CN107443883A - 对准装置及对准方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种对准装置及对准方法。该对准装置中，使承载图案的承载体(BL)与被转印图案的被转印体(SB)对向配置。基于拍摄承载体(BL)的外缘的至少一部分而得的结果，使第一保持设备(61)移动而将承载体(BL)定位在第一目标位置。基于拍摄被转印体(SB)的外缘中的至少一部分而得的结果，使第二保持设备(41)移动而将被转印体(SB)定位在规定的第二目标位置。拍摄形成在承载体(BL)的第一对准标记及形成在被转印体的第二对准标记，基于其拍摄结果使第一保持设备(61)及第二保持设备(41)中的至少一者移动，对承载体(BL)与被转印体(SB)进行位置对准。

Description

对准装置及对准方法

相关分案申请

本申请案是发明名称为“图案形成装置及图案形成方法、以及对准装置及对准方法”、申请号为201410060525.4的发明专利申请案的分案申请，原申请案的申请日是2014年02月21日。

技术领域

本发明涉及一种对于以彼此的主面邻近对向的方式保持的两个物体进行位置对准的技术，尤其涉及一种对准装置及对准方法。

背景技术

存在如下所述的技术领域：将两个物体以使它们的主面彼此邻近对向的状态且以规定的位置关系予以配置。例如作为在玻璃(galss)基板或半导体基板等基板形成图案(pattern)的技术，例如有如专利文献1中所记载般，使承载图案的承载体密接于被转印体(基板)而转印图案的技术。在这种转印技术中，为了适当地管理向被转印体的图案转印位置，转印前的承载体与被转印体的位置对准变得重要。作为这种用于两个物体的位置对准的技术，例如有专利文献2至专利文献4中所记载的技术。

在这些技术中，在使分别预先形成着对准标记(alignment mark)的两个物体(承载体及被转印体)邻近对向配置的状态下，利用相机拍摄这些对准标记。然后，根据图像内的对准标记的位置关系求出两个物体间的相对的位置偏移量，使两个物体相对移动以修正该位置偏移，由此，进行位置对准。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2010-158799号公报

[专利文献2]日本专利特开2009-212489号公报

[专利文献3]日本专利特开2006-172930号公报

[专利文献4]日本专利特开2004-342642号公报

近年来，要求设备进一步薄型化及大型化，并且也要求图案的高精细化。因此，对于基板等板状体的位置对准也开始要求更高的精度。然而，就所述现有技术而言有时难以应对这种要求。例如为了基于拍摄结果实现高精度的位置对准，必须提高拍摄设备的分辨率，但这样一来，拍摄范围必然变狭窄。另一方面，为了将拍摄设备用于粗略的位置对准，需要更广泛的拍摄范围，但难以同时实现高分辨率及广泛的拍摄范围。而且，为了构成高分辨率且拍摄范围广泛的拍摄设备，成本提高。

而且，例如必须预先将承载体或被转印体的位置校准到至少对准标记位于拍摄视场内的程度的位置。为了这一目的，通常进行预对准(prealignment)处理。作为这种相对粗略的位置对准，先前例如采用如下方法等：通过使承载体或被转印体等物体碰撞设置在装置内的适当位置的位置限制构件而进行布局；或在装置外部将位置已预先对准的物体搬入到装置内的规定位置。然而，近年来，由于要求图案的细致化，所以对准标记的尺寸变小，而且，所要求的位置精度也变得微细。因此，在拍摄中使用高分辨率且高倍率的相机，由此导致拍摄视场变小。另一方面，所处理的物体也进一步大型化，由此导致物体的重量也增大而容易发生弯曲，因此，就机械性的位置限制而言，难以将承载体或被转印体等定位在适当位置。

发明内容

本发明是鉴于所述课题而完成，其目的在于提供一种可使应邻近对向的两个物体、例如承载图案的承载体及被转印该图案的被转印体高精度地进行位置对准的对准技术及利用该对准技术的图案形成技术。

为了达成所述目的，本发明的图案形成装置的第一实施方式包括：第一保持设备，保持由图案承载面承载图案的承载体；第二保持设备，以使被转印面与所述承载体的所述图案承载面对向的方式，保持包括被转印所述图案的所述被转印面的被转印体；第一移动设备，使所述第一保持设备与所述图案承载面平行地移动；第二移动设备，使所述第二保持设备与所述被转印面平行地移动；预对准(pre-alignment)设备，拍摄由所述第一保持设备保持的所述承载体的外缘的至少一部分，基于其拍摄结果使所述第一移动设备作动而将所述承载体定位在规定的第一目标位置，并且拍摄由所述第二保持设备保持的所述被转印体的外缘的至少一部分，基于其拍摄结果使所述第二移动设备作动而将所述被转印体定位在规定的第二目标位置；以及精密对准设备，拍摄形成在定位于所述第一目标位置的所述承载体的第一对准标记及形成在定位于所述第二目标位置的所述被转印体的第二对准标记，基于其拍摄结果使所述第一保持设备及所述第二保持设备中的至少一者作动，对所述承载体与所述被转印体进行位置对准。

而且，为了达成所述目的，本发明的图案形成方法的第一实施方式包括：配置步骤，利用第一保持设备保持承载图案的承载体，并且利用第二保持设备保持被转印所述图案的被转印体，使所述承载体的图案承载面与所述被转印体的被转印面对向地配置；预对准步骤，拍摄所述承载体的外缘的至少一部分，基于其拍摄结果使所述第一保持设备移动而将所述承载体定位在规定的第一目标位置，并且拍摄所述被转印体的外缘中的至少一部分，基于其拍摄结果使所述第二保持设备移动而将所述被转印体定位在规定的第二目标位置；以及精密对准步骤，拍摄形成在所述承载体的第一对准标记及形成在所述被转印体的第二对准标记，基于其拍摄结果使所述第一保持设备及所述第二保持设备中的至少一者移动，对所述承载体与所述被转印体进行位置对准。

在这样构成的发明中，拍摄由第一保持设备保持的承载体及由第二保持设备保持的被转印体的各外缘，基于其拍摄结果，第一移动设备及第二移动设备使承载体及被转印体移动到各目标位置。这里，只要可检测出承载体及被转印体的外缘的位置即可，相较于高分辨率，拍摄视场广泛来得更佳。

即便这时对各目标位置的定位精度未必高，也可使形成在承载体的第一对准标记及形成在被转印体的第二对准标记的位置位于某种程度的范围内。即，通过适当地设定第一目标位置及第二目标位置，能以第一对准标记及第二对准标记成为可由精密对准设备拍摄的位置的方式进行位置调整。因此，精密对准设备的拍摄视场可相对狭窄，由此，能以高分辨率进行拍摄，且可获得高的位置对准精度。

这些情况下的承载体及被转印体是通过使保持它们的第一保持设备及第二保持设备移动而与第一保持设备及第二保持设备一并进行移动。因此，即便为大型且有重量的承载体或被转印体，也可使它们不变形而确实地移动到目标位置。

这样一来，在本发明的第一实施方式中，可通过不使用对准标记的预对准来使第一对准标记及第二对准标记移动到规定的范围内。而且，可通过使用以所述方式在某种程度上限定位置的第一对准标记及第二对准标记的精密对准，实现更高精度的位置对准。因此，可对承载图案的承载体及被转印该图案的被转印体高精度地进行位置对准。

在本发明中，精密对准设备例如也可构成为可在同一视场内同时拍摄第一对准标记及第二对准标记。通过在同一视场内拍摄分别形成在承载体及被转印体的对准标记，能以更良好的精度来掌握两者的位置关系，并可更高精度地对承载体与被转印体进行位置对准。

而且，例如第一保持设备以如下方式构成：保持承载体的周缘部，以使图案承载面朝上的水平姿势且以使比周缘部靠内侧的中央部的下方敞开的状态保持承载体；且图案形成装置的构成也可为还包括推顶设备，所述推顶设备是通过从下方推顶承载体的中央部而使由承载体承载的图案抵接于被转印体的被转印面。在这种构成中，由第一保持设备保持着周缘部的承载体的中央部因自重而朝下弯曲，且即便欲从侧方推挤承载体使其移动也会被弯曲吸收，而难以进行位置对准。在这种情况下，通过应用本发明，其效果尤其显著。

而且，例如也可为如下构成：预对准设备包括拍摄承载体及被转印体的外缘的预对准用拍摄部，另一方面，精密对准设备包括以高于预对准用拍摄部的分辨率拍摄第一对准标记及第二对准标记的精密对准用拍摄部。这样一来，可根据目的而包括分辨率不同的拍摄部，由此，能使装置成本与所需的性能平衡。

在该情况下，精密对准用拍摄部也可例如包括倍率固定的摄像光学系统。使倍率可变的情况下的光轴偏移或高倍率时的图像的失真(distortion)等会成为检测精度降低的原因，但通过使倍率固定，可避免这种问题且可实现对准标记的高精度的位置检测、及基于该位置检测的高精度的位置对准。

另一方面，预对准设备的构成也可为例如包括多个预对准用拍摄部，多个所述预对准用拍摄部分别拍摄承载体的外缘中的互不相同的多个部位及被转印体的外缘的互不相同的多个部位。通过在多个部位拍摄承载体及被转印体的外缘，可掌握它们在面内的位置偏移量，从而可更确实地向目标位置移动。

而且，在本发明的图案形成方法中，优选的是在精密对准步骤中，将第一对准标记处于进行拍摄的拍摄部的视场内的承载体的位置设为第一目标位置，另一方面，将第二对准标记处于拍摄部的视场内的被转印体的位置设为第二目标位置。这样一来，可通过执行预对准步骤而确实地将两对准标记位于拍摄部的视场内，并且可通过执行精密对准步骤而实现承载体与被转印体的高精度的位置对准。

而且，例如在预对准步骤中，也可拍摄承载体的外缘中的互不相同的多个部位而求出承载体相对于第一目标位置的位置偏移量，使第一保持设备相应于该位置偏移量而移动，另一方面，拍摄被转印体的外缘中的互不相同的多个部位而求出被转印体相对于第二目标位置的位置偏移量，使第二保持设备相应于该位置偏移量而移动。这样一来，可与所述图案形成装置的发明同样地，掌握承载体及被转印体在面内的位置偏移量，从而可更确实地向目标位置移动。

而且，也可包括转印步骤，该转印步骤是在精密对准步骤之后，使承载体与被转印体抵接而将图案从承载体转印至被转印体。使承载体与被转印体在经精度良好地进行位置对准的状态下抵接而进行图案转印，由此，可在被转印体的适当位置形成图案。

而且，本发明的图案形成装置的第二实施方式是一种图案形成装置，该图案形成装置是使由第一保持设备保持的承载体的主面中的可承载图案的一面与由第二保持设备保持的板状体的一面相互挤压而形成图案，为了达成所述目的，该图案形成装置包括：移动设备，使所述第二保持设备与所述板状体的一面平行地移动；拍摄设备，拍摄由所述第二保持设备保持的所述板状体的外缘的至少一部分；以及预对准设备，在形成所述图案前，基于所述拍摄设备的拍摄结果，在利用所述第二保持设备保持所述板状体的状态下使所述移动设备作动，将所述板状体定位在目标位置。

而且，为了达成所述目的，本发明的图案形成方法的第二实施方式包括：第一步骤，在使承载体的主面中的可承载图案的一面与板状体的一面相互对向的状态下，利用第一保持设备保持所述承载体，并且利用第二保持设备保持所述板状体；以及第二步骤，使所述第一保持设备及所述第二保持设备中的至少一者移动，使所述承载体的一面与所述板状体的一面相互挤压而形成图案；且所述第一步骤包括预对准步骤，该预对准步骤是拍摄由所述第二保持设备保持的所述板状体的外缘的至少一部分，基于其拍摄结果而使所述第二保持设备在保持所述板状体的状态下与所述板状体的一面平行地移动，而将所述板状体定位在目标位置。

在这样构成的发明中，使由第一保持设备保持的承载体的一面与由第二保持设备保持的板状体的一面相互挤压而形成图案，但在这之前，板状体已以由第二保持设备保持的状态定位在目标位置。即，在利用第二保持设备保持板状体的状态下执行预对准。因此，即便在利用第二保持设备保持板状体之前发生的搬送位置偏移或板状体的弯曲等产生影响，也可通过预对准而消除这些影响，从而可将板状体确实地定位在目标位置。结果，可提高图案形成的精度。

这里，在板状体具有多边形形状的情况下，也可构成为执行如下步骤而执行预对准，所述步骤是指：倾斜修正步骤，拍摄作为规定板状体的形状的一条边的第一边上的互不相同的多个部位，基于其拍摄结果而修正板状体相对于目标位置的倾斜；及偏移修正步骤，拍摄规定倾斜经修正的板状体的形状的边中的与第一边不平行的第二边及第一边，基于其拍摄结果而修正板状体相对于目标位置的偏移(offset)。由此，可将多边形形状的板状体准确地定位在目标位置。

而且，也可在执行这些倾斜修正步骤及偏移修正步骤之前，对利用第二保持设备将板状体保持在目标位置时的第一边及第二边进行拍摄，将根据其拍摄结果所获得的与目标位置有关的信息记忆为目标位置信息。而且，在倾斜修正步骤中，基于根据拍摄结果所获得的与板状体的位置有关的信息及目标位置信息而求出板状体相对于目标位置的倾斜量，通过对应于倾斜量的第二保持设备的移动而修正板状体相对于目标位置的倾斜。而且，在偏移修正步骤中，也可基于根据拍摄结果所获得的与板状体的位置有关的信息及目标位置信息，求出板状体相对于目标位置的偏移量，通过对应于偏移量的第二保持设备的移动而修正板状体相对于目标位置的偏移。通过这样基于根据拍摄结果所获得的信息及目标位置信息进行两阶段的修正处理，能以高精度将多边形形状的板状体定位在目标位置。

而且，在将在一面设置着第一图案的版设为板状体，利用该第一图案使承载体的一面图案化的情况下，在利用第一保持设备保持承载体后，也可不对第一保持设备与通过预对准步骤而定位在目标位置的版进行位置对准，使承载体的一面与版的一面相互挤压，而将第一图案转印至承载体的一面。这也是因为通过预对准使版(板状体)定位在目标位置，因此在承载体与版之间未发生大的位置偏移，而且，即便发生少许的位置偏移也不会对承载体的一面的图案化本身带来影响。

对此，在将设置在承载体的一面的第二图案转印至作为板状体之一的基板的情况下，理想的是除执行预对准外还执行精密对准。即，在承载体具有第一对准标记并且在承载体的一面设置着第二图案，且板状体为具有第二对准标记的基板的情况下，理想的是执行如下两个步骤，即：精密对准步骤，对由第一保持设备保持的承载体的第一对准标记、及通过预对准步骤而定位在目标位置的基板的第二对准标记进行拍摄，基于其拍摄结果使第一保持设备及第二保持设备中的至少一者移动而对承载体与基板进行位置对准；以及转印步骤，在精密对准步骤后，使承载体的一面与板状体的一面相互挤压而将第二图案转印至基板的一面。

