JP2011122993A - 光学式エンコーダ用反射板およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】光学式エンコーダ用反射板において、信号光の反射精度を長期にわたって維持し、生産性を高め、製造コストを削減する。
【解決手段】光学式エンコーダ用反射板１は、信号光を受ける鏡面状の表面２ｂと、この表面２ｂの反対側に位置する鏡面状の裏面２ｃとが形成された板状の透明基材２を有している。透明基材２の裏面２ｃに高反射率層５の反射パターンが設けられ、透明基材２の裏面２ｃに低反射率層３が高反射率層５を被覆するように設けられている。これにより、高反射率層５が透明基材２および低反射率層３によって挟み込まれる形で保護され、信号光の反射精度を長期にわたって維持することができる。また、低反射率層３の形成を塗装によって行うことにより、光学式エンコーダ用反射板１の生産性を高め、その製造コストを削減することができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、エンコーダディスクに反射領域と非反射領域とを設け、この反射領域で反射する信号光を受光素子で検出することにより、被検体の回転角度や移動距離を計測する反射型の光学式エンコーダに用いられる反射板、つまり光学式エンコーダ用反射板に関するものである。

従来、この種の光学式エンコーダ用反射板としては、図４（ｆ）に示すように、ガラス板２の表面２ｂに非反射膜３および反射膜５を順に積層した光学式エンコーダ用反射板１が多用されていた（例えば、特許文献１参照）。

そして、このような構成の光学式エンコーダ用反射板１を製造する際には、図４（ａ）〜（ｆ）に示すように、レジストプロセス、エッチング処理および真空プロセスを用いていた。

すなわち、まず、図４（ａ）に示すように、ガラス板２の表面２ｂに、真空蒸着やスパッタリングなどの真空プロセスによって非反射膜３を形成した後、図４（ｂ）に示すように、非反射膜３の上側に、真空蒸着やスパッタリングなどの真空プロセスによって反射膜５を形成する。次に、図４（ｃ）に示すように、反射膜５の上側にフォトレジスト膜６を形成した後、フォトマスク（図示せず）を介してフォトレジスト膜６を露光する。その後、フォトレジスト膜６を現像することにより、図４（ｄ）に示すように、フォトレジスト膜６の一部を除去してレジストパターンを形成する。次いで、このレジストパターンをマスクとして反射膜５にエッチング処理を施すことにより、図４（ｅ）に示すように、非反射膜３の一部を露出させる。最後に、図４（ｆ）に示すように、フォトレジスト膜６の残部を除去して反射膜５を露出させる。

特開２００７−１２１１４２号公報（段落〔００１３〕の欄、図２）

しかしながら、このような構成を有する光学式エンコーダ用反射板１の反射膜５は、ガラス板２の表面２ｂ側に露出しているため、外部から損傷を受けやすいばかりか、金属製であれば外気に触れて酸化される等して腐食しやすい。したがって、この光学式エンコーダ用反射板１は、反射膜５の安定性および耐久性に劣り、反射膜５による信号光の反射精度を長期にわたって維持できなくなる恐れがあるという欠点があった。

また、光学式エンコーダ用反射板１の製造に際しては、レジストプロセスとエッチング処理の他に、真空プロセスが２工程（非反射膜３の形成工程および反射膜５の形成工程）も必要となる。その結果、製造プロセスが必然的に長くなるため、生産性が低く、製造コストが高騰するという不都合があった。

本発明は、このような事情に鑑み、信号光の反射精度を長期にわたって維持することが可能な光学式エンコーダ用反射板を提供することを第１の目的とし、生産性を高め、製造コストを削減することが可能な光学式エンコーダ用反射板の製造方法を提供することを第２の目的とする。

本発明に係る第１の光学式エンコーダ用反射板（１）は、信号光を受ける鏡面状の表面（２ｂ）と、この表面の反対側に位置する鏡面状の裏面（２ｃ）とが形成された板状の透明基材（２）を有し、前記透明基材の裏面に高反射率層（５）の反射パターンが設けられ、前記透明基材の裏面に低反射率層（３）が前記高反射率層を被覆するように設けられている光学式エンコーダ用反射板としたことを特徴とする。

