度間隔で間欠回転される。このため、各チャックテーブル12は、サファイアウェーハSWが受け渡される載せ換え位置、研削手段14に対向する粗研削位置、研削手段15に対向する仕上げ研削位置の順に位置付けられる。
各チャックテーブル12は、ターンテーブル13の上面に回転可能に設けられている。チャックテーブル12の上面にはポーラスセラミック材によって保持面19が形成されている。保持面19はチャックテーブル12内の管路を通じて吸引源に接続され、保持面19に生じる負圧によって保護テープTを介してサファイアウェーハSWが吸引保持される。
支柱部16、17には、粗研削用及び仕上げ研削用の研削手段14、15を上下動させる研削移動手段21、31が設けられている。研削移動手段21、31は、支柱部16、17の前面に配置されたZ軸方向に平行な一対のガイドレール22、32と、一対のガイドレール22、32にスライド可能に設置されたモータ駆動のZ軸基台23、33とを有している。Z軸基台23、33の前面には、ハウジング24、34を介して研削手段14、15が支持されている。Z軸基台23、33の背面側には、それぞれ図示しないナット部が形成され、ナット部にボールネジ25、35が螺合されている。ボールネジ25、35の一端部に連結された駆動モータ26、36によりボールネジ25、35が回転駆動され、研削手段14、15がガイドレール22、32に沿ってZ軸方向に移動される。
粗研削用及び仕上げ研削用の研削手段14、15は、円筒状のスピンドル41、51の下端にマウント42、52を設けて構成されている。マウント42、52の下面には、複数の研削砥石43、53をリング状に配置した研削ホイール44、54が装着される。粗研削用の研削砥石43は、例えば、ダイヤモンド砥粒をメタルボンドやレジンボンド等の結合剤で固めたダイヤモンド砥石で構成される。仕上げ研削用の研削砥石53は、粗研削用の研削砥石43よりも粒度が細かいものが使用される。
このように構成された研削装置1では、ターンテーブル13によってチャックテーブル12上のサファイアウェーハSWが粗研削位置、仕上げ研削位置の順に位置付けられる。粗研削位置では、研削手段14によってサファイアウェーハSWが粗研削され、仕上げ研削位置では、研削手段15によってサファイアウェーハSWが仕上げ研削される。粗研削及び仕上げ研削では、回転中の研削砥石43、53を下降させながら、所定角度範囲内でチャックテーブル12の正逆回転を繰り返している。そして、チャックテーブル12の回転軸回りに小径のサファイアウェーハSWが往復移動する度に、研削砥石43、53の研削面(加工点61)を通過することでサファイアウェーハSWの裏面65が研削される(図3参照)。
図2及び図3を参照して、サファイアウェーハに対する研削動作について説明する。図2は、本実施の形態に係るサファイアウェーハと研削ホイールとの位置関係を示す図である。図3は、本実施の形態に係るサファイアウェーハに対する研削動作の説明図である。ここでは、説明の便宜上、粗研削動作について説明するが、仕上げ研削動作についても同様である。なお、図2及び図3に示すサファイアウェーハに対する研削動作は一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
図2に示すように、サファイアウェーハSWは、保護テープTを介してリングフレームFに支持されている。サファイアウェーハSWの直径L1は、リングフレームFの内径の半径L2よりも小さく形成されている。また、サファイアウェーハSWの中心C1がリングフレームの中心C2から外周側にずれるようにして、サファイアウェーハSWが保護テープTに貼着されている。サファイアウェーハSWは、リングフレームFの中心C2をチャックテーブル12の回転軸C3に合せた状態でチャックテーブル12に保持される。このため、サファイアウェーハSWは、チャックテーブル12の回転軸C3周りに周回可能に構成されている。
チャックテーブル12の上方には、研削手段14の研削ホイール44がチャックテーブル12の中心C3を通るように位置付けられている。研削ホイール44のリング状の研削面のうち、チャックテーブル12の中央から外縁に向かう円弧状部分が加工点61として使用される。サファイアウェーハSWの裏面65は、この加工点61を通過することで研削される。この場合、サファイアウェーハSWの向きは、結晶方位を考慮して、サファイアウェーハSWが割れ易い方向F1が加工点61と平行にならない方向に向けられている。例えば、本実施の形態では、サファイアウェーハSWの割れ易い方向F1がチャックテーブル12の回転方向F2に向けられている。
