JP2012074455A - アライメントユニット、基板処理装置、およびアライメント方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】注目マーク94aが初期位置P0から第1計測位置P1へ第1距離D1だけ移動した後、位置演算部は、対応撮像部にて撮像された第1撮像画像に基づいて、第1撮像画像の座標系における注目マーク94aの第1計測位置P1を演算する。また、位置演算部は、注目マーク94aが第1計測位置P1から第2計測位置P2に移動した後、対応撮像部により撮像された第2撮像画像に基づいて、第2撮像画像の座標系における第2計測位置P2を演算する。続いて、演算された第1および第2計測位置P1、P2と、第1角度θ1と、に基づいて、回転軸35aから見た注目マーク94aのマーク位置を演算する。そして、求められた各アライメントマークのマーク位置を通る直線を求めることによって、主走査方向に対する基板の傾きを求める。
【選択図】図6
Description
(1)各撮像領域の横軸と主走査方向とが略平行となり、かつ、
(2)副走査方向における各撮像領域の中心位置が略同一となるように、
予め調整される必要がある。その結果、各撮像部の調整に熟練、製品知識、および時間が要求されるという問題が生ずる。
図1および図2は、本実施の形態における基板処理装置1のハードウェア構成の一例を示す平面図および正面図である。図3は、位置決め部40(40a)の構成の一例を示す正面斜視図である。ここで、基板処理装置1は、塗布ユニット60の吐出部61を基板90に対して一方向(矢印AR2方向:X軸プラスまたはマイナス方向)に移動させることによって、基板90上に薬液または純水(以下、単に、「処理液」と称する)を塗布する装置である。図1および図2に示すように、基板処理装置1は、主として、基板搬送ユニット10と、位置決め部40と、撮像部50と、塗布ユニット60と、制御ユニット70と、を備えている。
図5は、制御ユニット70の機能構成の一例を示すブロック図である。図6は、アライメントマーク94(94a〜94)の初期位置P0、並びに第1および第2計測位置P1、P2の一例を説明するための図である。図7は、主走査方向に対する基板90の傾きθ0を説明するための図である。図5に示すように、制御ユニット70は、主として、位置演算部71と、位置決め処理部72と、調整部73と、RAM81と、ROM82と、CPU83と、を有している。
(A)注目マーク94aが初期位置P0から第1計測位置P1に移動した後(図6参照)、位置演算部71は、複数の撮像部50(50a、50b)のうち注目マーク94aに対応する撮像部(この場合においては撮像部50a)(以下、単に、「対応撮像部」とも呼ぶ)にて撮像された第1撮像画像に基づいて、第1撮像画像の座標系における注目マーク94aの第1計測位置P1を演算する。ここで、第1撮像画像の座標系としては、例えば、対応撮像部の撮像領域51内で規定される座標系であり、撮像領域51の左上を原点Oとするij座標系(図6参照)が採用されてもよい。
(B)注目マーク94aが第1計測位置P1から第2計測位置P2に移動した後(図6参照)、位置演算部71は、対応撮像部により撮像された第2撮像画像に基づいて、第2撮像画像の座標系における第2計測位置P2を演算する。ここで、第2撮像画像の座標系としては、第1撮像画像の座標系と同様に、対応撮像部の撮像領域51内で規定される座標系であり、撮像領域51の左上を原点Oとするij座標系(図6参照)が採用されてもよい。
(C)演算された第1および第2計測位置P1、P2と、第1角度θ1と、に基づいて、回転軸35aから見た注目マーク94aのマーク位置を演算する。そして、演算(C)により求められた各アライメントマーク94、95のマーク位置を通る直線を求めることによって、主走査方向に対する基板90の傾きθ0(図7参照)を求める。
位置決め処理部72は、図5に示すように、信号線72aを介して、水平シリンダ44(44a〜44d)および垂直シリンダ46(46a〜46d)と電気的に接続されている。位置決め処理部72は、各位置決め部40(40a〜40d)のスライド部41(41a〜41d)を基板90の中心側に移動させることによって、載置部20に載置された基板90をプリアライメントする。
図8は、本実施の形態のアライメント手順を一例を説明するためのフローチャートである。ここでは、図8を参照しつつ、基板90のアライメント手順を説明する。なお、本手順の開始に先立って、基板90は、載置部20上に載置されているものとする。
以上のように、本実施の形態のアライメントユニット、およびこのアライメントユニットを含む基板処理装置1において、注目マークの第1計測位置P1は、初期位置P0から水平第1方向に沿って第1距離D1だけ離隔した位置となり、この第1距離D1は、回転軸35aおよび撮像領域51の位置関係によって規定される。
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
また、図10に示すように、アライメントマークは、矢印AR1方向に沿って第1距離D1だけ移動させ、矢印AR2方向に沿って第2距離D2だけ移動させた後、第2計測位置P2に移動させられても良い。図9および図10の場合についても、アライメントマークの移動距離を十分確保することができる。
10 基板搬送ユニット