此外，为了较好地拍摄板状体的外缘，也可如下述般构成。即，也可构成为：第二保持设备包括吸附保持板状体的另一面的中央部的保持平面，且以板状体的外缘从保持平面伸出的状态保持板状体，拍摄设备相对于板状体从与第一保持设备为相反侧的一侧拍摄板状体的外缘。由此，可不干涉第一保持设备或承载体地配置拍摄设备，从而能良好地拍摄板状体的外缘。

为了达成所述目的，本发明的对准装置包括：第一保持设备，保持形成着第一对准标记且具有光透过性的第一板状体，可使所述第一板状体在与其主面平行的方向移动；第二保持设备，使形成着第二对准标记的第二板状体保持相对于所述第一板状体平行且隔着规定的间隙而邻近对向的状态，可使所述第二板状体在与其主面平行的方向移动；主拍摄设备，相对于所述第一板状体，以光轴与所述第一板状体的主面正交的方式配置在与所述第二板状体为相反侧的一侧，拍摄所述第一板状体及所述第二板状体；以及副拍摄设备，相对于所述第一板状体设置在与所述第二板状体为相反侧的一侧，以比所述第一拍摄设备的拍摄范围更广泛的拍摄范围对所述第一板状体及所述第二板状体进行拍摄；且，基于所述副拍摄设备的拍摄结果，所述第一保持设备使所述第一板状体移动定位在所述第一对准标记处于所述主拍摄设备的拍摄范围的位置，另一方面，基于所述副拍摄设备的拍摄结果，所述第二保持设备使所述第二板状体移动定位在所述第二对准标记处于所述主拍摄设备的拍摄范围的位置，进而，基于所述主拍摄设备的拍摄结果，所述第一保持设备及所述第二保持设备中的至少一者使所述第一板状体与所述第二板状体的相对位置变化，以使所述第二对准标记相对于所述第一对准标记的相对位置成为预先规定的目标位置。

而且，为了达成所述目的，本发明的对准方法包括：配置步骤，使形成着第一对准标记且具有光透过性的第一板状体、及形成着第二对准标记的第二板状体相互平行地且隔着规定的间隙地邻近对向配置，并且相对于所述第一板状体，在与所述第二板状体为相反侧的一侧，以光轴与所述第一板状体的主面正交的方式配置主拍摄设备；预对准步骤，相对于所述第一板状体从与所述第二板状体为相反侧的一侧，利用具有比所述主拍摄设备的拍摄范围更广泛的拍摄范围的副拍摄设备，在同一视场内拍摄所述第一对准标记与所述第二对准标记，基于其拍摄结果，将所述第一板状体及所述第二板状体定位在所述第一对准标记及所述第二对准标记均处于所述主拍摄设备的拍摄范围的位置；以及精密对准步骤，利用所述主拍摄设备在同一视场内拍摄所述第一对准标记及所述第二对准标记，基于其拍摄结果，使所述第一板状体与所述第二板状体相对移动，以使所述第二对准标记相对于所述第一对准标记的相对位置成为预先规定的目标位置。

在这些发明中，通过基于利用拍摄范围广泛的副拍摄设备所拍摄出的结果，使第一板状体及第二板状体移动，而将第一对准标记及第二对准标记定位在主拍摄设备的拍摄范围内。因此，即便拍摄范围相对狭窄的主拍摄设备也可确实地在同一视场内拍摄第一对准标记及第二对准标记。而且，基于利用主拍摄设备所拍摄的结果，对第一板状体与第二板状体进行位置对准。就从斜向进行的拍摄而言，将两片板状体间的间隙(gap)变动表现为拍摄结果中的对准标记的相对位置的变动，因此间隙调整的精度对位置对准的精度造成影响。对此，在本发明中，主拍摄设备的光轴设定在与第一板状体的主面正交的方向，因此可实现不受间隙变动的影响的高精度的位置对准。而且，无需扩大主拍摄设备的拍摄范围，因此例如可通过增大拍摄时的放大倍率，而提高第一板状体与第二板状体之间的位置检测精度。

而且，对于主拍摄设备而言，无需广泛的拍摄范围，另一方面，对于副拍摄设备而言，无需高分辨率，进而在这些拍摄设备中不需要使拍摄范围或放大倍率可变的构成，因此能以低成本构成装置。

在这些发明中，优选的是以其光轴与第一板状体的主面斜交的方式设置副拍摄设备。这样一来，利用副拍摄设备所估测的第一板状体的表面积比使光轴与第一板状体的主面正交时的更广泛。即，可扩大副拍摄设备的拍摄范围。而且，通过将光轴设定在与主拍摄设备的光轴方向不同的方向，可使主拍摄设备与副拍摄设备相互不干涉地进行拍摄。

而且，也可使副拍摄设备的拍摄范围包含主拍摄设备的拍摄范围的至少一部分。通过以与主拍摄设备的拍摄范围重复的方式设定副拍摄设备的拍摄范围，而在将第一对准标记及第二对准标记位于副拍摄设备的拍摄范围内的状态下，使第一板状体及第二板状体基于副拍摄设备的拍摄结果而移动，因此移动后的第一板状体及第二板状体的位置的确认变得容易。

而且，例如主拍摄设备也可包括倍率固定的放大光学系统。对于主拍摄设备而言，无需广泛的拍摄范围，因此，通过使用放大光学系统进行拍摄范围被限定但为高倍率的拍摄，可提高第一板状体与第二板状体的相对位置的检测精度，从而可提高位置对准精度。通过将倍率固定，可不发生在倍率可变的情况下成为问题的光轴的偏移等而实现高倍率的拍摄。

而且，例如，主拍摄设备也可具有比副拍摄设备更高的分辨率。通过使主拍摄设备为高分辨率，可提高位置检测精度。另一方面，就副拍摄设备而言，只要具有可检测第一对准标记及第二对准标记的大致位置的程度的分辨率即可，可使用分辨率相对低的拍摄设备从而减少装置成本。

而且，例如也可使副拍摄设备的景深比主拍摄设备的景深更深，且副拍摄设备使第一对准标记及第二对准标记均处于聚焦范围而进行拍摄。对于副拍摄设备而言，无需高的放大倍率，因此可使用具有相对深的景深的摄像光学系统的拍摄设备。因此，即便在隔着间隙地配置第一板状体与第二板状体的情况下，也可在将第一对准标记与第二对准标记一并位于聚焦范围内的状态下进行拍摄。而且，这样一来，可提高基于副拍摄设备的拍摄结果的第一板状体及第二板状体的位置检测精度，且可更确实地使第一对准标记及第二对准标记位于主拍摄设备的拍摄范围内。

而且，例如也可设置拍摄范围彼此不同的多个主拍摄设备、及拍摄范围彼此不同的多个副拍摄设备。根据这种构成，可将第一对准标记及第二对准标记分别设置在第一板状体及第二板状体的多个部位而供进行位置对准，因此可更提高位置对准的精度。

而且，例如也可使第一板状体及第二板状体中的至少一者在预对准步骤与精密对准步骤中向大致相同的方向移动。作为用以使第一板状体及第二板状体移动的机构，可使用各种机构，但在预对准步骤中，使移动对象板状体向某个方向移动后，在精密对准步骤中也使其向大致相同的方向移动，由此，可抑制因移动机构的后退(backlash)而导致的定位精度的降低，从而可实现高精度的位置对准。

[发明的效果]

如上所述，根据本发明的图案形成装置及图案形成方法的第一实施方式，通过拍摄承载体及被转印体的外缘而不利用对准标记地进行大致的位置对准，并且拍摄承载体的第一对准标记及被转印体的第二对准标记而进行更精密的位置对准。这样一来，可高精度地对承载体与被转印体进行位置对准。

而且，根据本发明的图案形成装置及图案形成方法的第二实施方式，在利用第二保持设备保持板状体的状态下使第二保持设备与板状体的一面平行地移动而执行板状体向目标位置的定位、即预对准。因此，即便在利用第二保持设备保持板状体之前发生搬送位置偏移或板状体的弯曲等，也可通过预对准而将板状体确实地定位在目标位置，从而能以优良的精度进行图案形成。

而且，根据本发明的对准装置及对准方法，可利用拍摄范围相对广泛的副拍摄设备来对形成在第一板状体的第一对准标记及形成在第二板状体的第二对准标记进行拍摄，将它们定位在更狭窄的主拍摄设备的拍摄范围内，然后，利用使光轴与第一板状体的主面正交的主拍摄设备，拍摄第一对准标记及第二对准标记。因此，可高精度地基于主拍摄设备的拍摄结果而对第一板状体与第二板状体进行位置对准。

附图说明

图1是表示本发明的图案形成装置的第一实施方式的立体图。

图2是表示该图案形成装置的控制系统的框(block)图。

图3是表示下平台(stage)区块的结构的立体图。

图4是表示升降手(hand)单元(unit)的结构的图。

图5是表示转印辊(roller)单元的结构的图。

图6是表示上平台组件(assembly)的结构的图。

图7是表示图案形成处理的流程图(flowchart)。

图8(a)、图8(b)、图8(c)是示意性地表示处理的各阶段中的装置各部的位置关系的第一图。

图9(a)、图9(b)、图9(c)是示意性地表示处理的各阶段中的装置各部的位置关系的第二图。

图10(a)、图10(b)是示意性地表示处理的各阶段中的装置各部的位置关系的第三图。

图11(a)、图11(b)、图11(c)是示意性地表示处理的各阶段中的装置各部的位置关系的第四图。

图12(a)、图12(b)、图12(c)是示意性地表示处理的各阶段中的装置各部的位置关系的第五图。

图13(a)、图13(b)、图13(c)是示意性地表示处理的各阶段中的装置各部的位置关系的第六图。

图14是表示版或基板与橡皮布的位置关系的图。

图15(a)、图15(b)、图15(c)是示意性地表示处理的各阶段中的装置各部的位置关系的第七图。

图16(a)、图16(b)是用以说明对准处理的原理的图。

图17是用以说明预对准的原理的第一图。

图18(a)、图18(b)是用以说明预对准的原理的第二图。

图19(a)、图19(b)、图19(c)是示意性地表示上平台区块及基板用预对准相机(camera)的大致构成的图。

图20(a)、图20(b)是示意性地表示(-X)侧的上平台区块支撑机构的构成的图。

图21(a)、图21(b)是示意性地表示(+X)侧的上平台区块支撑机构的构成的图。

图22(a)、图22(b)、图22(c)、图22(d)是示意性地表示版的预对准处理的图。

图23(a)、图23(b)是说明第二实施方式的装置中的预对准处理的图。

图24(a)、图24(b)是表示预对准相机及对准相机的聚焦范围的图。

图25是表示第二实施方式的对准处理的流程图。

图26(a)、图26(b)是例示伴随对准处理的对准标记的移动的形态的图。

[符号的说明]

1：图案形成装置、对准装置

2：主框架

4：上平台区块

6：下平台区块

8：控制单元(预对准设备、精密对准设备)

21：底座框架

22、23：上平台支撑框架

25：预对准相机(副拍摄设备)

27：对准相机(精密对准设备、精密对准用拍摄部、主拍摄设备)

40：上平台组件

41：上平台(第二保持设备)

41a：保持平面

42：增强框架

43：梁状结构体

44：上部吸附单元

45、46：支撑柱

47、447、624、628、644：升降机构

61：下平台(第一保持设备)

61a：下平台的上表面

62、63：升降手单元

64：转印辊单元(推顶设备)

241～243：基板用预对准相机(拍摄设备、预对准设备、预对准用拍摄部)

244～246：橡皮布用预对准相机(预对准设备、预对准用拍摄部)

421、422：增强肋

441、642：支撑框架

442：管

443：吸附垫

444、482c、482h、627：滑块

445、451、461、482b、482g、626、646、6211、6221：导轨

446、481、4811、4812：底板

482(4821、4822)：上平台区块支撑机构(移动设备、第二移动设备)

482a：基座构件

482d：Y轴用滚珠螺杆支架

482e：Y轴用滚珠螺杆

482f：Y轴用马达

482m：X轴用马达

482n：交叉滚轮轴承

482j：X轴用滚珠螺杆

482k：X轴用滚珠螺杆支架

482p：支架

601：对准平台

602：支柱

603：平台支撑板

605：对准平台支撑机构(第1移动设备)

611：开口窗

612：槽

613：挡块构件

621、622：支柱

623：滑座

625：手

625a：手的上表面

625b：吸附孔

641：转印辊

643：支承辊

644a：基座部

644b：支撑脚

645：下部框架

647：移动机构

801：CPU(中央处理器)

802：马达控制部

803：阀控制部

804：负压供给部

805：图像处理部

806：气体供给部

AMb：橡皮布侧对准标记(第一对准标记)

AMs：基板侧对准标记(第二对准标记)

AR：有效区域

AX1、AX2：光轴

BL、BLi：橡皮布(承载体、第二板状体)

E1～E4：边

FR1、FR2：聚焦范围

FV：视场

FV1、FV2：拍摄范围

G：间隙

HB：橡皮布用手

HP：版用手

HS：基板用手

IR1、IR2、IR3、IR4、IR5、IR6：区域

IM1、IM2：拍摄元件

LU1、LU2：透镜单元

S101～S106、S110、S113：步骤

S107～S108：配置步骤

S109：预对准步骤

S111：精密对准步骤

S112：转印步骤

S201：配置步骤

S202～S205：预对准步骤

S206～S211：精密对准步骤

SB：基板(被转印体、板状体、第一板状体)

SP：处理空间

P1、P2、P3、P4、X40、X50、X41、X51、X42、X52、X43、X53、Y60、Y61、Y62、Y63：位置

PP：版(板状体、第一板状体)

PT：涂布层

R1：橡皮布中的在图中附有点且靠近周缘部的区域

R2：推挤区域

X、Y、Z：方向

X10、X11、X20、X21、Y30、Y31：距离

Xoff、Yoff、ΔX0、ΔX1、ΔX2：偏移量

α：角度

具体实施方式

<第1实施方式>

图1是表示本发明的图案形成装置的第一实施方式的立体图。而且，图2是表示该图案形成装置的控制系统的框图。该图案形成装置1也具有作为本发明的对准装置的功能。此外，在图1中，为了表现出装置的内部构成而表示已去除外部罩体(cover)的状态。为了统一地表示各图中的方向，如图1右下所示，设定XYZ正交座标轴。这里，XY平面表示水平面，Z轴表示铅垂轴。更详细来说，(+Z)方向表示铅垂朝上方向。从装置观察时的前面方向为(-Y)方向，包含物品的搬入搬出的从外部向装置的进出(access)是沿Y轴方向进行。