図3Aに示すように、研削ホイール44(研削砥石43)が反時計周りに回転されて、第1の研削工程が開始される。第1の研削工程では、研削ホイール44が所定速度で下降されつつ、チャックテーブル12が研削ホイール44と同方向F2に回転して、サファイアウェーハSWの一端66側から円弧状の加工点61に侵入する。そして、研削砥石43によってサファイアウェーハSWの裏面65全体がクリープフィード加工されながら、サファイアウェーハSWが円弧状の加工点61を通過する。この結果、サファイアウェーハSWの裏面65には、研削砥石43によって円弧状の多数のソーマークSが形成される。
この場合、サファイアウェーハSWの割れ易い方向F1がチャックテーブル12の回転方向F2、すなわち円弧状の加工点61に対するサファイアウェーハSWの進入方向に向けられている。サファイアウェーハSWの進入方向が円弧状の加工点61に対して略直交するため、サファイアウェーハSWが割れ易い方向に円弧状のソーマークSが略直交するように形成される。よって、研削加工時のサファイアウェーハSWの割れが防止される。このように、第1の研削工程では、サファイアウェーハSWに対して研削砥石43を下降させながら、サファイアウェーハSWの結晶方位に対して所定の向きを維持しつつ、研削砥石43がサファイアウェーハSWの一端66から他端67に相対的に水平移動される。
図3Bに示すように、円弧状の加工点61をサファイアウェーハSWの他端67が通過すると、第2の研削工程が開始される。第2の研削工程では、研削ホイール44が所定速度で下降されつつ、チャックテーブル12が第1の研削工程とは逆方向F3に回転して、サファイアウェーハSWの他端67側から円弧状の加工点61に侵入する。そして、研削砥石43によってサファイアウェーハSWの裏面65全体がクリープフィード加工されながら、サファイアウェーハSWが円弧状の加工点61を通過する。この結果、第1の研削工程と同様に、サファイアウェーハSWの裏面65に円弧状の多数のソーマークSが形成される。
この場合にも、サファイアウェーハSWの割れ易い方向F1が円弧状の加工点61に対する進入方向に向けられている。よって、円弧状のソーマークSがサファイアウェーハSWが割れ易い方向F1に略直交するように形成され、研削加工時のサファイアウェーハSWの割れが防止される。このように、第2の研削工程では、サファイアウェーハSWに対して研削砥石43を下降させながら、サファイアウェーハSWの結晶方位に対して所定の向きを維持しつつ、研削砥石43がサファイアウェーハSWの他端67から一端66に相対的に水平移動される。
そして、第1の研削工程と第2の研削工程とが交互に繰り返されることで、サファイアウェーハSWが仕上げ厚みまで研削される。このときの研削砥石43の下降速度は、研削砥石43の摩耗速度に合わせて設定されている。仮に研削砥石43の摩耗速度に対して研削砥石43の下降速度が速すぎる場合や遅すぎる場合には、サファイアウェーハSWの裏面65が一端66側から他端67側に傾斜して、サファイアウェーハSWの裏面65に平坦度のバラツキが生じる。本実施の形態では、研削砥石43の摩耗速度を考慮して研削砥石43の下降速度が調整されることで、サファイアウェーハSWの裏面65の平坦度のバラツキが抑えられている。
しかしながら、研削砥石43の下降速度を調整してもサファイアウェーハSWの裏面65を完全に平坦に形成することは難しい。第1の研削工程と第2の研削工程とでは、円弧状の加工点61に対してサファイアウェーハSWが逆向きに送られるため、サファイアウェーハSWの裏面65の平坦度のバラツキが逆向きに生じる。本実施の形態では第1の研削工程と第2の研削工程とが交互に繰り返されることで、第1、第2の研削加工のそれぞれでサファイアウェーハSWの裏面65に生じた平坦度のバラツキが相殺されている。このため、研削砥石43の下降速度を調整しただけよりも、サファイアウェーハSWの裏面65の平坦度がさらに向上される。