20 載置部
30 水平駆動部
30a 固定部
35 回転駆動部
35a 回転軸
40(40a〜40d) 位置決め部
50(50a〜50d) 撮像部
51 撮像領域
60 塗布ユニット
70 制御ユニット
71 位置演算部
72 位置決め処理部
73 調整部
90 基板
94(94a〜94c)、95 アライメントマーク
P0 初期位置
P1 第1計測位置
P2 第2計測位置θ0 傾き
θ1 第1角度
Claims (4)
- ワーク上に形成された複数のマークに基づいて、前記ワークの姿勢を調整するアライメントユニットであって、
(a)前記ワークを載置する載置部と、
(b)水平第1方向に前記載置部を移動させる水平駆動部と、
(c)回転軸を中心として前記載置部を回転させる回転駆動部と、
(d)各々が、前記載置部の上方であって、前記水平第1方向と略垂直な水平第2方向に沿って配置された複数の撮像部と、
(e)前記複数の撮像部により撮像された画像に基づいて、前記ワーク上に形成された各マークの位置情報を演算する位置演算部と、
(f)前記位置演算部により演算された各マークの位置情報に基づき、前記載置部を回転させることによって、各撮像部に対する前記ワークの姿勢を調整する調整部と、
を備え、
前記複数の撮像部のそれぞれは、前記複数のマークのうちの対応マークを撮像し、
前記水平駆動部は、前記複数のマークのうちから選択された注目マークが、初期位置から第1計測位置に移動するように、前記載置部を前記水平第1方向に沿って第1距離だけ移動させ、
前記回転駆動部は、前記注目マークが、前記第1計測位置から第2計測位置に移動するように、前記載置部を第1角度だけ回転させ、
前記位置演算部は、
(i)前記注目マークが、前記初期位置から前記第1計測位置に移動した後に、前記複数の撮像部のうち前記注目マークに対応する対応撮像部にて撮像された第1撮像画像に基づいて、前記第1撮像画像の座標系における前記注目マークの第1計測位置を演算し、
(ii)前記注目マークが、前記第1計測位置から第2計測位置に移動した後に、前記対応撮像部により撮像された第2撮像画像に基づいて、前記第2撮像画像の座標系における前記第2計測位置を演算し、
(iii)演算された前記第1および第2計測位置と、前記第1角度と、に基づいて、前記回転軸から見た前記注目マークのマーク位置を演算するとともに、
前記第1距離は、前記載置部に載置されたワークが前記第1角度だけ回転させられる場合において、前記第1および第2計測位置が前記撮像領域内となるように、前記回転軸および前記撮像領域の位置関係に基づいて規定されることを特徴とするアライメントユニット。 - 請求項1に記載のアライメントユニットにおいて、
(g)前記ワークが前記載置部上の所望範囲内に載置されるように、前記載置部に対して前記ワークを位置決めする位置決め部、
をさらに備えることを特徴とするアライメントユニット。 - 請求項1または請求項2に記載のアライメントユニットと、
前記水平第2方向に沿って移動しつつ、前記載置部に載置された前記ワークに処理液を吐出する塗布ユニットと、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - ワーク上に形成された複数のマークに基づいて、前記ワークの姿勢を調整するアライメント方法であって、
前記ワークは、載置部に載置され、
前記複数のマークのそれぞれは、複数の撮像部のうち対応する撮像部により撮像され、
(a)前記複数のマークの中から選択された注目マークが、初期位置から第1計測位置に移動するように、前記載置部を前記水平第1方向に沿って第1距離だけ移動させる工程と、
(b)前記第1計測位置における前記注目マークが、前記複数の撮像部のうち対応する撮像部の撮像領域内となるように、第1撮像画像を撮像する工程と、
(c)前記工程(b)により撮像された前記第1撮像画像に基づいて、前記第1撮像画像の座標系における前記注目マークの第1計測位置を演算する工程と、
(d)前記注目マークが、前記第1計測位置から第2計測位置に移動するように、前記載置部に載置された前記ワークを第1角度だけ回転させる工程と、
(e)前記第2計測位置における前記注目マークが、前記撮像領域内となるように、前記注目マークを撮像する工程と、
(f)前記工程(e)により撮像された第2撮像画像に基づいて、前記第2撮像画像の座標系における前記第2計測位置を演算する工程と、
(g)工程(c)により演算された前記第1計測位置と、工程(f)により演算された前記第2計測位置と、前記第1角度と、に基づいて、前記載置部の回転軸から見た前記注目マークのマーク位置を演算する工程と、
(h)前記工程(a)〜工程(g)を繰り返し実行することによって各マークのマーク位置を演算するとともに、演算された各マーク位置に基づいて前記水平第2方向に対する前記ワークの傾きを演算する工程と、
(i)工程(h)により演算された前記ワークの前記傾きに基づいて、前記ワークの姿勢を調整する工程と、
を備え、
前記第1距離は、前記載置部に載置されたワークが前記第1角度だけ回転させられる場合において、前記第1および第2計測位置が前記撮像領域内となるように、前記回転軸および前記撮像領域の位置関係に基づいて規定されることを特徴とするアライメント方法。
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