JP2012074504A - 薄膜トランジスタ及び薄膜トランジスタの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板10上にゲート電極、ゲート絶縁膜、ソース電極及びドレイン電極、有機半導体層を有する薄膜トランジスタにおいて、前記ソース電極及び前記ドレイン電極が3層の積層体からなり、かつ3層の積層体の膜厚が第1層目、第2層目、第3層目の順に薄くする薄膜トランジスタである。
【選択図】図1
Description
例えば特許文献1では、インクジェット法により有機半導体層を形成しており、半導体層に有機半導体材料を用いた薄膜トランジスタ(以下、TFTとも呼ぶ)は特に有機TFTとも呼ばれる。TFTを構成する部材としては、半導体以外に電極や絶縁膜があるが、低コストなTFTを形成する上ではこれらも印刷法やコーディング技術などのウェット法を用いて形成されることが望まれる。
請求項8に記載の発明の効果は、第1層目の印刷法がインクジェット法もしくは反転オフセット印刷法とすることで、比較的粘度の低い金属粒子インクを用いて微細なパターンを形成することができる。
図1は本発明に係る薄膜トランジスタの一実施形態を示す断面図である。
半導体材料は特に限定されるものではないが、フレキシブルな基板を用いるためには有機半導体材料や酸化物半導体材料を用いることが望ましく、特に印刷法を用いて半導体層16を形成する際には、有機半導体材料が好ましいが、印刷法により形成できれば酸化物半導体材料であってもよい。
図1に示すボトムゲート・ボトムコンタクト型薄膜トランジスタである。
この薄膜トランジスタは、ベースとなる基板10にポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム(帝人デュポン製)を用いた。
続いて、3層からなるソース・ドレイン電極間に有機半導体層16を形成する。
一方、前述した実施例1,2と比較するために、図2のように第2層目のソース・ドレイン電極14を作製せずに、第1層目のソース・ドレイン電極13上に実施例の第3層目のソース・ドレイン電極15に相当するペンタフルオロチオフェノールの自己組織化単分子膜を形成したこと以外は実施例1と同様にして薄膜トランジスタを形成した。
Claims (11)
- 少なくとも基板上にゲート電極、ゲート絶縁膜、ソース電極及びドレイン電極、有機半導体層を有する薄膜トランジスタにおいて、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極が3層の積層体からなり、かつ該3層の積層体の膜厚が第1層目、第2層目、第3層目の順に薄くすることを特徴とする薄膜トランジスタ。 - 前記3層の積層体のうち、前記第1層目が銀もしくは銅であることを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記3層の積層体のうち、前記第2層目が金であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記3層の積層体のうち、前記第3層目が自己組織化単分子膜であることを特徴とする請求項1ないし請求項3の何れか一項に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記自己組織化単分子膜がチオール化合物からなることを特徴とする請求項4に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記基板としては、可撓性の基板であることを特徴とする請求項1ないし請求項5の何れか一項に記載の薄膜トランジスタ。
- 少なくとも基板上にゲート電極、ゲート絶縁膜、ソース電極及びドレイン電極、有機半導体層の順で形成される薄膜トランジスタの製造方法において、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極を3層の積層体とするとともに、当該3層の積層体のうち、第1層目を印刷法により形成することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 前記印刷法は、インクジェット法もしくは反転オフセット印刷法であることを特徴とする請求項7に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記3層の積層体のうち、第2層目をめっきにより形成することを特徴とする請求項7に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記有機半導体層を印刷法により形成することを特徴とする請求項7に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記有機半導体層を形成する印刷法は、インクジェット法もしくは凸版印刷法であることを特徴とする請求項10に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
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