JP2012074465A - 転写媒体、配線板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】工程の複雑化を招くことなく、配線板に形成される導体回路パターンの微細化を可能にする転写媒体、配線板の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】剥離可能な接着剤16を介して支持基板15上に導体回路パターン14が形成された転写媒体17を用いて配線板を製造する配線板の製造方法において、層間絶縁材18に転写媒体17に形成された導体回路パターン14を圧着する工程と、接着剤16を剥離して支持基板15から導体回路パターン14を分離し、層間絶縁材18に導体回路パターン14を形成して配線板19を形成する工程とを有する。
【選択図】図1
【解決手段】剥離可能な接着剤16を介して支持基板15上に導体回路パターン14が形成された転写媒体17を用いて配線板を製造する配線板の製造方法において、層間絶縁材18に転写媒体17に形成された導体回路パターン14を圧着する工程と、接着剤16を剥離して支持基板15から導体回路パターン14を分離し、層間絶縁材18に導体回路パターン14を形成して配線板19を形成する工程とを有する。
【選択図】図1
Description
本発明は、各種実装部品を実装して電気的に接続する配線板を製造する際に使用する転写媒体、この転写媒体を用いて配線板を製造する配線板の製造方法に関する。
従来、この種の技術としては、例えば以下に示す文献に記載されたものが知られている(特許文献1参照)。この文献1には、転写媒体を用いて配線基板を製造する方法が記載されている。この製造方法においては、先ず転写媒体用のアルミニュウム基板の表面を、感光性樹脂を用いたフォトレジスト技術で選択的に露出させる。その後、露出した基板表面に光沢めっきにより金属粒塊成長方向が該基板表面とほぼ平行な金属層を形成して、
非光沢めっきにより金属粒塊成長方向が基板に垂直な金属層を形成し転写媒体を得る。この転写媒体を、表面に接着剤を有する絶縁基板に圧着し、導体配線となる金属層を絶縁性基板表面に転写して埋設する。続いて、転写媒体の基板を化学的にエッチング除去して、配線基板を製造している。
非光沢めっきにより金属粒塊成長方向が基板に垂直な金属層を形成し転写媒体を得る。この転写媒体を、表面に接着剤を有する絶縁基板に圧着し、導体配線となる金属層を絶縁性基板表面に転写して埋設する。続いて、転写媒体の基板を化学的にエッチング除去して、配線基板を製造している。
以下に示す特許文献2には、厚膜配線の形成方法の技術が記載されている。この形成方法では、第1の工程から第5の工程を有している。第1の工程では、所望の厚膜配線のパターンに対応するパターン溝が表面に形成された凹板のパターン溝に導電ペーストを埋め込む。第2の工程では、パターン溝に埋め込まれた導電ペーストを凹板から剥離可能な硬度まで乾燥または硬化させる。第3の工程では、剥離可能な硬度まで乾燥または硬化された導電ペーストを凹板から転写面に粘着性を持つ中間体に転写する。第4の工程では、中間体の転写面の粘着性を低下させる。第5の工程では、中間体に転写された導電ペーストを基体に再転写する。このような工程を経て、厚膜配線を形成している。
以下に示す特許文献3には、パターン形状体を用いて配線基板を製造する方法が記載されている。この製造方法では、基材上に繰り返し使用可能なパターン状の絶縁材料が配置され、絶縁材料の表面における開口部の面積と比較して、基材表面の露出面積を小さくしたことを特徴としている。また、基材表面の絶縁材料の開口部に皮膜層が形成され、この皮膜層の膜内には空洞部が形成されている。この空洞部を設けることで、配線と型との実効的な接触面積を低減して、優れた転写性を得ている。
上記文献1に記載された従来技術では、非光沢めっき面を指す基板表面の粗さが大きくなると、インピーダンスの不整合が生じて、導体配線を伝送する信号を高速に伝送することが困難になるおそれがあった。また、多段の配線構造を得ることが難しくなり、製造工程が極めて複雑化するおそれがあった。
上記文献2に記載された従来技術では、導電ペーストの乾燥等が必要となり、乾燥または硬化によって導電ペーストが収縮し、導電ペーストの転写時に形状崩れが生じるおそれがあった。このため、膜厚配線の微細化が困難になっていた。
上記文献3に記載された技術では、パターン形状体の開口部は文献3の請求項1に記載されているようにテーパ状に構成されているため、このパターン形状体を用いて配線を形成した場合には、配線の微細化が困難になっていた。