また、円弧状の加工点61を挟んでサファイアウェーハSWが往復移動されることで、サファイアウェーハSWの移動量を最小限にして、サファイアウェーハSWの加工時間を短縮することができる。
さらに、図4に示すように、本実施の形態に係る研削装置1は、多軸式の研削装置であり、粗研削加工及び仕上げ研削加工を同時に実施可能である。このような多軸式の研削装置1では、チャックテーブル12の正逆回転を利用して、チャックテーブル12上の小径のサファイアウェーハSWを研削砥石43(円弧状の加工点61)に対して往復移動させている。このため、研削装置1にスピンドル41、51(図1参照)用又はチャックテーブル12用の新たな駆動軸を設けることなく、チャックテーブル12と研削砥石43とを水平方向に相対移動させてサファイアウェーハSWの裏面65を研削することができる。このような構成により、研削装置1の装置構成を簡略化して、研削装置1の製造コストを低減することができる。
以上のように、本実施の形態に係る研削装置1によれば、研削砥石43を下降させながらサファイアウェーハSWの一端66から他端67、他端67から一端66に交互に水平移動されることで、研削砥石43の摩耗によるサファイアウェーハSWの裏面65の平坦度のバラツキを抑えることができる。このとき、サファイアウェーハSWの結晶方位を考慮して、サファイアウェーハSWの割れが発生し易い方向にソーマークSが沿わないように研削することで、研削時のサファイアウェーハSWの割れを防止することができる。
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている大きさや形状などについては、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
例えば、上記した実施の形態においては、多軸式の研削装置1によりサファイアウェーハSWを研削する構成について説明したが、この構成に限定されない。単軸式の研削装置によりサファイアウェーハSWを研削してもよい。
また、上記した実施の形態においては、サファイアウェーハSWの割れが発生し易い方向に対してソーマークSが略直交するようにサファイアウェーハSWが研削される構成としたが、この構成に限定されない。ソーマークSがサファイアウェーハSWの割れが発生し易い方向に沿わないようにサファイアウェーハSWが研削されればよい。
また、上記した実施の形態においては、チャックテーブル12を回転させることで、研削砥石43、53とチャックテーブル12上の小径のサファイアウェーハSWとを相対的に水平移動させる構成としたが、この構成に限定されない。チャックテーブル12を移動させる代わりに、研削砥石43、53を移動させてもよい。さらに、ターンテーブル13の正逆回転によって研削砥石43、53とサファイアウェーハSWとを相対的に水平移動させる構成としてもよい。
また、上記した実施の形態においては、ソーマークSは直線になる程望ましく、例えば、研削ホイール44、54の外径がサファイアウェーハSWの外径の2倍以上であることが望ましい。
また、上記した実施の形態において、小径のサファイアウェーハSWを研削する構成について説明したが、この構成に限定されない。例えば、単軸式の研削装置のように、研削砥石に対してチャックテーブルを直動させる構成であれば、大径のサファイアウェーハSWの一端から他端、他端から一端に研削砥石43を往復移動させて研削することが可能である。
また、本実施の形態においては、サファイアウェーハSWの研削方法を研削装置1を例示して説明したが、この構成に限定されない。サファイアウェーハSWの研削方法は、研磨砥石を用いた研磨装置にも適用可能である。すなわち、本実施の形態において研削とは研磨を含む概念である。
また、上記した実施の形態において、第1の研削工程と第2の研削工程とを交互に複数回繰り返してもよいし、サファイアウェーハSWを仕上げ厚みまで研削可能であれば第1の研削工程と第2の研削工程とを1回ずつ実施する構成としてもよい。
また、上記した実施の形態において、フルオートタイプの研削装置を例示したが、この構成に限定されない。本発明は、セミオートタイプの研削装置にも適用可能である。
以上説明したように、本発明は、サファイアウェーハを研削する場合において、サファイアウェーハの割れを防止しつつ、被加工面の平坦度を向上させることができるという効果を有し、特に、複数の研削軸を備えた多軸式の研削装置を用いたサファイアウェーハの研削方法に有用である。