本発明に係る光学式エンコーダ用反射板の製造方法は、上記の光学式エンコーダ用反射板（１）の製造方法であって、透明基材（２）の裏面（２ｃ）に高反射率層（５）を形成して反射パターンを形成する高反射率層形成工程と、前記透明基材の裏面に低反射率層（３）を前記高反射率層を被覆するように塗装によって形成する低反射率層形成工程とが含まれる光学式エンコーダ用反射板の製造方法としたことを特徴とする。

なお、ここでは、本発明をわかりやすく説明するため、実施の形態を表す図面の符号に対応づけて説明したが、本発明が実施の形態に限定されるものでないことは言及するまでもない。

本発明のうち光学式エンコーダ用反射板の発明によれば、高反射率層が透明基材および低反射率層によって挟み込まれる形で保護されているため、信号光の反射精度を長期にわたって維持することが可能となる。

また、本発明のうち光学式エンコーダ用反射板の製造方法の発明によれば、低反射率層の形成が塗装によって行われることから、製造プロセスを短縮することができるため、生産性を高め、製造コストを削減することが可能となる。

本発明の実施の形態１に係る光学式エンコーダ用反射板を示す図であって、（ａ）はその平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線による断面図である。 同実施の形態１に係る光学式エンコーダ用反射板の製造方法を示す工程図であって、（ａ）はフォトレジスト形成工程の断面図、（ｂ）は露光工程の断面図、（ｃ）は現像工程の断面図、（ｄ）は反射膜形成工程の断面図、（ｅ）はレジスト剥離工程の断面図、（ｆ）は非反射膜形成工程の断面図である。 本発明の実施の形態２に係る光学式エンコーダ用反射板の製造方法を示す工程図であって、（ａ）はフォトレジスト形成工程の断面図、（ｂ）は露光工程の断面図、（ｃ）は現像工程の断面図、（ｄ）は反射膜形成工程の断面図、（ｅ）はレジスト剥離工程の断面図、（ｆ）は非反射膜形成工程の断面図である。 従来の光学式エンコーダ用反射板の製造方法を示す工程図であって、（ａ）は非反射膜形成工程の断面図、（ｂ）は反射膜形成工程の断面図、（ｃ）はフォトレジスト形成工程の断面図、（ｄ）はパターン形成工程の断面図、（ｅ）はエッチング処理工程の断面図、（ｆ）はパターン除去工程の断面図である。

以下、本発明の実施の形態について説明する。
［発明の実施の形態１］

図１および図２は、本発明の実施の形態１に係る図である。この実施の形態１では、透明基材としてガラス板２を用い、低反射率層として非反射膜３を用い、高反射率層として反射膜５を用いている。

この実施の形態１に係る光学式エンコーダ用反射板１は、図１に示すように、円盤状のガラス板２を有しており、ガラス板２の中心には円形の軸孔２ａが貫通して形成されている。このガラス板２は、表面２ｂおよび裏面２ｃがいずれも鏡面状となっている。また、ガラス板２の周縁部の裏面には、アルミニウムからなる多数個の長方形の反射膜５が所定の反射パターン（エンコーダパターン）を形成するように互いに所定の間隔を置いて円周上に配置されているとともに、これらの反射膜５を被覆するように円環状の非反射膜３が形成されている。ここで、非反射膜３は、高分子材料に光吸収剤（着色剤）、つや消し剤が配合された組成物である黒色樹脂塗料で構成されている。

そして、以上のような構成を有する光学式エンコーダ用反射板１を製造する際には、次の手順による。

まず、フォトレジスト形成工程で、図２（ａ）に示すように、ガラス板２の裏面２ｃにフォトレジスト膜６を形成する。それには、例えば、スピンコーター、スリットコーターなどの塗工装置（図示せず）を用いて、ガラス板２の裏面２ｃにポジ型のフォトレジストを一様に塗布する。すると、ガラス板２の裏面２ｃにフォトレジスト膜６が形成された状態となる。