该图案形成装置1具有上平台区块4及下平台区块6安装着主框架(main frame)2的结构。在图1中，为了明确表示各区块的区别，对上平台区块4标注间距(pitch)粗的点，而且，对下平台区块6标注间距细的点。除所述以外，图案形成装置1包括根据预先记忆的处理程序(program)来控制装置各部并执行规定动作的控制单元8(图2)。关于上平台区块4及下平台区块6的详细构成将在下文进行说明，首先，说明装置1的整体构成。

图案形成装置1是通过使由下平台区块6保持的橡皮布(blanket)BL、与由上平台区块4保持的版PP或基板SB相互抵接而进行图案形成的装置。更具体来说，利用该装置1的图案形成过程是如下所述。首先，使对应于应形成的图案而制成的版PP抵接于均匀地涂布着图案形成材料的橡皮布BL，由此使承载在橡皮布BL上的涂布层图案化(图案化处理)。然后，使以所述方式图案化的橡皮布BL与基板SB抵接，由此，将承载在橡皮布BL上的图案转印至基板SB(转印处理)。由此，在基板SB上形成所期望的图案。

这样一来，该图案形成装置1可用于在基板SB形成规定图案的图案形成过程中的图案化处理及转印处理这两个处理，但也能以仅承担这些处理中的一个处理的形态使用。

图案形成装置1的下平台区块6是由主框架2的底座框架(base frame)21支撑。另一方面，上平台区块4安装于一对上平台支撑框架22、上平台支撑框架23，该一对上平台支撑框架22、上平台支撑框架23是以从X方向夹着下平台区块6的方式从底座框架21竖立设置且沿Y方向延伸。

而且，在主框架2上安装着用于对被搬入至装置的版PP、基板SB及橡皮布BL进行位置检测的预对准相机。具体来说，用于在不同的三个部位对沿Y轴方向搬入至装置的版PP或基板SB的边缘(edge)进行检测的三台基板用预对准相机241、基板用预对准相机242、基板用预对准相机243分别安装于从上平台支撑框架22、上平台支撑框架23竖立设置的悬臂(boom)。同样地，用于在不同的三个部位对沿Y轴方向搬入至装置的橡皮布BL的边缘进行检测的三台橡皮布用预对准相机244、橡皮布用预对准相机245、橡皮布用预对准相机246分别安装于从上平台支撑框架22、上平台支撑框架23竖立设置的悬臂。此外，在图1中，未出现位于上平台区块4的背后的一台橡皮布用预对准相机246。而且，在图2中，为方便起见，分别将版及基板用预对准相机简单记为“基板用PA相机”、将橡皮布用预对准相机简单记为“橡皮布用PA相机”。

图3是表示下平台区块的结构的立体图。在下平台区块6中，在中央部开口的板状的对准平台601的四角分别沿铅垂方向(Z方向)竖立设置着支柱602，利用这些支柱602来支撑平台支撑板603。虽然省略了图示，但在对准平台601的下部，设置着具有以沿铅垂方向Z延伸的旋转轴为旋转中心的旋转方向(以下称为“θ方向”)、X方向及Y方向的三种自由度的例如交叉滚轮轴承(cross roller bearing)等对准平台支撑机构605(图2)，对准平台601是经由该对准平台支撑机构605而安装于底座框架21。因此，利用对准平台支撑机构605的作动，使对准平台601可相对于底座框架21沿X方向、Y方向及θ方向在规定的范围内进行移动。

在平台支撑板603的上部，配置着上表面成为与大致水平面一致的平面且在中央部形成着开口窗611的环状矩形的下平台61。在下平台61的上表面载置着橡皮布BL，下平台61保持该橡皮布BL。

关于开口窗611的开口尺寸，必须大于橡皮布BL的表面区域中的作为图案形成区域而有效地发挥功能的中央部的有效区域(未图示)的平面尺寸。即，在将橡皮布BL载置在下平台61时，必须成为如下的状态：橡皮布BL下表面中的对应于有效区域的区域整体面向开口窗611，且有效区域的下方为完全敞开。而且，利用图案形成材料而形成的涂布层是以至少覆盖有效区域整体的方式形成。

在下平台61的上表面61a，以分别沿着开口窗611的周缘各边的方式设置着多个槽612，各槽612是经由未图示的控制阀(valve)而连接于控制单元8的负压供给部804。各槽612配置在平面尺寸比橡皮布BL的平面尺寸小的区域内。而且，如图中的一点链线所示，橡皮布BL是以覆盖这些槽612全部的方式载置在下平台61。而且，为了实现所述配置，在下平台上表面61a适当配置着橡皮布BL的位置限制用挡块(stopper)构件613。

通过对各槽612供给负压而使各槽612作为真空吸附槽发挥功能，这样将橡皮布BL的周缘部的四边吸附保持在下平台61的上表面61a。通过利用相互独立的多个槽612构成真空吸附槽，即便因某些原因而使一部分的槽产生真空破坏也可维持其他槽对橡皮布BL的吸附，因此可确实地保持橡皮布BL。而且，与设置单独的槽的情况相比，能以更强的吸附力吸附橡皮布BL。

在下平台61的开口窗611的下方，设置着用以使橡皮布BL沿Z轴方向上下移动的升降手单元62、升降手单元63、以及从下方抵接于橡皮布BL并将其推顶的转印辊单元64。

图4是表示升降手单元的结构的图。两个升降手单元62、升降手单元63的结构相同，因此，这里对其中一个升降手单元62的结构进行说明。升降手单元62包括从底座框架21沿Z方向竖立设置的两根支柱621、支柱622，板状的滑座(slide base)623相对于这些支柱621、支柱622可上下移动地安装。更具体来说，对于两根支柱621、支柱622分别安装着沿铅垂方向(Z方向)延伸的导轨6211、导轨6221，且使安装于滑座623的背面、即(+Y)侧主面的未图示的滑块(slider)滑动自如地安装于导轨6211、导轨6221。而且，例如包括马达(motor)及滚珠螺杆(ball screw)机构等适当的驱动机构的升降机构624会根据来自控制单元8的控制指令而使滑座623上下移动。

在滑座623，上下移动自如地安装着多只(在该例中为4只)手625。除了基座部分的形状对应于配设位置而有所不同以外，各手625的结构基本上相同。各手625固定在滑块627上，该滑块627滑动自如地卡合于沿铝垂方向(Z方向)安装在滑座623的前面、即(-Y)侧主面的导轨626。滑块627连结于安装在滑座623的背面的例如包括无杆缸(rodless cylinder)等适当的驱动机构的升降机构628，且通过该升降机构628的作动而相对于滑座623沿上下方向移动。在各手625分别设置着独立的升降机构628，而可使各手625个别地上下移动。

即，在升降手单元62中，可通过升降机构624使滑座623上下移动而使各手625一体地升降，并且可通过各升降机构628独立地作动而使各手625个别地升降。

手625的上表面625a加工成为以Y方向为长度方向的细长的平面状，可使该上表面625a抵接于橡皮布BL的下表面而支撑橡皮布BL。而且，在上表面625a设置着经由未图示的配管及控制阀而与设置在控制单元8的负压供给部804连通的吸附孔625b。由此，可视需要对吸附孔625b供给来自负压供给部804的负压，而由手625的上表面625a吸附保持橡皮布BL。因此，可防止利用手625支撑橡皮布BL时的滑动。

而且，对吸附孔625b经由未图示的配管及控制阀从控制单元8的气体(gas)供给部806视需要供给适当的气体、例如干燥空气或惰性气体等。即，通过由控制单元8控制的各控制阀的开闭，而选择性地对吸附孔625b供给来自负压供给部804的负压及来自气体供给部806的气体。

在将来自气体供给部806的气体供给至吸附孔625b时，从吸附孔625b喷出少量气体。由此，在橡皮布BL的下表面与手上表面625a之间形成微小的间隙，手625成为一面从下方支撑橡皮布BL，一面从橡皮布BL下表面隔开的状态。因此，可一面利用各手625支撑橡皮布BL，一面使橡皮布BL不会摩擦各手625地沿水平方向移动。此外，也可将气体喷出孔与吸附孔625b分开地设置在手上表面625a。

返回到图3，在下平台区块6中，以使手625朝内且在Y方向相对向的方式使具有如上所述的构成的升降手单元62、升降手单元63对向配置。在各手625最大程度地下降的状态下，手上表面625a位于下平台上表面61a的更下方、即自下平台上表面61a向(-Z)方向大幅度地后退的位置。另一方面，在各手625最大程度地上升的状态下，各手625的前端成为从下平台61的开口窗611向上方突出的状态，手上表面625a到达下平台上表面61a的更上方、即自下平台上表面61a向(+Z)方向突出的位置。

而且，在从上方观察时，在两个升降手单元62、升降手单元63的相互对向的手625的前端彼此之间设置着固定的间隔，使它们不会接触。而且，如下所述，转印辊单元64是利用该间隙而沿X方向移动。

图5是表示转印辊单元的结构的图。转印辊单元64包括：转印辊641，为沿Y方向延伸的圆筒状的辊构件；支撑框架642，沿该转印辊641的下方在Y方向延伸且在其两端部旋转自如地支撑转印辊641；以及升降机构644，包括适当的驱动机构且使支撑框架642沿Z方向上下移动。转印辊641不与旋转驱动机构连接地自由旋转。而且，在支撑框架642设置着从下方抵接于转印辊641的表面而防止转印辊641的弯曲的支承辊(backup roll)643。

Y方向上的转印辊641的长度比下平台61的开口窗611的四边中的沿Y方向的边的长度、即开口窗611的Y方向上的开口尺寸短，且比下述由上平台保持时的版PP或基板SB的沿Y方向的长度长。橡皮布BL中的作为图案形成区域有效的有效区域的长度当然小于版PP或基板SB的长度，因此在Y方向，转印辊641比有效区域长。

升降机构644包括基座部644a、以及从该基座部644a向上方延伸并连结于支撑框架642的Y方向上的中央附近的支撑脚644b。支撑脚644b是通过马达或气缸等适当的驱动机构而可相对于基座部644a上下移动。基座部644a滑动自如地安装于沿X方向延伸设置的导轨646，进而连结于例如包括马达及滚珠螺杆机构等适当的驱动机构的移动机构647。而且，在沿X方向延伸设置且固定在底座框架21的下部框架645的上表面安装着导轨646。通过使移动机构647作动，而使转印辊641、支撑框架642及升降机构644一体地在X方向移行。

详细情况将在下文进行叙述，在该图案形成装置1中，使转印辊641抵接于由下平台61保持的橡皮布BL并对橡皮布BL局部地进行推顶，由此，使橡皮布BL抵接于由上平台保持并与橡皮布BL邻近对向配置的版PP或基板SB。

升降机构644是通过升降手单元62、升降手单元63的相互对向的手625所形成的间隙而移行。而且，各手625的上表面625a可朝(-Z)方向后退到转印辊单元64的支撑框架642的下表面的更下方为止。因此，在该状态下使升降机构644移行，由此，转印辊单元64的支撑框架642通过各手625的上表面625a的上方，可避免转印辊单元64与手625碰撞。

接下来，对上平台区块4的结构进行说明。如图1所示，上平台区块4包括：上平台组件(assembly)40，为沿X方向延伸的结构体；一对支撑柱45、支撑柱46，分别从上平台支撑框架22、上平台支撑框架23竖立设置并分别支撑上平台组件40的X方向两端部；以及升降机构47，例如包括马达及滚珠螺杆机构等适当的驱动机构而使上平台组件40整体在Z方向升降移动。

图6是表示上平台组件的结构的图。上平台组件40包括：上平台41，由下表面保持版PP或基板SB；增强框架42，设置在上平台41的上部；梁状结构体43，结合于增强框架42并沿X方向水平地延伸；以及上部吸附单元44，安装于上平台41。如图6所示，上平台组件40具有相对于包含其外形上的中心的XZ平面及YZ平面分别大致对称的形状。

上平台41为略小于应保持的版PP或基板SB的平面尺寸的平板状构件，保持为水平姿势的其下表面41a成为抵接地保持版PP或基板SB的保持平面。保持平面要求具有高的平面度，因此，作为其材料，适宜的是石英玻璃或不锈钢板。而且，在保持平面设置着用于安装下述上部吸附单元44的吸附垫(pad)的贯通孔。

增强框架42包括在上平台41的上表面沿Z方向延伸设置的增强肋(rib)的组合，如图所示，为了防止上平台41的弯曲并维持其下表面(保持平面)41a的平面度，将与YZ平面平行的增强肋421、及与XZ平面平行的增强肋422分别适当进行多种组合。增强肋421、增强肋422例如可包括金属板。

而且，梁状结构体43是将多片金属板组合而形成的以X方向为长度方向的结构体，其两端部由支撑柱45、支撑柱46支撑而可上下移动。具体来说，在支撑柱45、支撑柱46分别设置着沿Z方向延伸的导轨451、导轨461，另一方面，在与该所述导轨451、导轨461对向的梁状结构体43的(-Y)侧主面安装着未图示的滑块，这些滑块可滑动自如地卡合。而且，如图1所示，梁状结构体43与支撑柱46是利用升降机构47而连结，通过使升降机构47作动，而使梁状结构体43在维持水平姿势的状态下沿铅垂方向(Z方向)移动。上平台41是经由增强框架42而与梁状结构体43一体地结合，因此通过使升降机构47的作动，而使上平台41在将保持平面41a保持为水平的状态下上下移动。

此外，增强框架42及梁状结构体43的结构并不限定于图示的类型。这里，将与YZ平面平行的板状构件和与XZ平面平行的板状构件组合而获得所需的强度，但也可对除此以外的形状适当组合金属板(metal plate)或角(angle)构件等。设为这种结构是为了轻量地构成上平台组件40。为了减少各部的弯曲，也考虑增加上平台41的厚度或使梁状结构体43为实心体，但这样一来，上平台组件40整体的质量变大。

配置在装置的上部的结构物的重量变大则对用于支撑其或使其移动的机构要求更进一步的强度及耐久性，装置整体也变得非常大且重。更现实的是，一面利用板材等组合而获得所需的强度，一面谋求结构物整体的轻量化。

而且，在由增强框架42包围的上平台41的上部，安装着一对上部吸附单元44。在图6上部表示将其中一个上部吸附单元44取出至上方的状态。在上部吸附单元44中，在从支撑框架441延伸到下方的多个管(pipe)442的下端分别安装着例如橡胶制的吸附垫443。各管442的上端侧是经由未图示的配管及控制阀而连接于控制单元8的负压供给部804。支撑框架441形成为不干涉构成增强框架42的肋421、肋422的形状。