そこで、本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、工程の複雑化を招くことなく、配線板に形成される導体回路パターンの微細化を可能にする転写媒体、配線板の製造方法を提供することにある。
本発明の第1の態様によれば、剥離可能な接着剤を介して支持基板上に導体回路パターンが形成され、導体回路パターンは、導体回路パターンの凹凸形状と逆形状の凹凸形状を有する型により形成され、接着剤に接着されて前記支持基板に転写され、導体回路パターンの凹凸形状と逆形状の凹凸形状を有する型は、導体回路パターンの凹凸形状と同形状の凹凸形状が形成されたモールドを型材にインプリントすることで形成される転写媒体が提供される。
本発明の第2の態様によれば、剥離可能な接着剤を介して支持基板上に導体回路パターンが形成され、導体回路パターンは、導体回路パターンの凹凸形状と逆形状の凹凸形状を有する型により形成され、接着剤に接着されて前記支持基板に転写され、導体回路パターンの凹凸形状と逆形状の凹凸形状を有する型は、導体回路パターンの凹凸形状と同形状の凹凸形状が形成されたモールドを型材にインプリントすることで形成される転写媒体を用いて配線板を製造する配線板の製造方法において、絶縁材に転写媒体に形成された導体回路パターンを圧着する第1の工程と、接着剤を剥離して支持基板から導体回路パターンを分離し、絶縁材に導体回路パターンを形成して配線板を形成する第2の工程とを有する配線板の製造方法が提供される。
本発明によれば、工程の複雑化を招くことなく、配線板に形成される導体回路パターンの微細化が可能になる。
以下、図面を用いて本発明を実施するための実施形態を説明する。
(実施形態1)
図1(a)〜同図(i)は本発明の実施形態1に係る転写媒体を用いて製造される配線板の製造方法の工程を示す工程断面図である。
図1(a)〜同図(i)は本発明の実施形態1に係る転写媒体を用いて製造される配線板の製造方法の工程を示す工程断面図である。
先ず図1(a)に示すように、所望の導体回路パターンに対応した、すなわち導体回路パターンの凹凸形状と同じ凹凸形状を有するモールド(金型)11を用意する。このモールド11は、Ni、Siもしくは石英などで構成される。
次に、図1(b)に示すように、光インプリント法によりモールド11の凹凸形状が転写されて、モールド11の凹凸形状とは凹凸が逆の凹凸形状が形成された樹脂型を形成する。先ずPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム12の表面に塗布された光硬化性樹脂13にモールド11を押し当てた状態で、紫外線(UV)を照射して光硬化性樹脂13を硬化させる。光硬化性樹脂13としては、例えば東洋合成社製の製品番号PAK−02からなる光硬化性の樹脂を用いることができる。光硬化性樹脂13が硬化した後、モールド11とPETフィルム12とを分離する。これにより、モールド11に形成された凹凸形状が光硬化性樹脂13に転写されて、モールド11に形成された凹凸形状と逆の凹凸形状が形成された光硬化性樹脂13で構成された樹脂型が得られる。
一方、このような樹脂型は熱インプリント法により形成することができる。すなわち、PETフィルムの表面に光硬化性樹脂13に代えて塗布された熱硬化性樹脂を軟化点まで加熱した後モールド11を押し当て、熱硬化性樹脂を冷却した後、モールド11とPETフィルムとを分離する。これにより、上記と同様の樹脂型を形成することができる。
なお、光インプリント法もしくは熱インプリント法のいずれの方法を用いる場合であっても、必要に応じて、モールド11と樹脂との分離離型を容易にするために、モールド11の表面に皮膜を形成するなどの離型処理を施す。この皮膜の厚さは、例えば10nm以下に形成され、皮膜の材料としては、例えば住友スリーエム社製の「ノベックEGC−1720」(製品名)を用いることができる。
次に、図1(c)に示すように、先の工程で得られた樹脂型の凹凸形状が形成された表面に、カーボンやパラジウムを付着させてDPP(ダイレクトプレーティング)処理を行う。その後、電気めっきによりCu膜からなる導体回路パターン14を樹脂型の表面に堆積して形成する。あるいは、スパッタ法や蒸着法などのPVD法(物理気相成長法)によりCu膜を形成した後、電気めっきを行って導体回路パターン14を形成するようにしてもよい。なお、電気めっきを行う際に、好ましくはボトムアップ析出となるようにめっき液に添加剤を加える。 この添加剤としては、例えば奥野製薬工業社製の「トップルチナNSV」(製品名)を用いることができる。
