JP2012063199A - 光学式エンコーダ用反射板、エンコーダ及び光学式エンコーダ用反射板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板と、当該基板の表面に形成され、光を反射する第一金属からなる光反射層と、当該光反射層の表面のうち所定領域を空けて形成され、光を吸収すると共に第一金属よりも標準電極電位の低い第二金属からなる光吸収層とを備える。
【選択図】図2
Description
以下、図面を参照して、本発明の第一実施形態を説明する。
図1は、本実施形態に係る光学式エンコーダ用反射板10の構成を示す平面図である。図2は、図1におけるA−A´断面に沿った構成を示す図である。
図3に示す光学式エンコーダ用反射板10Bは、図1及び図2に示す光学式エンコーダ用反射板10Aに加えて、保護層4を有している。保護層4は、光反射領域15における光反射層Mの表面Ma及び光吸収層3の表面3aを含む基板1上のほぼ全面を覆うように形成されている。保護層4は、例えば光透過性を有する材料を用いて形成されている。このような材料としては、例えば樹脂などの有機材料、金属酸化物などの無機材料が挙げられる。保護層4が設けられていることにより、光反射層Mの表面Ma及び光吸収層3の表面Maが保護されるため、光反射層Mや光吸収層3の腐食が発生しにくくなる。
次に、上記のように構成された光学式エンコーダ用反射板10Aの製造方法を説明する。まず、図6に示すように、基板1の表面1aに上記第一金属からなる光反射層Mを形成する。光反射層Mは、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、メッキ法、電解酸化法など、の手法を用いて形成することができる。光反射層Mを形成した後、当該光反射層Mの表面Maを鏡面加工する。鏡面加工としては、例えば研磨加工や研削加工などの鏡面加工方法を適用することができる。
次に、図23(a)及び図23(b)を参照して、保護層4を有する光学式エンコーダ用反射板10Bの製造方法を説明する。
上記の製造方法によって製造された光学式エンコーダ用反射板10Aのうち、例えば図23に示すように、光反射層Mの表面Ma上及び光吸収層3の表面3a上の空間(図中破線部分)に対して、例えばスピンコーティングなどの塗装方法により耐酸化膜形成材料などを塗布したり、真空蒸着やスッパタリングなどの真空プロセスにより誘電体材料を付着させたりすることで、図23(b)に示すような保護層4が形成される。このようにして、保護層4を有する光学式エンコーダ用反射板10Bを得ることができる。
次に、図19〜図22を参照して、被覆層12aを有する光学式エンコーダ用反射板10Cの製造方法を説明する。
まず、図19に示すように、基板1の表面1aに上記第一金属からなる光反射層Mを形成する。光反射層Mは、上記同様、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、メッキ法、電解酸化法など、の手法を用いて形成することができる。光反射層Mを形成した後、当該光反射層Mの表面Maを鏡面加工する。鏡面加工としては、例えば研磨加工や研削加工などの鏡面加工方法を適用することができる。
次に、図24(a)及び図24(b)を参照して、被覆層12a及び保護層4を有する光学式エンコーダ用反射板10Dの製造方法を説明する。
上記の製造方法Cによって製造された光学式エンコーダ用反射板10Cのうち、例えば図24(a)に示すように、光反射層Mの表面Ma上及び光吸収層3の表面3a上の空間(図中破線部分)に対して、例えばスピンコーティングなどの塗装方法により耐酸化膜形成材料などを塗布したり、真空蒸着やスッパタリングなどの真空プロセスにより誘電体材料を付着させたりすることで、図24(b)に示すような保護層4が形成される。このようにして、被覆層12a及び保護層4を有する光学式エンコーダ用反射板10Dを得ることができる。
次に、本発明の第二実施形態を説明する。本実施形態では、第一実施形態で説明した光学式エンコーダ用反射板を搭載した光学式エンコーダ(以下、単にエンコーダと表記する)ECについて説明する。図25は、エンコーダECの構成を示す斜視図である。
例えば、上記実施形態においては、基板1の材料として、アルミニウム若しくはアルミニウム合金を用いた構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば図27〜図30に示すように、例えばガラスや樹脂などの他の無機材料若しくは有機材料からなる基板Gが用いられた構成であっても構わない。図27〜図30に示す光学式エンコーダ用反射板10を製造する場合、基板G上には、例えばスパッタリング法やリフトオフ法などによって光反射層Mを形成することができる。
Claims (16)
- 基板と、
前記基板の表面に形成され、光を反射する第一金属からなる光反射層と、
前記光反射層の表面のうち所定領域を空けて形成され、前記光を吸収すると共に前記第一金属よりも標準電極電位の低い第二金属からなる光吸収層と
を備える光学式エンコーダ用反射板。 - 光透過可能な材料を用いて形成され、前記所定領域を覆う被覆層
を備える請求項1に記載の光学式エンコーダ用反射板。 - 前記光吸収層及び前記被覆層を覆う保護層
を備える請求項2に記載の光学式エンコーダ用反射板。 - 前記基板は、前記表面に平行に形成された裏面、及び、前記表面と前記裏面とを接続する側面を有し、
前記光吸収層は、前記側面の少なくとも一部に形成される
請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の光学式エンコーダ用反射板。 - 前記光吸収層の一部は、前記基板の前記表面と前記基板のうち前記表面とは異なる部分とに跨って設けられている
請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の光学式エンコーダ用反射板。 - 前記第一金属は、銅、銀及び金のうちいずれか一つを含む
請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の光学式エンコーダ用反射板。 - 前記第二金属は、ニッケル、クロム、鉄及び亜鉛のうちいずれか一つを含む
請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の光学式エンコーダ用反射板。 - 前記第一金属は、銀及び金のうちいずれか一方を含み、
前記第二金属は、銅を含む
請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の光学式エンコーダ用反射板。 - 前記第一金属は、金を含み、
前記第二金属は、銅及び銀のうちいずれか一方を含む
請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の光学式エンコーダ用反射板。 - 前記基板は、円形に形成されており、
前記所定領域は、前記基板の外周に沿って複数配置されている
請求項1から請求項9のうちいずれか一項に記載の光学式エンコーダ用反射板。 - 前記所定領域は、前記基板の基準位置を中心とした円の円周に沿って複数配置されている
請求項1から請求項10のうちいずれか一項に記載の光学式エンコーダ用反射板。 - 前記基板は、外部に接続される被接続部を有し、
前記基準位置は、前記被接続部に設けられる
請求項11に記載の光学式エンコーダ用反射板。 - 前記基板は、前記表面への液状体の流通を低減する流通低減部を有する
請求項1から請求項12のうちいずれか一項に記載の光学式エンコーダ用反射板。 - 前記基板は、硝材を用いて形成されている
請求項1から請求項13のうちいずれか一項に記載の光学式エンコーダ用反射板。 - 請求項1から請求項14のいずれか一項に記載の光学式エンコーダ用反射板を備える
エンコーダ。 - 光を反射する第一金属からなる光反射層を基板の表面に形成する工程と、
前記光を吸収すると共に前記第一金属よりも標準電極電位の低い第二金属からなる光吸収層を前記光反射層の表面のうち所定領域を空けて形成する工程と
を含む光学式エンコーダ用反射板の製造方法。
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