支撑框架441是经由一对滑块444及卡合于这一对滑块444的一对导轨445而相对于底板446沿铅垂方向移动自如地得到支撑。而且，底板(base plate)446与支撑框架441是通过例如包括马达及滚珠螺杆机构等适当的驱动机构的升降机构447而结合。通过升降机构447的作动，而使支撑框架441相对于底板446进行升降，且与该支撑框架441的升降一体地，管442及吸附垫443进行升降。

通过将底板446固定在梁状结构体43的侧面，而使上部吸附单元44与上平台41一体化。在该状态下，各管442的下端及吸附垫443插通至设置在上平台41的未图示的贯通孔内。而且，通过升降机构447的作动，使吸附垫443在其下表面突出至上平台41的下表面(保持平面)41a的更下方为止的吸附位置、与下表面退避到上平台41的贯通孔的内部(上方)的退避位置之间进行升降移动。而且，当将吸附垫443的下表面定位在与上平台41的保持平面41a大致相同的高度时，上平台41与吸附垫443可协同地将版PP或基板SB保持在保持平面41a。

返回到图1，以所述方式构成的上平台组件40是设置在底板481上。更详细来说，将支撑柱45、支撑柱46分别竖立设置于底板481，且以相对于该支撑柱45、支撑柱46可升降的方式安装上平台组件40。底板481是由上平台区块支撑机构482支撑，该上平台区块支撑机构482安装于上平台支撑框架22、上平台支撑框架23且例如包括交叉滚轮轴承等适当的可动机构。

因此，上平台组件40整体可相对于主框架2水平移动。具体来说，底板481是通过上平台区块支撑机构482的作动而在水平面、即XY平面内水平移动。对应于各个支撑柱45、支撑柱46而设置的一对底板481可相互独立地移动，伴随它们的移动，上平台组件40可相对于主框架2沿X方向、Y方向及θ方向在规定的范围内移动。

以所述方式构成的图案形成装置1的各部由控制单元8控制。如图2所示，控制单元8包括：中央处理器(Central Processing Unit，CPU)801，管理装置整体的动作；马达控制部802，控制设置在各部的马达；阀控制部803，控制设置在各部的控制阀类；以及负压供给部804，产生对各部供给的负压。此外，在可利用从外部供给的负压的情况下，控制单元8也可不包括负压供给部。

马达控制部802是通过控制设置在各功能区块的马达群来管理装置各部的定位或移动。而且，阀控制部803是通过控制设置在从负压供给部804连接于各功能区块的负压的配管路径上、及从气体供给部806连接于手625的配管路径上的阀群，而管理利用负压供给而进行的真空吸附的执行及其解除、以及来自手上表面625a的气体喷出。

而且，该控制单元8包括对利用相机所拍摄的图像实施图像处理的图像处理部805。图像处理部805是通过对利用安装于主框架2的基板用预对准相机241～基板用预对准相机243及橡皮布用预对准相机244～橡皮布用预对准相机246所拍摄的图像进行规定的图像处理，而检测基板SB及橡皮布BL的大致位置。而且，通过对利用下述精密对准用对准相机27所拍摄的图像进行规定的图像处理，而更精密地检测基板SB与橡皮布BL的位置关系。CPU801是基于这些位置检测结果而控制上平台区块支撑机构482及对准支撑机构605，对由上平台41保持的版PP或基板SB与由下平台61保持的橡皮布BL进行位置对准(预对准处理及精密对准处理)。

接下来，对以所述方式构成的图案形成装置1中的图案形成处理进行说明。在该图案形成处理中，由上平台41保持的版PP或基板SB与由下平台61保持的橡皮布BL是隔着微小的间隙而邻近对向配置。而且，转印辊641一面抵接于橡皮布BL的下表面对橡皮布BL局部地向上方推顶，一面沿橡皮布BL下表面移动。被推顶的橡皮布BL首先局部地抵接于版PP或基板SB，伴随辊移动，抵接部分逐渐扩大，最终与版PP或基板SB的整体抵接。由此，从版PP到橡皮布BL进行图案化、或从橡皮布BL到基板SB进行图案转印。

图7是表示图案形成处理的流程图。而且，图8(a)、图8(b)、图8(c)至图15(a)、图15(b)、图15(c)是示意性地表示处理的各阶段中的装置各部的位置关系的图。以下，一面参照图8(a)、图8(b)、图8(c)至图15(a)、图15(b)、图15(c)一面对图案形成处理中的各部的动作进行说明。此外，为了易于了解地表示处理的各阶段中的各部的关系，有时省略非直接关系到该阶段的处理的构成、或省略对应于这种构成而标注的符号的图示。而且，在由上平台41保持的处理对象物为版PP时与为基板SB时期间，除一部分以外动作均相同，因此使图共通，而适当替换版PP及基板SB。

在该图案形成处理中，对经初始化的图案形成装置1，首先搬入与应形成的图案对应的版PP并设置在上平台41(步骤S101)，接着，将形成着利用图案形成材料而形成的均匀的涂布层的橡皮布BL搬入并设置在下平台61(步骤S102)。版PP是使与图案对应的有效面朝下而搬入，而且，橡皮布BL是使涂布层朝上而搬入。

图8(a)、图8(b)、图8(c)表示将版PP或基板SB搬入至装置并设置在上平台41为止的过程。如图8(a)所示，在初始状态下，上平台41退避到上方而其与下平台61的间隔变大，在两个平台之间形成着宽敞的处理空间SP。而且，各手625退避到下平台61的上表面的更下方。转印辊641位于在面向下平台61的开口窗611的位置中的最靠(-X)方向的位置，且在铅垂方向(Z方向)位于退避到下平台61的上表面的更下方的位置。连接于负压供给部804的各控制阀关闭。

在该状态下，从装置的前面侧、即(-Y)方向朝(+Y)方向，载置在外部的版用手HP上的版PP是在被预先测量出其厚度后搬入至处理空间SP。版用手HP也可为由操作员(operator)手动操作的操作治具，而且，也可为外部的搬送机器人的手。这时，通过使手625及转印辊641退避到下方，可使搬入作业变得容易。当将版PP定位在规定的位置时，如箭头所示，上平台41下降。

当上平台41下降到接近版PP的规定的位置时，如图8(b)所示，设置在上平台41的吸附垫443向前突出至上平台41的下表面、即保持平面41a的更下方，并抵接于版PP的上表面。通过将与吸附垫443相连的控制阀打开，而利用吸附垫443吸附版PP的上表面而保持版PP。而且，在持续吸附的状态下使吸附垫443上升，由此，版PP被从版用手HP提升。在该时间点，版用手HP向装置外移动。

最终，如图8(c)所示，吸附垫443的下表面上升至与保持平面41a相同的高度或略微高于其的位置，由此，以密接于上平台41的保持平面41a的状态保持版PP的上表面。也可为如下构成：在上平台41的下表面设置吸附槽或吸附孔，利用这些吸附槽或吸附孔来吸附保持从吸附垫443交接的版PP。这样完成版PP的保持。可通过相同的顺序，利用基板用手HS搬入基板SB。

图9(a)、图9(b)、图9(c)及图10(a)、图10(b)是表示在搬入版PP后，将橡皮布BL搬入并保持在下平台61为止的过程。当上平台41对版PP的保持完成时，如图9(a)所示，使上平台41上升而再次形成宽敞的处理空间SP，并且使各手625上升至下平台61的上表面61a的更上方。这时，使各手625的上表面625a全部成为相同的高度。

在该状态下，如图9(b)所示，进行如下操作：将在上表面形成着利用图案化形成材料而形成的涂布层PT的橡皮布BL载置在外部的橡皮布用手HB，并搬入到处理空间SP。在搬入橡皮布BL之前，先测量其厚度。理想的是，橡皮布用手HB是包括沿Y方向延伸的指部(finger)的叉(fork)型的手，以使可不干涉手625地通过它们的间隙而进入。

通过使橡皮布用手HB在进入后下降或使手625上升，而使手625的上表面625a抵接于橡皮布BL的下表面，如图9(c)所示，其后，橡皮布BL由手625支撑。通过对设置在手625上的吸附孔625b(图4)供给负压，可使支撑更确实。这样一来，可将橡皮布BL被从橡皮布用手HB交接到手625，且将橡皮布用手HB排出到装置外。

其后，如图10(a)所示，在使各手625的上表面625a的高度一致的状态下使手625下降，最终使手上表面625a与下平台61的上表面61a的高度相同。由此，橡皮布BL四边的周缘部抵接于下平台61的上表面61a。

这时，如图10(b)所示，对设置在下平台上表面61a的真空吸附槽612供给负压，而吸附保持橡皮布BL。随之，解除手625的吸附。由此，橡皮布BL成为由下平台61吸附保持其四边的周缘部的状态。在图10(b)中，为了明确表示已解除手625的吸附保持，而使橡皮布BL与手625隔开，但实际上维持了橡皮布BL的下表面抵接于手上表面625a的状态。

认为，假设在该状态下使手625隔开，则橡皮布BL会因自重而使中央部向下方弯曲，整体成为向下凸的形状。将手625维持在与下平台上表面61a相同的高度，由此，可抑制这种弯曲并将橡皮布BL维持为平面状态。这样一来，橡皮布BL成为其周缘部由下平台61吸附保持、且中央部由手625辅助性地支撑的状态，从而完成橡皮布BL的保持。

版PP与橡皮布BL的搬入顺序也可与所述顺序相反。然而，在搬入橡皮布BL之后搬入版PP的情况下，在搬入版PP时杂质可能会掉落到橡皮布BL上而污染利用图案形成材料所形成的涂布层PT或产生缺陷。如上所述，在将版PP设置到上平台41后，将橡皮布BL设置在下平台61，由此可将这种问题避免于未然。

返回到图7，当这样将版PP及橡皮布BL分别设置在上下平台时，接着对版PP及橡皮布BL进行预对准处理(步骤S103)。进而，以两者隔着预先设定的间隙而对向的方式，进行间隙调整步骤(S104)。

图11(a)、图11(b)、图11(c)是表示间隙调整处理及对准处理的过程的图。其中，图11(c)所示的精密对准处理是仅在下述转印处理中需要的处理，因此对于该处理是在之后的转印处理的说明中进行叙述。如上所述，版PP、基板SB或橡皮布BL是从外部搬入，但在其交接时会发生位置偏移。预对准处理是用来将由上平台41保持的版PP或基板SB、及由下平台61保持的橡皮布BL各自大致定位在适于之后的处理的位置的处理。

图11(a)是示意性地表示用于执行预对准的构成的配置的侧视图。如上所述，在本实施方式中，在装置上部总共设置着六台预对准相机241～预对准相机246。其中三台相机241～相机243是用来检测由上平台41保持的版PP(或基板SB)的外缘的基板用预对准相机。而且另外三台相机244～相机246是用来检测橡皮布BL的外缘的橡皮布用预对准相机，此外，这里，为了方便起见，将预对准相机241～预对准相机243称为“基板用预对准相机”，这些相机可使用于版PP的位置对准及基板SB的位置对准中的任一者中，而且，其处理内容也相同。

如图1及图11(a)所示，基板用预对准相机241、基板用预对准相机242是以在X方向为大致相同位置且在Y方向相互位置不同的方式设置，从上方分别拍摄版PP或基板SB的(-X)侧外缘部。上平台41形成为略小于基板SB的平面尺寸，因此，可从上方拍摄延伸至比上平台41的端部更靠外侧的版PP(或基板SB)的(-X)侧外缘部。而且，虽然在图中未表现出，但在图11(a)纸面的近前侧设置着另一台基板用预对准相机243，该相机243是从上方拍摄版PP(或基板SB)的(-Y)侧外缘部。

另一方面，橡皮布用预对准相机244、橡皮布用预对准相机246是以在X方向为大致相同位置且在Y方向相互位置不同的方式设置，从上方分别拍摄载置在下平台61的橡皮布BL的(+X)侧外缘部。而且，在图11(a)纸面的近前侧设置着另一台橡皮布用预对准相机245，该相机245是从上方拍摄橡皮布BL的(-Y)侧外缘部。

根据由这些预对准相机241～预对准相机246所获得的拍摄结果而分别掌握版PP(或基板SB)及橡皮布BL的位置。而且，视需要使上平台区块支撑机构482及对准平台支撑机构605作动，由此，将版PP(或基板SB)及橡皮布BL分别定位在预先设定的目标位置。关于基于拍摄结果的利用上平台区块支撑机构4821、上平台区块支撑机构4822的定位、即版PP(或基板SB)的预对准处理，在下文进行详细叙述。

此外，在使橡皮布BL与下平台61一并水平移动时，优选的是，如图11(a)所示，各手625的上表面625a与橡皮布BL的下表面略微隔开。为了该目的，可使从气体供给部806供给的气体从手625的吸附孔625b喷出。该内容在下述精密对准处理中也相同。

而且，关于薄型或大型且容易发生弯曲的基板SB，为了使处理变得容易，有时例如以使板状的支撑构件抵接于背面的状态对基板SB进行处理。在这种情况下，即便支撑构件为比基板SB更大型的构件，只要设为例如利用透明材料构成支撑构件、或在支撑构件上局部地设置透明的窗或贯通孔等容易检测基板SB的外缘部的位置的构成，则也可实现与所述相同的预对准处理。

接着，如图11(b)所示，相对于保持橡皮布BL的下平台61，使保持版PP的上平台41下降，使版PP与橡皮布BL的间隔G与预先规定的设定值吻合。这时，考虑到已预先测量的版PP及橡皮布BL的厚度。即，以在包括版PP及橡皮布BL的厚度的情况下使两者的间隙成为规定值的方式，调整上平台41与下平台61的间隔。作为这里的间隙值G，例如可设为300μm左右。

关于版PP及橡皮布BL的厚度，除了有因制造上的尺寸偏差而造成的个体差以外，即便为相同的零件也考虑到有例如因膨胀而导致的厚度的变化，因此理想的是每次使用时均进行测量。而且，关于间隙G，可定义在版PP的下表面与橡皮布BL的上表面之间，而且，也可定义在版PP的下表面与承载在橡皮布BL上的图案形成材料的涂布层PT的上表面之间。只要在涂布阶段严格地管理涂布层PT的厚度，则技术性上等效。

返回到图7，当这样使版PP与橡皮布BL隔着间隙G而对向配置时，接着通过使转印辊641一面抵接于橡皮布BL的下表面一面在X方向移行，而使版PP与橡皮布BL抵接。由此，利用版PP使橡皮布BL上的图案形成材料的涂布层PT图案化(图案化处理；步骤S105)。