1 研削装置
12 チャックテーブル
13 ターンテーブル
14、15 研削手段
43、53 研削砥石
44、54 研削ホイール
61 加工点
65 裏面
66 一端
67 他端

Claims (2)

  1. チャックテーブル上に保持されたサファイアウェーハを研削砥石により仕上げ厚みまで研削するサファイアウェーハの研削方法であって、
    サファイアウェーハに対して回転する該研削砥石を所定速度で下降させながら、サファイアウェーハの割れが発生し易い方向にソーマークが沿わない向きを維持しつつ該研削砥石がサファイアウェーハの一端から他端に移動するように該研削砥石と該チャックテーブルとを相対的に水平方向に移動させてサファイアウェーハの裏面をクリープフィード研削する第1の研削工程と、
    サファイアウェーハに対して回転する該研削砥石を所定速度で下降させながら、サファイアウェーハの割れが発生し易い方向にソーマークが沿わない向きを維持しつつ該研削砥石がサファイアウェーハの該他端から該一端に移動するように該研削砥石と該チャックテーブルとを相対的に水平方向に移動させてサファイアウェーハの裏面をクリープフィード研削する第2の研削工程と、を含み、
    該第1の研削工程と該第2の研削工程とを交互に繰り返して仕上げ厚みまで研削することを特徴とするサファイアウェーハの研削方法。
  2. 該チャックテーブルは、多軸式の研削装置のチャックテーブルであり、
    該サファイアウェーハは、保護テープを介してリングフレームに支持され、該リングフレームの内径の半径よりも小さな直径で形成されており、
    該リングフレームの中心を該チャックテーブルの回転軸に合わせるようにして、該サファイアウェーハが該チャックテーブルの回転軸回りに周回可能に保持され、
    該1の研削工程は、該チャックテーブルを回転させて該研削砥石がサファイアウェーハの該一端から該他端に移動するように該研削砥石と該チャックテーブルとを相対的に水平方向に移動させ、
    該2の研削工程は、該チャックテーブルを該第1の研削工程とは逆回転させて該研削砥石がサファイアウェーハの該他端から該一端に移動するように該研削砥石と該チャックテーブルとを相対的に水平方向に移動させることを特徴とする請求項1に記載のサファイアウェーハの研削方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6824583B2 (ja) * 2017-04-17 2021-02-03 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
JP7128635B2 (ja) * 2018-03-07 2022-08-31 株式会社東京精密 研削盤
JP7271468B2 (ja) * 2020-05-11 2023-05-11 信越化学工業株式会社 サファイア基板の研削方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5789551A (en) * 1980-11-17 1982-06-03 Toshiba Corp Grinding process for sapphire wafer
JPH0938852A (ja) * 1995-07-31 1997-02-10 Sony Corp ウエハの裏面研削方法
JP2001322056A (ja) * 2000-05-16 2001-11-20 Nippei Toyama Corp 片面研削装置および片面研削方法
JP2001358106A (ja) * 2000-06-15 2001-12-26 Nippei Toyama Corp 片面研削方法および片面研削装置
JP2005033111A (ja) * 2003-07-10 2005-02-03 Disco Abrasive Syst Ltd 結晶方位を有するウエーハの研磨方法
JP2005262431A (ja) * 2004-02-19 2005-09-29 Koyo Seiko Co Ltd 研削装置

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