次に、図1(d)に示すように、導体回路パターン14の表面をバフ研磨、ベルト研磨またはテープ研磨し、もしくはエッチングして表面を平坦化し、導体回路パターン14の不要部分(余剰分)を除去する。
次に、図1(e)に示すように、樹脂型に形成された導体回路パターン14が転写されて支持する支持基板15を用意する。この支持基板15は、ガラスなどの透明材料の表面に接着剤16が塗布されて構成される。接着剤16は、紫外線があたることで発泡して発泡前に比べて粘着力が低下する発泡剥離性の接着剤で構成される。このような支持基板15の接着剤16が塗布された側の表面を、先の工程で樹脂型に形成された導体回路パターン14に圧着し、導体回路パターン14に接着剤16を接着する。
次に、図1(f)に示すように、PETフィルム12側から接着剤16に向けて紫外線を照射することで接着剤16の粘着力を低下させ、もしくは光硬化性樹脂13に表面処理を施すことにより接着剤16に接着した導体回路パターン14を樹脂型の光硬化性樹脂13から分離し、導体回路パターン14を支持基板15に転写する。これにより、接着剤16を介して支持基板15上に、モールド11の凹凸形状と同じ凹凸形状を有する導体回路パターン14が転写された転写媒体17が形成される。
このように、転写媒体17は、剥離可能な接着剤16を介して支持基板15上に導体回路パターン14が形成され、この導体回路パターン14は、導体回路パターン14の凹凸形状と逆形状の凹凸形状を有する樹脂型により形成され、接着剤16に接着されて支持基板15に転写され、導体回路パターン14の凹凸形状と逆形状の凹凸形状を有する樹脂型は、導体回路パターン14の凹凸形状と同形状の凹凸形状が形成されたモールド11を型材となる光硬化性樹脂13にインプリントすることで形成される。
次に、図1(g)に示すように、加熱により軟化する層間絶縁材18を軟化点以上に加熱する。加熱により軟化した層間絶縁材18に、先の工程で得られた転写媒体17の導体回路パターン14が形成された側の表面を押圧して圧着する。層間絶縁材18としては、例えば味の素ファインテクノ社製の製品番号AGF−GX13などの絶縁材料を用いることができる。
次に、図1(h)に示すように、層間絶縁材18を軟化点以下に冷却した後、支持基板15の透明材料側から接着剤16に向けて、例えば200mJ/cm2 程度の積算光量の紫外線を照射する。これにより、接着剤16と導体回路パターン14との接着面、ならびに接着剤16と層間絶縁材18との接着面で接着剤16が発泡して空間が生じる。この空間により接着剤16の粘着力が空間が形成される前に比べて低下する。この結果、接着剤16を容易に剥離することが可能となる。
最後に、図1(i)に示すように、粘着力が低下した状態で接着剤16を剥離して、支持基板15から導体回路パターン14を分離し、層間絶縁材18に導体回路パターン14が形成された配線板19が完成する。
このように形成された配線板19を、本技術分野において一般的に用いられているビルドアップ工法や一括積層法により積層することで多層配線板を形成することができる。
以上説明したように、上記実施形態1においては、所望の導体回路パターンに対応したモールド11を用意し、このモールド11を用いてインプリント法により導体回路パターン14が形成された転写媒体を形成することが可能となる。これにより、工程の複雑化を招くことなく容易に導体回路パターン14を得ることができる。さらに、インプリント法により導体回路パターン14を形成することで、導体回路パターン14を微細化することが可能となる。
支持基板15から導体回路パターン14を分離する際に、両者を接着している接着剤16の粘着性を接着時に比べて低下させた状態で接着剤16を剥離している。これにより、支持基板15から導体回路パターン14を容易に分離することが可能となり、導体回路パターン14の形状の崩れを抑制することができる。この結果、導体回路パターン14を微細化することが可能となる。
(実施形態2)
次に、本発明の実施形態2に係る転写媒体を用いた配線板の製造方法について説明する。
次に、本発明の実施形態2に係る転写媒体を用いた配線板の製造方法について説明する。
この実施形態2の特徴とするところは、先の実施形態1の図1(d)に示す導体回路パターン14の研磨平坦化工程を、同図(h)に示す接着剤16の剥離工程の後に行うようにしたことにあり、他は先の実施形態1と同様である。
すなわち、実施形態2では、電気めっきによりCu膜からなる導体回路パターン14を樹脂型の表面に形成した後、導体回路パターン14を支持基板15の接着剤16に圧着して、接着剤16に導体回路パターン14を接着する。そして、接着剤16を剥離した後、導体回路パターン14の一方の面の不要な部分を研磨して平坦化する。