图12(a)、图12(b)、图12(c)中表示图案化处理的过程。具体来说，如图12(a)所示，使转印辊641上升至橡皮布BL的正下方位置，并且在X方向上将转印辊641配置在转印辊641的中心线与版PP的端部大致相同的位置、或与其相比略微向(-X)方向偏移的位置。在该状态下，如图12(b)所示，使转印辊641进一步上升并抵接于橡皮布BL的下表面，对该被抵接的位置的橡皮布BL局部地向上方推顶。由此，以规定的推挤力将版PP的下表面推挤至橡皮布BL(更严格来说为承载在橡皮布BL上的图案形成材料的涂布层PT)。转印辊641在Y方向比版PP(及有效区域)长，版PP的下表面中的从Y方向上的一端至另一端的沿Y方向的细长的区域与橡皮布BL抵接。

这样，在转印辊641推挤橡皮布BL的状态下，升降机构644向(+X)方向移行，由此，使橡皮布BL的推顶位置向(+X)方向移动。这时，为了防止手625与转印辊641接触，如图12(c)所示，关于与转印辊641的X方向距离成为规定值以下的手625，使其向下方退避到至少该手625的上表面625a低于支撑框架642的下表面的位置。

由于已解除手625的吸附，因此不会发生橡皮布BL与手625的下降一并朝下方降低的情况。而且，使开始下降的时间点(timing)与转印辊641的移行同步地适当管理，由此，也可防止失去手625的支撑的橡皮布BL因自重而向下方垂下。

图13(a)、图13(b)、图13(c)中表示转印辊641的移行过程。暂时抵接的版PP与橡皮布BL维持经由图案形成材料的涂布层PT而密接的状态，因此，如图13(a)所示，伴随转印辊641的移行，版PP与橡皮布BL密接的区域逐渐朝(+X)方向扩大。此时，如该图所示，随着转印辊641接近而使手625依序下降。

这样一来，最终，如图13(b)所示，所有手625均下降，转印辊641到达下平台61下方的(+X)侧端部附近。在该时间点，转印辊641到达版PP的(+X)侧端部的大致正下方或比其略微靠(+X)侧的位置，版PP的下表面全部抵接于橡皮布BL上的涂布层PT。

在转印辊641维持固定的高度移行的期间，橡皮布BL下表面中的受到转印辊641推挤的区域的面积是固定的。因此，升降机构644一面提供固定的荷重一面使转印辊641挤压在橡皮布BL，由此，在版PP与橡皮布BL之间夹着图案形成材料的涂布层PT，并且以固定的推挤力相互推挤。由此，可良好地进行从版PP到橡皮布BL的图案化。

此外，在图案化时，理想的是可有效地利用版PP的表面区域整体，但在版PP的周缘部会不可避免地产生因损伤或搬送时与手接触而无法有效利用的区域。如图13(b)所示，在将除版PP的端部区域以外的中央部分设为作为版而有效地发挥功能的有效区域AR时，理想的是，至少在有效区域AR内转印辊641的推挤力及移行速度是固定的。为此，转印辊641的Y方向长度必须长于该方向上的有效区域AR的长度。而且，在X方向，理想的是从比(-X)方向上的有效区域AR的端部更靠(-X)侧位置开始转印辊641的移行，且在至少到达(+X)方向上的有效区域AR的端部之前维持固定速度。与版PP的有效区域AR对向的橡皮布BL的表面区域成为橡皮布BL侧的有效区域。

图14表示版或基板与橡皮布的位置关系。更具体来说，该图是从上方观察版PP或基板SB抵接于橡皮布BL时的位置关系的俯视图。如图所示，橡皮布BL具有大于版PP或基板SB的平面尺寸。橡皮布BL中的在图中标注有点且靠近周缘部的区域R1是在由下平台61保持时抵接于下平台上表面61a的区域。关于比其靠内侧的区域，是以下表面敞开的状态，将橡皮布BL保持于下平台61。

版PP与基板SB的尺寸大致相同，且它们的尺寸小于下平台61的开口窗尺寸。而且，在实际的图案形成中被有效使用的有效区域AR小于版PP或基板SB的尺寸。因此，橡皮布BL中的对应于有效区域AR的区域是下表面敞开并面向下平台61的开口窗611的状态。

附有影线(hatching)的区域R2表示橡皮布BL下表面中的同时受到转印辊641推挤的区域(推挤区域)。推挤区域R2是在辊延伸设置方向、即Y方向延伸的细长的区域，其Y方向上的两端部分别延伸至比版PP或基板SB的端部更靠外侧为止。因此，当转印辊641以与橡皮布BL下表面平行的状态推挤橡皮布BL时，其推挤力在从Y方向上的有效区域AR的其中一端部至另一端部之间在Y方向上一致。

这样一面在Y方向对有效区域AR提供均匀的推挤力一面使转印辊641在X方向移动，由此，在整个有效区域AR内，利用均匀的推挤力使版PP或基板SB与橡皮布BL相互推挤。由此，可防止因不均匀的推挤而造成的图案损伤，而形成优质的图案。

当这样使转印辊641到达(+X)侧端部时，使转印辊641停止移行，并且如图13(c)所示使转印辊641退避至下方。由此，转印辊641与橡皮布BL下表面相隔而结束图案化处理。

返回到图7，当这样结束图案化处理时，搬出版PP及橡皮布BL(步骤S106)。图15(a)、图15(b)、图15(c)表示版及橡皮布的搬出的过程。首先，如图15(a)所示，使在图案化处理时下降的各手625再次上升，定位在上表面625a成为与下平台61的上表面61a相同高度的位置。在该状态下，解除上平台41的吸附垫443对版PP的吸附(在利用吸附槽或吸附孔进行吸附保持的情况下，是利用吸附槽或吸附孔进行的吸附)。由此，解除上平台41对版PP的保持，版PP与橡皮布BL经由图案形成材料的涂布层PT一体化而成的积层体残留在下平台61上。积层体的中央部由手625支撑。

接着，如图15(b)所示，使上平台41上升而形成宽敞的处理空间SP，解除利用下平台61的槽612所进行的吸附，并且使手625进一步上升并移动至下平台61的更上方。这时，优选的是利用手625吸附保持积层体。

这样一来，可实现从外部的进出。因此，如图15(c)所示，从外部接收橡皮布用手HB，进行与搬入时相反的动作，由此将密接着版PP的状态下的橡皮布BL搬出到外部。只要利用适当的剥离设备将以所述方式密接的版PP从橡皮布BL剥离，便可在橡皮布BL上形成规定的图案。

接下来，对将形成在橡皮布BL上的图案转印至作为其最终目的物的基板SB的情况进行说明。该步骤基本上与图案化处理的情况相同。即，如图7所示，首先将基板SB设置在上平台41(步骤S107)，接着将已形成图案的橡皮布BL设置于下平台61(步骤S108)。接着，在对基板SB与橡皮布BL进行了预对准处理及间隙调整后(步骤S109、步骤S110)，使转印辊641在橡皮布BL下部移行，由此将橡皮布BL上的图案转印至基板SB(转印处理；步骤S112)。在转印结束后，将一体化的橡皮布BL与基板SB搬出并结束处理(步骤S113)。这一系列的动作也与图8(a)、图8(b)、图8(c)至图15(a)、图15(b)、图15(c)所示的动作相同。此外，当在这些图中将版PP替换为基板SB时，符号PT意味着图案化处理后的图案。

然而，在转印处理中，为了将图案适当地转印至基板SB的规定位置，在使基板SB与橡皮布BL抵接之前对两者执行更精密的位置对准(精密对准处理)(步骤S111)。图11(c)表示该过程。

在图1中省略了记载，但在该图案形成装置1中，设置着由从底座框架21向(+Z)方向竖立设置的支撑柱支撑的精密对准相机27。精密对准相机27是以其光轴铅垂朝上的方式设置着共四台，以便通过下平台61的开口窗611分别对基板SB的四角进行拍摄。

在基板SB的四角预先形成着成为位置基准的对准标记(基板侧对准标记)，另一方面，在橡皮布BL的与该对准标记对应的位置，形成着橡皮布侧对准标记作为利用版PP而图案化的图案的一部分。在精密对准相机27的同一视场内对它们进行拍摄，通过检测它们的位置关系而求出两者的位置偏移量，求出用于修正该偏移量的橡皮布BL的移动量。利用对准平台支撑机构605，使对准平台601按所求出的移动量移动，由此，上平台61在水平面内移动，修正基板SB与橡皮布BL的位置偏移。

以使基板SB与橡皮布BL隔着微小的间隙G而对向的状态，且利用同一相机拍摄形成在各者的对准标记，由此，可对基板SB与橡皮布BL进行高精度的位置对准。这就意味着，所述对准处理可谓比个别地拍摄基板SB及橡皮布BL而进行位置调整的情况下的精度更高的精密对准处理。在该状态下使两者抵接，由此，在本实施方式中，可在基板SB的规定位置形成高精度地进行位置对准的图案。而且，通过预先对基板SB及橡皮布BL进行预对准处理，可将分别形成在基板SB及橡皮布BL上的对准标记定位在精密对准相机27的视场内。

此外，在利用版PP向橡皮布BL形成图案时，未必需要那样精密的对准处理。这是因为通过将橡皮布侧对准标记与图案一起预先形成在版PP上，不会使形成在橡皮布BL上的图案与橡皮布侧对准标记之间产生位置偏移，只要利用橡皮布侧对准标记与基板侧对准标记完成精密对准，则版PP与橡皮布BL的少许的位置偏移不会影响到图案形成。就该方面而言，在图案化处理中仅执行预对准处理。

以下更详细地说明对准处理。如上所述，在本实施方式中，能以使基板SB与橡皮布BL隔着微小的间隙G(例如G＝300μm)而对向的状态，进行两者间的对准调整、即相对的位置对准。因此，能以极高的位置精度(例如±3μm左右)使基板SB的位置对准橡皮布BL。

图16(a)、图16(b)是用以说明对准处理的原理的图。如图16(a)所示，在由上平台41保持的基板SB的下表面、即靠近图案的被转印面的四角的位置，预先形成着成为位置基准的适当形状的对准标记(基板侧对准标记)AMs。另一方面，在由下平台61保持的橡皮布BL的上表面、即图案承载面，利用图案形成材料而形成着适当形状的对准标记(橡皮布侧对准标记)AMb。更详细来说，预先在版PP上与应形成的图案一并地形成对准标记AMb，当利用版PP使橡皮布BL上的由图案形成材料形成的涂布层PT图案化时，对准标记AMb与图案一并形成在橡皮布BL上。

因此，在图案化后的橡皮布BL上，形成着应转印至基板SB的图案及对准标记AMb，它们之间的位置关系被固定。因此，通过对基板侧对准标记AMs与橡皮布侧对准标记Amb进行位置对准，而间接且准确地规定基板SB与应转印至该基板SB的图案的相对位置。

具体来说，如图16(a)所示，在下平台61的开口部611的内侧，利用配置在橡皮布BL的下方的对准相机27，经由橡皮布BL而对形成在橡皮布BL的上表面的橡皮布侧对准标记AMb、及形成在基板SB的下表面的基板侧对准标记AMs进行拍摄。橡皮布BL例如为以石英玻璃为主要材料且具有光透过性。这时，如图16(b)所示，使同一视场FV内包含两个对准标记AMs、对准标记AMb。

所拍摄的图像由控制单元8的图像处理部805进行图像处理，且检测两对准标记AMs、对准标记AMb的相对位置。如图16(b)所示，通过使两个对准标记AMs、对准标记AMb的形状互不相同，它们的识别变得容易。而且，在将两个对准标记AMs、对准标记AMb位于同一视场FV而得的图像内进行位置检测，由此可高精度地求出两个对准标记AMs、对准标记AMb间的相对位置。通过对分别设置在基板SB的四角的对准标记进行这种拍摄及位置检测，而求出基板SB与橡皮布BL之间的位置偏移量。此外，原理上可使用基板SB及橡皮布BL各自的一部位的对准标记进行位置对准，但通过至少在各自的两个部位以上形成对准标记且对其进行拍摄而进行位置对准，可实现更高精度的位置对准。

为了消除(cancel)所求出的位置偏移量，对准平台支撑机构605使对准平台601(图3)在水平面内移动。由此，下平台61在XYθ方向水平移动必要量，而实现基板SB与橡皮布BL(更准确来说为橡皮布BL上的图案)的精密的位置对准。

为了高精度地进行这种精密对准，必须提高对准标记的位置检测中的分辨率，为此必须在相对高的倍率下进行拍摄。在高倍率的拍摄中视场FV变狭窄，因此为了将基板侧对准标记AMs与橡皮布侧对准标记AMb位于同一视场内，必须在精密对准之前先使基板SB与橡皮布BL的相对位置在某种程度上(例如以数十μm左右的位置精度)吻合。

然而，在来自装置外部的基板SB及橡皮布BL的交接时间点不容易实现这种位置精度，即便如图3所示设置挡块构件613来进行位置限制，也有例如因各构件的尺寸偏差而导致未达到所需的位置精度的情况。尤其是当基板SB或橡皮布BL变得大型时，它们变得容易弯曲且尺寸偏差也变大，另一方面，由于重量增加，所以利用机械性的对接而进行的位置限制在精度方面受到极限。

为了用于这种相对粗略的位置对准而使对准相机27的倍率及视场FV可变的情况可能会成为反而使精密对准用的拍摄时的拍摄位置精度降低的原因，因此并非优选。这是因为通过使倍率可变而容易发生光学系统的光轴偏移、高倍率时的光量不足及图像失真等。因此，在本实施方式中，在精密对准之前先执行预对准，由此，将基板SB与橡皮布BL的相对位置对准至两个对准标记AMs、对准标记AMb位于对准相机27的同一视场内的程度为止。关于对准相机27的摄像光学系统，倍率及视场FV被固定。

图17及图18(a)、图18(b)是用以说明本实施方式的预对准的原理的图。更详细来说，图17是表示利用预对准相机的橡皮布BL的拍摄范围的图，图18(a)、图18(b)是说明基于利用预对准相机所拍摄的图像的位置对准的原理的图。

如上所述，在本实施方式中，在装置上部总共设置着六台预对准相机241～预对准相机246。其中，三台相机241～相机243是用于检测基板SB的外缘的基板用预对准相机。而且，另外三台相机244～相机246是用于检测橡皮布BL的外缘的橡皮布用预对准相机。这些相机可为倍率低于精密对准用对准相机27的相机，这样一来，可确保广泛的视场。而且，关于分辨率也可为更低的分辨率，由此可抑制装置成本的上升。