次に、露光工程に移行し、図２（ｂ）に示すように、フォトレジスト膜６の一部（反射膜５に対応する部位）を露光する。それには、例えば、光学式エンコーダ用反射板１の反射パターンとは逆のパターンを形成するようにクロム７ｂが石英ガラス基板７ａに貼付されたフォトマスク７を用意し、このフォトマスク７をフォトレジスト膜６の裏側に密着させて取り付け、この状態で、水銀ランプ９を用いてフォトマスク７の下方からｇ線（波長４３６ｎｍ）を所定の時間だけ照射した後、フォトマスク７を取り外す。すると、フォトレジスト膜６の一部（反射膜５に対応する部位）が露光された状態となる。

その後、現像工程に移行し、所定の現像液を用いてフォトレジスト膜６を現像する。すると、図２（ｃ）に示すように、フォトレジスト膜６の一部（露光部位）が除去されてガラス板２の裏面２ｃの一部が露出し、ガラス板２上にレジストパターンが形成された状態となる。

次に、反射膜形成工程に移行し、図２（ｄ）に示すように、真空蒸着やスパッタリングなどの真空プロセスにより、ガラス板２の裏面２ｃおよびフォトレジスト膜６の裏側に反射膜５を形成する。これにより、ガラス板２上に所定の反射パターンが形成される。ここで、反射膜５は、ガラス板２の裏面２ｃに形成すれば十分であり、フォトレジスト膜６の裏側に形成する必要はない。

次いで、レジスト剥離工程に移行し、図２（ｅ）に示すように、フォトレジスト膜６をガラス板２から剥離する。それには、フォトレジスト膜６をアセトン（レジスト剥離液）に所定の時間だけ浸漬する。すると、フォトレジスト膜６がガラス板２から剥離される。その結果、ガラス板２の裏面２ｃの一部にのみ反射膜５が残存した状態となる。

最後に、非反射膜形成工程に移行し、図２（ｆ）に示すように、ガラス板２の裏面２ｃに、反射膜５を被覆する形で非反射膜３を塗装によって形成する。それには、まず、主剤および硬化剤からなる二液型のポリマーを用意し、この主剤に光吸収剤、つや消し剤を添加した後、硬化剤を混合することにより、流動状態の非反射膜３を調製する。そして、この非反射膜３を流動状態のままガラス板２の裏面２ｃに塗装してから硬化させる。

このとき、非反射膜３の塗装の具体的手法としては、エアースプレー方法、超音波スプレー方法、スピンコーティング方法、ディッピング方法、スリットコーター方法のほか、メッシュを介して塗装する方法や、パッドを使って塗装する方法など各種の方法を採用することができる。

この非反射膜形成工程においては、反射膜５を含めてガラス板２の裏面２ｃに非反射膜３を塗装することが許されるので、非反射膜３の形成作業を迅速かつ低廉に実施することができる。

ここで、光学式エンコーダ用反射板１の製造が終了し、光学式エンコーダ用反射板１が得られる。

このようにして製造された光学式エンコーダ用反射板１においては、図１（ｂ）に示すように、すべての反射膜５がガラス板２および非反射膜３によって挟み込まれる形で保護されている。したがって、これらの反射膜５は、外部から損傷を受けたり、外気に触れて酸化される等して腐食したりする事態の発生を回避することができる。その結果、反射膜５の安定性および耐久性を向上させ、反射膜５による信号光の反射精度を長期にわたって維持することが可能となる。

また、この光学式エンコーダ用反射板１では、上述したとおり、ガラス板２が鏡面状の表面２ｂを有しているので、このガラス板２の表面２ｂにおける信号光の乱反射を防ぎ、光学式エンコーダ用反射板１として十全に機能させることができる。