このような実施形態2においても、先の実施形態1と同様の効果を得ることができる。
(実施形態3)
次に、本発明の実施形態3に係る転写媒体を用いた配線板の製造方法について説明する。
次に、本発明の実施形態3に係る転写媒体を用いた配線板の製造方法について説明する。
この実施形態3では、先の実施形態1の図1(f)に示す工程までは同様にして実施する。その後、先の実施形態1とは異なる支持基板に導体回路パターンを転写する。この実施形態3で用いる支持基板は、微細な孔が貫通して設けられた基材の一方の表面に溶解剥離可能な接着樹脂が塗布されて構成されている。
続いて、図1(g)に示すと同様の工程を経た後、図1(h)に示す工程に代えて支持基板に設けられた微細な孔を介して溶剤を注入して接着樹脂を溶解して剥離し、支持基板から導体回路パターンを分離する。このとき、例えばベンゼンやエタノールといった溶剤は、接着樹脂のみを溶解する一方、層間絶縁材を溶解しないものが選択される。その後、図1(i)に示すように、層間絶縁材18に導体回路パターン14が形成された配線板19が完成する。
このような実施形態3においては、支持基板から導体回路パターン14を分離する際に、両者を接着している接着剤16を溶剤により溶解した後接着剤16を剥離している。これにより、支持基板15から導体回路パターン14を容易に分離することが可能となる。この結果、導体回路パターン14の形状の崩れを抑制することができ、先の実施形態1と同様の効果を得ることができる。
11…モールド
12…PETフィルム
13…光硬化性樹脂
14…導体回路パターン
15…支持基板
16…接着剤
17…転写媒体
18…層間絶縁材
19…配線板
12…PETフィルム
13…光硬化性樹脂
14…導体回路パターン
15…支持基板
16…接着剤
17…転写媒体
18…層間絶縁材
19…配線板
Claims (6)
- 剥離可能な接着剤を介して支持基板上に導体回路パターンが形成され、
前記導体回路パターンは、前記導体回路パターンの凹凸形状と逆形状の凹凸形状を有する型により形成され、前記接着剤に接着されて前記支持基板に転写され、
前記導体回路パターンの凹凸形状と逆形状の凹凸形状を有する型は、前記導体回路パターンの凹凸形状と同形状の凹凸形状が形成されたモールドを型材にインプリントすることで形成される
ことを特徴とする転写媒体。 - 前記接着剤は、紫外線が照射されることで、紫外線が照射される前に比べて粘着力が低下して剥離可能となる
ことを特徴とする請求項1に記載の転写媒体。 - 前記支持基板は、基板を貫通する微細な孔が設けられ、
前記接着剤は、溶剤により剥離可能な接着剤で構成され、前記支持基板に設けられた微細の孔から注入された溶剤により溶解して剥離可能となる
ことを特徴とする請求項1に記載の転写媒体。 - 剥離可能な接着剤を介して支持基板上に導体回路パターンが形成され、
前記導体回路パターンは、前記導体回路パターンの凹凸形状と逆形状の凹凸形状を有する型により形成され、前記接着剤に接着されて前記支持基板に転写され、
前記導体回路パターンの凹凸形状と逆形状の凹凸形状を有する型は、前記導体回路パターンの凹凸形状と同形状の凹凸形状が形成されたモールドを型材にインプリントすることで形成される転写媒体を用いて配線板を製造する配線板の製造方法において、
絶縁材に前記転写媒体に形成された導体回路パターンを圧着する第1の工程と、
前記接着剤を剥離して前記支持基板から前記導体回路パターンを分離し、前記絶縁材に前記導体回路パターンを形成して配線板を形成する第2の工程と
を有することを特徴とする配線板の製造方法。 - 前記接着剤は、紫外線が照射されることで、紫外線が照射される前に比べて粘着力が低下して剥離可能となる
ことを特徴とする請求項4に記載の配線板の製造方法。 - 前記支持基板は、基板を貫通する微細な孔が設けられ、
前記接着剤は、溶剤により剥離可能な接着剤で構成され、前記支持基板に設けられた微細の孔から注入された溶剤により溶解して剥離可能となる
ことを特徴とする請求項4に記載の配線板の製造方法。
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- 2010-09-28 JP JP2010217011A patent/JP2012074465A/ja active Pending
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