利用基板用预对准相机241～基板用预对准相机243而进行的基板SB的位置检测及基于该位置检测的位置对准、及利用橡皮布用预对准相机244～橡皮布用预对准相机246而进行的橡皮布BL的位置检测及基于该位置检测的位置对准在原理上是相同的。以下，以基于橡皮布用预对准相机244～橡皮布用预对准相机246的拍摄结果的橡皮布BL的位置对准为例说明其原理。

如图17所示，橡皮布用预对准相机244～橡皮布用预对准相机246分别对橡皮布BL的四边中的(+X)侧的外缘的两个部位、及(+Y)侧的外缘的一部位进行拍摄。在图中，区域IR1、区域IR2及区域IR3分别表示相机246、相机244及相机245的拍摄范围。通过分别拍摄靠近橡皮布BL的角部的外缘，可提高位置对准精度。

通过分别拍摄形成橡皮布BL的外缘的四边中的、相互不平行的两条边的一部分，可独立地求出X方向及Y方向的二维的橡皮布BL的位置偏移量。而且，对同一边或相互平行的边中的两个部位以上进行拍摄，由此可求出θ方向上的橡皮布BL的倾斜量。

在图18(a)中，拍摄范围IR1、拍摄范围IR2的X方向位置略微不同。该情况下，假定有可能因零件的尺寸精度等而导致各相机的安装位置发生偏移，为了表示即便在包含这种相机间的若干位置偏移的状态下，也可进行橡皮布的位置对准，而表示这种图示。

参照图18对基于拍摄结果的位置对准的原理进行说明。首先，假定处在无位置偏移的设计上的理想位置(目标位置)的橡皮布BLi，如图18(a)所示，将在利用各相机244～相机246拍摄这种橡皮布BLi的情况下的橡皮布端部的位置登录为基准值。具体来说，将从相机246的拍摄范围IR1的一端到橡皮布BLi的(+X)侧端部为止的X方向距离X10、相机244的拍摄范围IR2中的从该拍摄范围IR2的一端到橡皮布BLi的(+X)侧端部为止的X方向距离X20、及从相机245的拍摄范围IR3的一端到橡皮布BLi的(+Y)侧端部为止的Y方向距离Y30登录为基准值。只要各相机的位置不变更，基准值的登录就无需更新。

接下来，在实际上已搬入橡皮布BL的状态下，利用橡皮布用预对准相机244～橡皮布用预对准相机246分别拍摄橡皮布BL的端部。图18(b)表示其一例，一般来说，在这样从理想位置偏移的状态下将橡皮布BL载置于下平台61。求出这时的从相机246的拍摄范围IR1的一端至橡皮布BL的(+X)侧端部为止的X方向距离X11、相机244的拍摄范围IR2中的从该拍摄范围IR2的一端至橡皮布BL的(+X)侧端部为止的X方向距离X21、及从相机245的拍摄范围IR3的一端至橡皮布BL的(+Y)侧端部为止的Y方向距离Y31。

如果橡皮布BL无位置偏移，则这些值X11、X21、Y31分别与基准值X10、基准值X20、基准值Y30一致，但一般来说成为不同的值。所述值距离基准值的差表示橡皮布BL的偏移量的大小。即，值Y31与值Y30的差对应于橡皮布BL的Y方向上的位置偏移量。而且，值X11与值X10的差、及值X21与值X20的差均对应于橡皮布BL的X方向的位置偏移量。进而，值(X20-X10)与值(X21-X11)的差对应于绕Z轴、即θ方向的橡皮布BL的位置偏移量(倾斜)。这样将理想状态下的橡皮布外缘位置登录为基准值，求出对于该位置的相对的位置偏移量，由此，对各相机的绝对的位置不要求精度。即，无需严格地管理相机的安装位置，只要有可使每次搬入的位置不一致的橡皮布BL的外缘稳定地位于视场内的程度的位置精度即可。

根据这些值，在X方向、Y方向及θ方向的各个方向求出橡皮布BL相对于理想位置的位置偏移量，且求出用来消除该位置偏移的橡皮布BL的水平移动量并使橡皮布BL移动，由此可对橡皮布BL进行位置对准。也可重复进行位置检测及移动直至将橡皮布BL定位在理想位置为止。关于由上平台41保持的基板SB或版PP，也能以同样的方式进行定位。

即便在基于利用预对准相机所拍摄的低倍率的图像的位置对准中，最终无法获得所需的位置精度，也可利用所述方法充分实现至少将基板侧、橡皮布侧两个对准标记位于对准相机27的同一视场FV内的程度的位置对准。换言之，以至少将基板侧、橡皮布侧两个对准标记位于对准相机27的同一视场FV内的方式预先设定橡皮布BL及基板SB的理想位置(目标位置)，其后进行所述的预对准处理。

此外，关于基于预对准相机的拍摄结果的基板SB或橡皮布BL的移动，只要为版PP(或基板SB)及橡皮布BL的搬入后且早于精密对准，则可在任意的时间点执行。在本实施方式中，在搬入版PP(或基板SB)及橡皮布BL后，在进行间隙调整之前执行预对准处理。这是为了防止如下情况：在利用基板用预对准相机241～基板用预对准相机243检测版PP或基板SB的端部时，在背后的接近位置存在橡皮布BL，因此成为干扰。另一方面，如果在执行版PP(或基板SB)与橡皮布BL之间的间隙调整后进行预对准处理，则可更确实地防止在使间隙变化时可能发生的水平方向的位置偏移。

关于用于预对准的基板SB的移动，是通过以下方式进行：上平台区块支撑机构482使上平台组件40移动，而使保持基板SB的上平台41水平移动。另一方面，关于橡皮布BL的移动，是通过以下方式进行：对准平台支撑机构605使对准平台601移动而使保持橡皮布BL的下平台61水平移动。这时，如图11(a)所示，优选的是各手625的上表面625a与橡皮布BL的下表面相隔。这是因为在本实施方式中升降手单元62、升降手单元63被固定在底座框架21上，当对准平台601通过对准平台支撑机构605的作动而水平移动时，各手625不与该对准平台601连动。

然而，有如下情况：如果为了该目的而使各手625下降，则橡皮布BL也随之而向下方弯曲。只要在维持各手625的铅垂方向位置的状态下使气体从手上表面625a的吸附孔625b喷出，便可维持橡皮布BL的水平姿势，且可在橡皮布BL与手上表面625a之间形成微小的间隙。由此，可避免在橡皮布BL移动时摩擦手625。通过维持将橡皮布BL吸附保持在下平台61的状态，而防止橡皮布BL相对于下平台61的移位。如图11(c)所示，在精密对准过程中的橡皮布BL的移动时，也可同样地进行。

并非使基板SB或橡皮布BL单独移动，而是使它们在保持在上平台41或下平台61上的状态下与平台一并移动，由此可在维持它们的姿势的状态下移动，从而可防止因弯曲而造成的位置对准精度的降低。

在这之前，对版PP(或基板SB)的预对准简单地进行了说明，但以下，一面参照图19(a)、图19(b)、图19(c)至图22(a)、图22(b)、图22(c)、图22(d)，一面对版PP的预对准处理进行详细叙述。此外，基板SB的预对准处理也与以下进行说明的版PP的预对准处理相同，因此省略基板SB的预对准处理的详细说明。

图19(a)、图19(b)、图19(c)是示意性地表示上平台区块及基板用预对准相机的大致构成的图。关于上平台区块4及基板用预对准相机241～基板用预对准相机243的构成及配置是如上所述，如图19(a)所示，支架(gantry)部包括上平台41、增强框架42、梁状结构体43及支撑柱45、支撑柱46，且构成为一面由上平台区块支撑机构482支撑一面可水平驱动。

此外，以下，为了将在X方向位置不同地设置在两个部位的底板481彼此区分，设为以符号4811表示两个底板481中的配置在(-X)侧的一个底板，而且，以符号4812表示配置在(+X)侧的一个底板。同样地，为了将在X方向位置不同地设置在两个部位的上平台区块支撑机构482彼此区分，设为以符号4821表示两个上平台区块支撑机构482中的配置在(-X)侧的一个支撑机构，而且，以符号4822表示配置在(+X)侧的一个支撑机构。

图20(a)、图20(b)是示意性地表示(-X)侧的上平台区块支撑机构的构成的图。该上平台区块支撑机构4821是沿X方向及Y方向驱动底板4811的双轴平台机构。在上平台区块支撑机构4821中，在基座构件482a上，如图20(b)所示，固定有沿Y方向延伸的导轨482b，并且滑块482c可在Y方向滑动自如地安装于该导轨482b。而且，在滑块482c上安装着Y轴用滚珠螺杆支架(bracket)482d。如图20(a)所示，该Y轴用滚珠螺杆支架482d是沿X方向延伸设置，其(+X)侧端部螺合在沿Y方向延伸的Y轴用滚珠螺杆482e。在Y轴用滚珠螺杆482e的(+Y)侧端部，安装着Y轴用马达482f，当Y轴用马达482f相应于来自马达控制部802(图2)的动作指令而作动时，与此相应地，Y轴用滚珠螺杆支架482d沿Y方向移动。Y轴移动部包括这些构成。

而且，在Y轴用滚珠螺杆支架482d上设置着X轴移动部。该X轴移动部包括：线性导引件(linear guide)，使滑块482h可在X方向滑动自如地安装于沿X方向延伸的导轨482g；X轴用滚珠螺杆482j；X轴用滚珠螺杆支架482k，螺合在该X轴用滚珠螺杆482j；以及X轴用马达482m。在X轴移动部，以使导轨482g位于滑块482h的上方的状态将滑块482h固定在Y轴用滚珠螺杆支架482d的(+X)侧端部的上表面。而且，在导轨482g上安装着X轴用滚珠螺杆支架482k。因此，如果连结于X轴用滚珠螺杆482i的(-X)侧端部的X轴用马达482m相应于来自马达控制部802(图2)的动作指令而作动，则X轴用滚珠螺杆支架482k相对于Y轴移动部在X轴方向移动。这样一来，能以在Y轴移动部上积层着X轴移动部的形式构成双轴平台机构，且可使X轴用滚珠螺杆支架482k在X方向及Y方向移动。

而且，对X轴用滚珠螺杆支架482k经由交叉滚轮轴承482n而安装底板4811。因此，通过控制Y轴用马达482f及X轴用马达482m可将底板4811朝X方向及Y方向驱动。

图21(a)、图21(b)是示意性地表示(+X)侧的上平台区块支撑机构的构成的图。该上平台区块支撑4822除如下两个方面以外，还具有与上平台区块支撑机构4821相同的构成，所述两个方面是指：在X轴移动部未设置滚珠螺杆机构及X轴用马达；以及代替X轴用滚珠螺杆支架482k而设置具有相同形状的支架482p。因此，上平台区块支撑机构4822可一面在X方向及Y方向移动自如地支撑底板4812一面仅朝Y方向驱动该支撑底板4812。

返回到图19(a)、图19(b)、图19(c)继续说明。在本实施方式中使用的版PP及基板SB均为具有矩形形状的板状体，预对准相机中的基板用预对准相机241、基板用预对准相机242是与规定版PP及基板SB的形状的四条边E1～边E4中的(-X)侧的长边E1对应地设置并分别拍摄(-X)侧的外缘的两个部位，基板用预对准相机243是与(-Y)侧的短边E2对应地设置并拍摄(-Y)侧的外缘的一部位。在该图(c)中，区域IR4、区域IR5、区域IR6分别表示相机241～相机243的拍摄范围。这样，通过分别拍摄靠近版PP的角部的外缘，可提高预对准中的定位精度。

在本实施方式中，分别拍摄相互不平行的两条边E1、边E2的一部分的理由是为了独立地求出版PP相对于X方向及Y方向的二维的目标位置的位置偏移量。而且，在同一边E1拍摄两个部位以上的理由是为了求出θ方向上的版PP相对于目标位置的倾斜量，理想的是如本实施方式般利用长边侧。然而，并不限定于长边侧，也可为短边侧的边E2、边E4。而且，也可在相互平行的两边(例如边E1与边E3、或边E2与边E4)的各者进行拍摄，而求出倾斜量。

接下来，一面参照图22(a)、图22(b)、图22(c)、图22(d)一面对版PP的预对准处理进行说明。图22(a)、图22(b)、图22(c)、图22(d)是示意性地表示版的预对准处理的图。在本实施方式中，预先将利用上平台41保持的版PP定位在目标位置，如图22(a)所示，利用各相机241～相机243拍摄目标位置的版PP，求出：

·图像IR4内的长边E1的X方向上的位置X40；

·图像IR5内的长边E1的X方向上的位置X50；及

·图像IR6内的短边E2的Y方向上的位置Y60；

进而，包含位置X40、位置X50的偏移量ΔX0在内，将这些值作为目标位置信息记忆在控制单元8的记忆部(省略图示)。这里，位置X40、位置X50无需一致，两者也可偏移。而且，只要各相机241～相机243的位置不变更，这些目标位置信息(X40、X50、Y60、ΔX0)就无需更新。

接下来，当实际搬入版PP时，控制单元8的CPU801是根据预先记忆在省略图示的记忆部中的程序，基于相机241～相机243的拍摄结果而控制上平台区块支撑机构4821、上平台区块支撑机构4822，将版PP定位在目标位置(版PP的预对准)。即，在版PP被交接到上平台41并由上平台41吸附保持的状态下利用基板用预对准相机241～基板用预对准相机243分别拍摄版PP的端部。图22(b)表示其一例，一般来说，是以这样从目标位置偏移的状态，将版PP吸附保持在上平台41。求出这时的利用相机241所拍摄的图像IR4内的长边E1的X方向上的位置X41、及利用相机242所拍摄的图像IR5内的长边E1的X方向上的位置X51。此外，该图(b)中的符号ΔX1表示位置X41、位置X51的偏移量。

这里，在不发生相对于目标位置的位置偏移地将版PP吸附保持在上平台41的情况下，所述位置X41、位置X51与目标位置信息X40、目标位置信息X50一致且偏移量ΔX1也与目标位置信息ΔX0一致，不仅如此，利用相机243所拍摄的图像IR6内的短边E2的Y方向上的位置Y61也与目标位置信息Y60一致，但如图22(b)所示，一般来说任一者均成为不同的值。

因此，在本实施方式中，基于目标位置信息X40、目标位置信息X50、以及位置X41、位置X51，通过运算而求出版PP相对于目标位置的倾斜量。而且，使Y轴用马达482f、482f及X轴用马达482m按该倾斜量进行作动而使上平台41在水平面内旋转，从而修正倾斜。由此，例如图22(c)所示，在倾斜修正后，利用相机241所拍摄的图像IR4内的长边E1的X方向上的位置X42、与利用相机242所拍摄的图像IR5内的长边E1的X方向上的位置X52的偏移量ΔX2是和目标位置信息ΔX0一致或大致一致。假设在偏移量ΔX2与目标位置信息ΔX0的差异未成为规定值以内的情况下，基于所述位置X42、位置X52，通过运算再次求出版PP相对于目标位置的倾斜量，使Y轴用马达482f、482f及X轴用马达482m按该倾斜量进行作动而使上平台41在水平面内旋转，从而修正倾斜。可通过重复所述处理直至偏移量ΔX2与目标位置信息ΔX0一致或大致一致并且所述差异成为规定值以内为止，而准确地修正版PP相对于目标位置的倾斜。