さらに、この光学式エンコーダ用反射板１では、上述したとおり、ガラス板２が鏡面状の裏面２ｃを有しているので、この裏面２ｃ上に形成された反射膜５の反射面（図１（ｂ）上面）は、ガラス板２の裏面２ｃと同程度に平滑となる。そのため、信号光が反射膜５の反射面で反射するときに、ノイズ光を低減して反射光を強くし、光学式エンコーダ用反射板１として十全に機能させることができる。これに対して、図４（ｆ）に示すように、ガラス板２の表面２ｂに非反射膜３および反射膜５が順に積層された従来の光学式エンコーダ用反射板１では、ガラス板２と反射膜５との間に非反射膜３が介在しているため、たとえガラス板２の表面２ｂが鏡面状であっても、反射膜５の反射面が平滑になる保証がない。したがって、信号光が反射膜５の反射面で反射するときに、ノイズ光が増大して反射光が弱くなり、光学式エンコーダ用反射板１として十全に機能しなくなる恐れがある。

しかも、この光学式エンコーダ用反射板１では、非反射膜３が主に高分子材料から構成されているので、非反射膜３は、耐水性に優れると同時に吸水性が低いことから、反射膜５による反射率の経年変化を抑制することができる。また、この非反射膜３には光吸収剤が含まれているため、非反射膜３に入射した信号光をこの光吸収剤で吸収することにより、ノイズ光を低減することができる。さらに、この非反射膜３にはつや消し剤が含まれているため、非反射膜３に入射した信号光の反射率を低下させることにより、ノイズ光を低減することができる。

また、光学式エンコーダ用反射板１の製造に際しては、レジスト剥離工程において、レジスト剥離液としてアセトンを用いたので、アルカリ溶液を現像液として使用する場合と異なり、アルミニウム製の反射膜５を侵食することなくフォトレジスト膜６を溶解することができる。

さらに、非反射膜形成工程においては、非反射膜３が塗装によって形成されるため、レジストプロセスとエッチング処理の他に、真空プロセスが１工程（反射膜形成工程）で済む。その結果、２工程の真空プロセスを必要とする従来の製造方法に比べて、光学式エンコーダ用反射板１の製造プロセスを短縮することができるため、生産性を高め、製造コストを削減することができる。

また、非反射膜形成工程において非反射膜３を調製する際に、硬化剤を使用したので、非反射膜３の調製作業を簡便かつ迅速に行うことができる。

その上、フォトレジスト形成工程においては、ポジ型のフォトレジストを用いたので、ネガ型のフォトレジストを用いる場合と違って、現像工程において現像液として有機溶媒を使う必要がない。そのため、環境保全や取扱い容易性の点で優れる。
［発明の実施の形態２］

図３は、本発明の実施の形態２に係る図である。

この実施の形態２では、光学式エンコーダ用反射板１の製造におけるフォトレジスト形成工程において、ポジ型のフォトレジストに代えてネガ型のフォトレジストを用いた点を除き、上述した実施の形態１と同じ構成を有している。

すなわち、光学式エンコーダ用反射板１の製造に際しては、フォトレジスト形成工程で、図３（ａ）に示すように、ガラス板２の裏面２ｃにフォトレジスト膜６を形成する。それには、例えば、スピンコーター、スリットコーターなどの塗工装置（図示せず）を用いて、ガラス板２の裏面２ｃにネガ型のフォトレジストを一様に塗布する。すると、ガラス板２の裏面２ｃにフォトレジスト膜６が形成された状態となる。

次に、露光工程に移行し、図３（ｂ）に示すように、フォトレジスト膜６の一部（反射膜５に対応する部位を除く部位）を露光する。それには、例えば、光学式エンコーダ用反射板１の反射パターンに合致するパターンを形成するようにクロム７ｂが石英ガラス基板７ａに貼付されたフォトマスク７を用意し、このフォトマスク７をフォトレジスト膜６の裏側に密着させて取り付け、この状態で、水銀ランプ９を用いてフォトマスク７の下方からｇ線（波長４３６ｎｍ）を所定の時間だけ照射した後、フォトマスク７を取り外す。すると、フォトレジスト膜６の一部（反射膜５に対応する部位を除く部位）が露光された状態となる。

その後、現像工程に移行し、所定の現像液を用いてフォトレジスト膜６を現像する。すると、図３（ｃ）に示すように、フォトレジスト膜６の一部（非露光部位）が除去されてガラス板２の裏面２ｃの一部が露出し、ガラス板２上にレジストパターンが形成された状態となる。