当以所述方式完成倾斜修正时，在倾斜修正后，基于利用相机241所拍摄的图像IR4内的长边E1的X方向上的位置X42(或位置X52)及目标位置信息X40(或X50)而算出X方向上的版PP的偏移量Xoff。而且，在修正倾斜后基于利用相机243所拍摄的图像IR6内的短边E3的Y方向上的位置Y62及目标位置信息Y60而算出Y方向上的版PP的偏移量Yoff。然后，使X轴用马达482m按偏移量Xoff进行作动，而使上平台41在X方向偏移移动，并且使Y轴用马达482f、482f按偏移量Yoff进行作动，而使上平台41在Y方向偏移移动。由此，如图22(d)所示，将版PP定位在目标位置，完成预对准处理。此外，在假设在偏移修正后利用相机241所拍摄的图像IR4内的长边E1的X方向上的位置X43(或位置X53)与目标位置信息X40(或X50)不一致而偏移量Xoff未成为规定值以内；或在偏移修正后利用相机243所拍摄的图像IR6内的短边E3的Y方向上的位置Y63与目标位置信息Y60不一致而偏移量Yoff未成为规定值以内的情况下，使发生偏移的一侧的马达作动而按该偏移量进行偏移移动。可通过重复偏移修正直至偏移量Xoff、Yoff均成为规定值以内为止，而准确地修正版PP相对于目标位置的偏移。以这种方式进行版PP(或基板SB)的预对准处理。

如上所述，在本实施方式中，使由下平台61保持的橡皮布BL的上表面、及由上平台41保持的版PP或基板SB的下表面相互挤压而形成图案，但在执行该操作前，以保持在上平台41的状态进行版PP或基板SB的向目标位置的定位、即预对准处理。因此，即便在利用版用手HP搬送版PP时、利用基板用手HS搬送基板SB时、将版PP或基板SB交接到上平台41时发生位置偏移或在版PP或基板SB发生大幅度的弯曲，也可利用预对准处理来消除，从而将版PP或基板SB确实地定位在目标位置。结果，可提高图案形成的精度。

而且，基于相机241～相机243的拍摄结果而进行所述的倾斜修正及偏移修正，因此可将具有矩形形状的版PP及基板SB准确地定位在目标位置。

进而，在所述实施方式中，上平台41的保持平面41a形成为略小于版PP及基板SB的各者的平面尺寸并吸附版PP及基板SB的中央部，以版PP及基板SB的外缘从保持平面41a伸出的状态吸附保持版PP及基板SB。而且，相对于版PP及基板SB从与下平台61为相反侧的(+Z)侧拍摄版PP及基板SB的外缘。因此，相机241～相机243可不干涉下平台区块地拍摄版PP及基板SB的外缘。

<第二实施方式>

此外，在所述实施方式中，利用基板用预对准相机241～基板用预对准相机243及橡皮布用预对准相机244～橡皮布用预对准相机246分别拍摄基板SB(或版PP)及橡皮布BL的外缘部，基于其拍摄结果使上平台41及下平台61移动，由此进行预对准处理。在该情况下，基板SB与橡皮布BL的平面尺寸不同，因此，基板SB的外缘部与橡皮布BL的外缘部必须分别利用不同的相机进行拍摄，而相机的数量变多。也可取代所述情况，而例如以如下方式，利用更少数量的相机执行预对准处理。

以下，对本发明的具有作为对准装置的功能的图案形成装置的第二实施方式进行说明。第二实施方式的装置是预对准相机的配置及基于其拍摄结果的预对准处理的原理与第一实施方式不同，另一方面，关于其他方面可设为与第一实施方式相同的构成。因此，这里，对与第一实施方式相同的构成标注相同的符号并省略说明，主要对第二实施方式特有的构成及动作进行说明。然而，关于对准相机27的拍摄范围FV，为了与预对准相机的拍摄范围FV2区分而利用符号FV1表示。

在本实施方式的预对准处理中，代替在第一实施方式中进行的基板SB或橡皮布BL的外缘部的拍摄，而利用预对准相机对形成在基板SB及橡皮布BL的对准标记、更具体来说为形成在基板SB的基板侧对准标记AMs及形成在橡皮布BL的橡皮布侧对准标记AMb进行拍摄。而且，基于其拍摄结果而使基板SB及橡皮布BL水平移动，使分别设置的对准标记移动到对准相机27的拍摄范围FV1内。精密对准处理的内容与第一实施方式相同。

图23(a)、图23(b)是说明第二实施方式的装置中的预对准处理的图。更具体来说，图23(a)是示意性地表示第二实施方式的图案形成装置中的预对准相机的配置的图，图23(b)是表示预对准相机及对准相机的拍摄范围的图。此外，在图23(b)中表示与从下方仰视橡皮布BL的状态对应的座标轴。

在本实施方式中，预对准相机25设置在由下平台6l保持的橡皮布BL的下方，预对准相机25是使其光轴AX2斜向上地配置。更详细来说，以光轴相对于橡皮布BL的下表面的法线具有角度α的倾斜的方式设置预对准相机25。在该例中，光轴AX2向(+X)方向倾斜角度α。作为该角度α，适当的是30度至60度左右。

另一方面，对准相机27是以其光轴AX1与橡皮布BL的下表面正交的方式设置。对准相机27包括作为摄像光学系统发挥功能的透镜单元LU1、及例如包括电荷耦合元件(ChargeCoupled Device，CCD)传感器(sensor)或互补金属氧化物半导体(Complementary MetalOxide Semiconductor，CMOS)传感器等的拍摄元件IM1。透镜单元LU1为放大光学系统，其倍率为预先规定的固定值。而且，预对准相机25也包括透镜单元LU2及拍摄元件IM2。

对准相机27的透镜单元LU1是例如具有10倍左右的倍率的放大光学系统，如图23(b)所示，对准相机27以高倍率拍摄相对狭窄的拍摄范围FV1。另一方面，预对准相机25的透镜单元LU2具有0.5倍至1倍左右的倍率，以低倍率拍摄与对准相机27相比更广泛的拍摄范围FV2。因此，即便拍摄元件IM1、拍摄元件IM2的分辨率为相同程度，对准相机27也能以高分辨率进行拍摄。

对准相机27的拍摄范围FV1与预对准相机25的拍摄范围FV2的相对的位置关系是预先规定的。如图23(b)所示，优选的是以预对准相机25的拍摄范围FV2包含对准相机27的拍摄范围FV1的方式设定两个相机的位置。此外，理想的是对准相机27的拍摄范围FV1的大部分包含在预对准相机25的拍摄范围FV2内，但也可为如一部分不包含在所述范围在内的位置关系。

由此，预对准处理中的基板侧对准标记AMs及橡皮布侧对准标记AMb是在预对准相机25的拍摄范围FV2内移动。因此，可利用预对准相机25来验证在预对准处理后对准标记移动到规定的位置的情况。而且，能以基板SB及橡皮布BL配置在靠近最终的目标位置的位置的状态下进行预对准处理。进而，通过将利用预对准相机25所拍摄的对准标记与利用对准相机27所拍摄出的对准标记进行对比，可验证对准相机27的拍摄范围FV1与预对准相机25的拍摄范围FV2的位置关系。这些均有助于提高对准标记的位置检测精度。

通过使预对准相机25的光轴AX2设定在倾斜于橡皮布BL的下表面的方向，可使预对准相机25与对准相机27相互不干涉地进行拍摄。即，可避免其中一个相机的构成零件遮挡住另一个相机的视场。

而且，通过在相对于橡皮布BL及基板SB朝斜向配置预对准相机25的状态下进行拍摄，与从垂直方向拍摄的情况相比，预对准相机25所预估的橡皮布BL及基板SB的表面积增大，结果，拍摄范围FV2在X方向延长。这样的情况就对准标记的位置检测精度的方面而言不利，但在使基板SB及橡皮布BL的大致位置吻合的预对准处理中不成为问题。倒不如说，通过扩大拍摄范围，而检测基板侧及橡皮布侧对准标记的大致位置变得容易，且对基板SB及橡皮布BL的搬入时的位置偏差的容许范围变宽，因此情况良好。

图24(a)、图24(b)是表示预对准相机及对准相机的聚焦范围的图。图24(a)表示对准相机27的聚焦范围FR1。对准相机27包括相对高倍率的透镜单元LU1，且其景深相对浅。因此，铝垂方向(Z方向)上的聚焦范围FR1也相对狭窄，难以将隔着间隙G而对向配置的基板SB与橡皮布BL这两者位于聚焦范围内。因此，有无法同时对基板侧对准标记AMs与橡皮布侧对准标记AMb聚焦的情况。在本实施方式中，如图24(a)所示，以将橡皮布BL的上表面位于聚焦范围FR1内并对橡皮布侧对准标记AMb聚焦的方式，设定对准相机27的Z方向位置。

结果，如果未对基板侧对准标记AMs聚焦，则在拍摄结果中失去特别高的空间频率成分。作为基板侧对准标记AMs，只要使用包含大量相对低的空间频率成分的图形，则即便根据未聚焦的图像也可至少对基板侧对准标记AMs的重心位置高精度地进行检测，且在对准标记间的位置对准中不会产生障碍。为了实现所述内容，如图16(b)所示，例如可使基板侧对准标记AMs为实心图形，且使橡皮布侧对准标记AMb为中空图形。

另一方面，关于预对准相机25，由于透镜单元LU2为低倍率，所以可使用更深的景深的相机，且如图24(b)所示，可更扩大沿光轴方向的聚焦范围FR2。因此，可在将设置在隔着间隙G而对向配置的基板SB与橡皮布BL的各者的基板侧对准标记AMs与橡皮布侧对准标记AMb一并位于聚焦范围内的状态下进行拍摄。即，可在已对基板侧及橡皮布侧对准标记这两者进行聚焦状态下，在同一视场内对它们进行拍摄。因此，即便为分辨率并不那么高的相机，也可予以使用，而且，通过从斜方向的拍摄也可获得实用上充分的位置检测精度。

在例如使用包括倍率10倍、工作距离(working distance)16mm的透镜单元LU1及2/3英寸(inch)角尺寸的拍摄元件IM1的相机作为对准相机27时，其拍摄范围FV1为一边小于1mm、更具体来说成为0.7mm至0.8mm左右。另一方面，在例如使用包括倍率0.5倍、景深6mm的透镜单元LU2及1/3英寸角尺寸的拍摄元件IM2的相机作为预对准相机25，且将光轴的倾斜角α设为60度时，拍摄范围FV2在长边方向(X方向)成为16mm左右、在短边方向(Y方向)成为12mm左右。而且，如果将间隙G设为300μm左右，则基板SB、橡皮布BL均处于聚焦范围FR2内的情况成为7mm角左右。认为对从自外部搬入的基板SB及橡皮布BL检测基板侧及橡皮布侧对准标记而言为充分的精度。

图25是表示第二实施方式的对准处理的流程图。在第一实施方式的处理中，在进行搬入至装置的基板SB与橡皮布BL的间隙调整之前进行预对准处理，但在第二实施方式中必须使基板SB与橡皮布BL邻近对向，因此在间隙调整后依序执行预对准处理及精密对准处理。在图中，步骤S202～S205的各处理步骤相当于预对准处理，步骤S206～S211的各处理步骤相当于精密对准处理。

即，当利用间隙调整使基板SB与橡皮布BL隔着规定间隙G地对向配置时(步骤S201)，利用预对准相机25进行拍摄(步骤S202)，在同一视场内拍摄基板侧对准标记AMs及橡皮布侧对准标记AMb。这时，也假定任一个对准标记从拍摄范围FV2偏离的案例，但利用上平台区块支撑机构482或对准平台支撑机构605的基板SB及橡皮布BL的可动范围有极限，因此在这样存在大的位置偏移的情况下也可作为误差(error)进行处理。

根据拍摄结果分别对基板侧对准标记AMs及橡皮布侧对准标记AMb的位置进行检测(步骤S203)。这时，基板SB与橡皮布BL隔着间隙G而隔开，而且，由于从斜向进行拍摄，所以在拍摄图像中基板侧对准标记AMs的位置投影到与原本的水平方向位置不同的位置。在已对所述方面修正的情况下进行位置检测。该情况下的位置偏移仅表现为向X方向的固定量的位移，因此通过扣除相当于该位移的程度，可容易地修正。可能会因间隙的偏差而产生少许的位置检测误差，但因之后进行精密对准处理，所以不成为问题。

当检测到基板侧对准标记AMs及橡皮布侧对准标记AMb的位置时，分别算出用于使它们位于对准相机27的拍摄范围FV1内所需的基板SB及橡皮布BL的移动量(步骤S204)，根据所求出的移动量，而使上平台41及下平台61移动(步骤S205)。在任一个对准标记已处在拍摄范围FV1内的情况下无需移动。由此，基板侧对准标记AMs及橡皮布侧对准标记AMb均出现在对准相机27的拍摄范围FV1内。

对准相机27是在同一视场内拍摄基板侧对准标记AMs及橡皮布侧对准标记AMb(步骤S206)，根据该拍摄图像而进行各对准标记的位置检测(步骤S207)。根据对准标记的位置关系可掌握基板SB与橡皮布BL的相对位置，且为了使这些位置关系为预先规定者而算出所需的橡皮布BL的移动量(步骤S208)。此处需要调整基板SB与橡皮布BL的相对的位置关系，且可为基板SB或橡皮布BL中的任一者移动。在本实施方式中，使下平台61对应于所求出的必要移动量而移动，由此使橡皮布BL移动(步骤S209)。

在移动后，重新进行利用对准相机27的拍摄，验证基板侧对准标记AMs与橡皮布侧对准标记AMb的相对位置(步骤S210)。对两者的相对位置的误差是否处在预先规定的适当范围内进行判断(步骤S211)，如果处在适当范围内，则结束处理，另一方面，在并非如此的情况下，返回到步骤S208。重复循环(loop)处理直至位置的误差如所述那样位于适当范围内。在对准平台支撑机构605具有可利用一次移动而使对准标记移动到适当范围的程度的定位精度的情况下，可省略移动后的验证及循环处理。

在基于以光轴AX1与橡皮布BL的下表面正交的方式配置的对准相机27的拍摄结果的精密对准处理中，间隙G的偏差不会给对准标记的位置检测造成影响，因此可实现高精度的位置对准。这时，通过预对准处理而将基板侧及橡皮布侧对准标记AMs、AMb预先定位在拍摄范围FV1内，因此，可进行拍摄范围FV1狭窄的高倍率的拍摄。而且，无需使拍摄范围可变，因此，可应用倍率固定的摄像光学系统。因此，可不受在变更倍率时发生的光轴偏移或图像的失真等的影响而进行高分辨率的拍摄，且可由此而实现高精度的位置对准。

在本实施方式中，在预对准处理中使上平台41及下平台61分别移动必要量，由此使基板SB及橡皮布BL各自大致地位置对准，其后，通过精密对准处理使下平台61移动必要量，由此仅使橡皮布BL移动，而更精密地与基板SB进行相对的位置对准。即，伴随基板SB的移动的基板侧对准标记AMs的移动仅在预对准处理中进行，而且伴随橡皮布BL的移动的橡皮布侧对准标记AMb的移动是在预对准处理及精密对准处理这两种处理中进行。

图26(a)、图26(b)是表示伴随对准处理的对准标记的移动的形态的图。如图26(a)所示，在预对准相机25的拍摄范围FV2内拍摄到的基板侧对准标记AMs是通过预对准处理而移动到对准相机27的拍摄范围FV1内的位置P1。另一方面，橡皮布侧对准标记AMb是通过预对准处理而移动到对准相机27的拍摄范围FVl内的位置P2，进而通过精密对准处理而移动到最终的目标位置P3。在该位置P3，与基板侧对准标记AMs的相对位置成为预先规定的位置。

这时，在橡皮布侧对准标记AMb向位置P2的移动及向位置P3的移动过程中，理想的是其移动方向大致相同。即，在预对准处理中，理想的是以橡皮布侧对准标记AMb朝到达目标位置即位置P3的路径的中途位置或其附近位置移动的方式，使橡皮布BL移动。此外，在这些移动过程中移动方向无需完全相同，在将移动分解为X方向及Y方向成分时，在各成分中，只要两次的移动方向相同即可。在图26(a)的例子中，预对准处理中的向位置P2的移动的X方向成分为(-X)方向。在该情况下，优选的是使精密对准处理中的向位置P3的移动的X方向成分也成为(-X)方向。关于Y方向成分也相同。其理由如下所述。

表示为比较例的图26(b)中表示在橡皮布侧对准标记AMb在预对准处理中朝(-X)方向及(-Y)方向移动而移动至位置P4后，在精密对准处理中朝(-X)方向及(+Y)方向移动而移动至目标位置P3的例子。这样，就X方向及Y方向中的至少一者而言，在预对准处理与精密对准处理之间移动方向成为相反的情况下，可能会因移动机构的后退而导致定位误差变大。

如图26(a)所示，使X方向、Y方向的各移动方向在预对准处理与精密对准处理之间相同，由此，可抑制因这种后退而导致的误差，而可进行更高精度的位置对准。尤其是当在精密对准处理中省略循环处理的情况下，这样的情况在提高精度上有效。

此外，这里，对使用一组预对准相机25及对准相机27的预对准处理及精密对准处理的原理进行了说明，但为了获得更高的位置对准精度，更优选的是分别设置多个所述预对准相机25及对准相机27，在互不相同的多个部位进行拍摄。在本实施方式的图案形成装置中，将在矩形的四角分别设置着对准标记的基板SB作为处理对象物，与这些对应地设置四台对准相机27。关于精密对准处理，优选的是使用四部位的对准标记中的三部位以上的位置检测结果。

另一方面，从大致地位置对准这一目的来看，预对准相机25无需对应于所有对准标记，例如两台左右即可获得充分的精度。例如只要对应于配置在基板SB的对角附近的两个对准标记设置两台预对准相机25并进行预对准处理，即可获得将对准标记定位在四台对准相机27的各者的拍摄范围内的程度的位置精度。

在这些情况下，基于对准标记的拍摄结果的基板SB及橡皮布BL的必要移动量理想的是使根据在多个部位的位置检测结果分别求出的必要移动量平均而算出。

如上所述，在本实施方式中，在隔着微小的间隙G而对向配置的基板SB与橡皮布BL之间依序进行预对准处理及精密对准处理，由此可实现两者的高精度的位置对准。而且，由以所述方式高精度地进行位置对准的状态使基板SB与橡皮布BL密接，由此，可精度良好地将承载在橡皮布BL上的图案转印至基板SB的规定位置。

此外，在从版PP对橡皮布BL的图案化处理的步骤中，无法应用所述第二实施方式的预对准处理。这是因为在该时间点的橡皮布BL未形成有成为位置对准的基准的对准标记。因此，在图案化处理时无法进行版PP与橡皮布BL的位置对准，但该方面不成为问题。这是因为可参照在基板SB与橡皮布BL的预对准处理的阶段分别形成的对准标记的位置，因此不论承载在橡皮布BL上的图案的位置如何，橡皮布BL上的图案与基板SB的位置关系均可适当地保持。

<其他>

如以上的说明所述，在所述实施方式中，图案形成装置1为将本发明的“图案形成装置”及“对准装置”具体化而得的一个例子。而且，橡皮布BL相当于本发明的“承载体”、“第一板状体”，版PP相当于本发明的“板状体”、“第二板状体”。而且，基板SB相当于本发明的“被转印体”、“板状体″、“第二板状体”。而且，橡皮布侧对准标记AMb相当于本发明的“第一对准标记”，另一方面，基板侧对准标记AMs相当于本发明的“第二对准标记”。

而且，在所述实施方式中，下平台61作为本发明的“第一保持设备”而发挥功能，对准平台支撑机构605作为本发明的“第一移动设备”而发挥功能。另一方面，上平台41作为本发明的“第二保持设备”而发挥功能，并且其下表面41a相当于“保持平面”，上平台区块支撑机构482(4821、4822)作为本发明的“移动设备”、“第二移动设备”而发挥功能。而且，转印辊单元64作为本发明的“推顶设备”而发挥功能。

而且，在所述实施方式中，控制单元8、基板用预对准相机241～基板用预对准相机243、橡皮布用预对准相机244～橡皮布用预对准相机246一体地作为本发明的“预对准设备”而发挥功能，基板用预对准相机241～基板用预对准相机243具有作为“拍摄设备”、“预对准用拍摄部”的功能，橡皮布用预对准相机244～橡皮布用预对准相机246具有作为“预对准用拍摄部”的功能。而且，控制单元8及对准相机27一体地作为本发明的“精密对准设备”而发挥功能，对准相机27具有作为“精密对准用拍摄部”、“主拍摄设备”的功能。进而，第二实施方式的预对准相机25作为本发明的“副拍摄设备”而发挥功能。

而且，在所述实施方式中，图18(a)所示的理想的橡皮布BLi的位置相当于本发明的“第一目标位置”。虽然未图示，但在将相同的想法应用到基板SB时的理想的基板的位置相当于本发明的“第二目标位置”。

而且，在所述实施方式中，图7的步骤S107～步骤S108相当于本发明的“配置步骤”，步骤S109相当于本发明的“预对准步骤”。而且，步骤S111相当于本发明的“精密对准步骤”。而且，步骤S112相当于本发明的“转印步骤”。而且，图25所示的步骤S201相当于本发明的“配置步骤”，另一方面，步骤S202～S205分别相当于本发明的“预对准步骤”，而且，步骤S206～S211分别相当于本发明的“精密对准步骤”。

此外，本发明并不限定于所述实施方式，只要在不脱离其意旨的范围内，即可除所述内容以外进行各种变更。例如，在所述实施方式中，分别设置三台基板用预对准相机及橡皮布用预对准相机，但并不限定于此，只要至少分别有两台以上即可。而且，同一相机也可兼具基板用预对准相机及橡皮布用预对准相机的功能。

而且，在所述实施方式中，基板用及橡皮布用预对准相机是分别对靠近基板及橡皮布的角部的外缘进行拍摄，但拍摄位置并不限定于此。例如也可通过分别拍摄各个相互对向的两边或相互处于对角的关系的两个角部，而求出基板或橡皮布的位置偏移量。而且，也可根据呈现在图像中的外缘的倾斜而求出橡皮布的倾斜量。

而且，在所述实施方式中，使用在橡皮布BL上与图案一并图案化的橡皮布侧对准标记AMb进行精密对准处理，但也可使用预先固定地形成在橡皮布BL的对准标记。然而，在该情况下，为了在基板SB的适当位置进行图案形成，在从版PP向橡皮布BL的图案化时也需要精密对准。

而且，在所述实施方式的精密对准处理中，通过使下平台61水平移动而使橡皮布BL相对于基板SB移动，从而进行位置对准，但即便使基板SB与上平台41一并移动，技术上也为等效。而且，也可为使基板SB及橡皮布BL这两者移动的构成。

而且，所述实施方式为具有利用内部开口且形成为边框状的下平台61保持橡皮布BL的周缘部的构成者，基于本发明的思想的对准技术并不限定于此，例如也可对具有在平板状的平台载置橡皮布的构成的图案形成装置应用。

而且，例如，在所述实施方式中，利用三台基板用预对准相机241～基板用预对准相机243拍摄版PP及基板SB的外缘，但相机的台数或配设位置并不限定于所述实施方式，而且，关于拍摄的部位的个数或位置也不限定于所述实施方式，只要可对版PP及基板SB的外缘的至少一部分进行拍摄并供预对准，则为任意。

而且，在所述实施方式中，将预对准分为倾斜修正及偏移修正这两个阶段执行，但基于利用相机241～相机243而得的拍摄结果的修正方法并不限定于此，例如也可同时执行倾斜修正及偏移修正。

而且，例如在所述实施方式中使基板SB及橡皮布BL保持为水平姿势并对向，但本发明的对准技术也可不论这些姿势如何而进行应用。

而且，所述实施方式是应用了本发明的对准技术的图案形成装置，但本发明的应用对象不仅限定于将图案转印至这种基板的装置，也可应用在需要使对向配置的两片板状体精密地位置对准的各种用途中。例如在使所述专利文献4中所记载的基板与标记对向配置的情况、或例如电致发光(Electro Luminescence，EL)显示装置般夹隔规定的功能层而使两片基板贴合的情况下的位置对准中，可应用本发明的技术思想。

[产业上的可利用性]

本发明适宜应用在要求使两个物体高精度地位置对准并对向的各种技术领域中。

Claims (12)

1.一种对准装置，其特征在于，包括：

第一保持设备，保持形成着第一对准标记且具有光透过性的第一板状体，可使所述第一板状体在与其主面平行的方向移动；

第二保持设备，使形成着第二对准标记的第二板状体保持相对于所述第一板状体平行且隔着规定的间隙而邻近对向的状态，可使所述第二板状体在与其主面平行的方向移动；

主拍摄设备，相对于所述第一板状体，以光轴与所述第一板状体的主面正交的方式配置在与所述第二板状体为相反侧的一侧，拍摄所述第一板状体及所述第二板状体；以及

副拍摄设备，相对于所述第一板状体设置在与所述第二板状体为相反侧的一侧，以比所述主拍摄设备的拍摄范围更广泛的拍摄范围对所述第一板状体及所述第二板状体进行拍摄；且

基于所述副拍摄设备的拍摄结果，所述第一保持设备使所述第一板状体移动定位在所述第一对准标记处于所述主拍摄设备的拍摄范围的位置，另一方面，基于所述副拍摄设备的拍摄结果，所述第二保持设备使所述第二板状体移动定位在所述第二对准标记处于所述主拍摄设备的拍摄范围的位置，在所述间隙的大小被维持的状态下，进而，

基于在同一视场内拍摄的包含所述第一对准标记及所述第二对准标记的所述主拍摄设备的拍摄结果，所述第一保持设备及所述第二保持设备中的至少一者使所述第一板状体与所述第二板状体的相对位置变化，以使所述第二对准标记相对于所述第一对准标记的相对位置成为预先规定的目标位置。

2.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于：所述副拍摄设备的光轴与所述第一板状体的主面斜交。

3.根据权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于：配置所述主拍摄设备及所述副拍摄设备，在所述第二板状体的主面，以使所述副拍摄设备的拍摄范围包含所述主拍摄设备的拍摄范围的至少一部分。

4.根据权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于：所述主拍摄设备包括倍率固定的放大光学系统。

5.根据权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于：所述主拍摄设备具有高于所述副拍摄设备的分辨率。

6.根据权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于：所述副拍摄设备的景深比所述主拍摄设备的景深更深，所述副拍摄设备使所述第一对准标记及所述第二对准标记均处于聚焦范围而进行拍摄。

7.根据权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于：包括拍摄范围彼此不同的多个所述主拍摄设备、以及拍摄范围彼此不同的多个所述副拍摄设备。

8.一种对准方法，其特征在于，包括：

配置步骤，使形成着第一对准标记且具有光透过性的第一板状体、及形成着第二对准标记的第二板状体相互平行地且隔着规定的间隙地邻近对向配置，并且相对于所述第一板状体，在与所述第二板状体为相反侧的一侧，以光轴与所述第一板状体的主面正交的方式配置主拍摄设备；

预对准步骤，相对于所述第一板状体，从与所述第二板状体为相反侧的一侧，利用具有比所述主拍摄设备的拍摄范围更广泛的拍摄范围的副拍摄设备，在同一视场内拍摄所述第一对准标记与所述第二对准标记，基于其拍摄结果，将所述第一板状体及所述第二板状体定位在所述第一对准标记及所述第二对准标记均处于所述主拍摄设备的拍摄范围的位置；以及

精密对准步骤，在所述预对准步骤中的所述间隙的大小被维持的状态下，利用所述主拍摄设备在同一视场内拍摄所述第一对准标记及所述第二对准标记，基于其拍摄结果，使所述第一板状体与所述第二板状体相对移动，以使所述第二对准标记相对于所述第一对准标记的相对位置成为预先规定的目标位置。

9.根据权利要求8所述的对准方法，其特征在于：使所述副拍摄设备的光轴与所述第二板状体的主面斜交。

10.根据权利要求8或9所述的对准方法，其特征在于：在所述第二板状体的主面，以使所述副拍摄设备的拍摄范围包含所述主拍摄设备的拍摄范围的至少一部分的方式，配置所述主拍摄设备及所述副拍摄设备。

11.根据权利要求8或9所述的对准方法，其特征在于：在所述预对准步骤中，利用具有比所述主拍摄设备的景深更深的景深的所述副拍摄设备，使所述第一对准标记及所述第二对准标记均处于聚焦范围而进行拍摄。

12.根据权利要求8或9所述的对准方法，其特征在于：所述第一板状体及所述第二板状体在所述预对准步骤及所述精密对准步骤中朝相同的方向移动。