次に、反射膜形成工程に移行し、図３（ｄ）に示すように、真空蒸着やスパッタリングなどの真空プロセスにより、ガラス板２の裏面２ｃおよびフォトレジスト膜６の裏側に反射膜５を形成する。これにより、ガラス板２上に所定の反射パターンが形成される。ここで、反射膜５は、ガラス板２の裏面２ｃに形成すれば十分であり、フォトレジスト膜６の裏側に形成する必要はない。

次いで、レジスト剥離工程に移行し、上述した実施の形態１と同じ手順により、図３（ｅ）に示すように、フォトレジスト膜６をガラス板２から剥離する。その結果、ガラス板２の裏面２ｃの一部にのみ反射膜５が残存した状態となる。

最後に、非反射膜形成工程に移行し、上述した実施の形態１と同じ手順により、図３（ｆ）に示すように、ガラス板２の裏面２ｃに、反射膜５を被覆する形で非反射膜３を塗装によって形成する。

ここで、光学式エンコーダ用反射板１の製造が終了し、光学式エンコーダ用反射板１が得られる。

このようにして製造された光学式エンコーダ用反射板１においては、上述した実施の形態１と同様に、すべての反射膜５がガラス板２および非反射膜３によって挟み込まれる形で保護されている。したがって、これらの反射膜５は、外部から損傷を受けたり、外気に触れて酸化される等して腐食したりする事態の発生を回避することができる。その結果、反射膜５の安定性および耐久性を向上させ、反射膜５による信号光の反射精度を長期にわたって維持することが可能となる。

また、この光学式エンコーダ用反射板１では、ガラス板２が鏡面状の表面２ｂを有しているので、このガラス板２の表面２ｂにおける信号光の乱反射を防ぎ、光学式エンコーダ用反射板１として十全に機能させることができる。

さらに、この光学式エンコーダ用反射板１では、ガラス板２が鏡面状の裏面２ｃを有しているので、この裏面２ｃ上に形成された反射膜５の反射面は、ガラス板２の裏面２ｃと同程度に平滑となる。そのため、信号光が反射膜５の反射面で反射するときに、ガラス板２の表面２ｂに非反射膜３および反射膜５が順に積層された従来の光学式エンコーダ用反射板１と異なり、ノイズ光を低減して反射光を強くし、光学式エンコーダ用反射板１として十全に機能させることができる。

しかも、この光学式エンコーダ用反射板１では、非反射膜３が主に高分子材料から構成されているので、非反射膜３は、耐水性に優れると同時に吸水性が低いことから、反射膜５による反射率の経年変化を抑制することができる。また、この非反射膜３には光吸収剤が含まれているため、非反射膜３に入射した信号光をこの光吸収剤で吸収することにより、ノイズ光を低減することができる。さらに、この非反射膜３にはつや消し剤が含まれているため、非反射膜３に入射した信号光の反射率を低下させることにより、ノイズ光を低減することができる。

また、光学式エンコーダ用反射板１の製造に際しては、レジスト剥離工程において、レジスト剥離液としてアセトンを用いたので、アルカリ溶液を現像液として使用する場合と異なり、アルミニウム製の反射膜５を侵食することなくフォトレジスト膜６を溶解することができる。

さらに、非反射膜形成工程においては、非反射膜３が塗装によって形成されるため、レジストプロセスとエッチング処理の他に、真空プロセスが１工程（反射膜形成工程）で済む。その結果、２工程の真空プロセスを必要とする従来の製造方法に比べて、光学式エンコーダ用反射板１の製造プロセスを短縮することができるため、生産性を高め、製造コストを削減することができる。

また、非反射膜形成工程において非反射膜３を調製する際に、硬化剤を使用したので、非反射膜３の調製作業を簡便かつ迅速に行うことができる。
［発明のその他の実施の形態］

なお、上述した実施の形態１、２では、透明基材としてガラス板２を用いる場合について説明したが、ガラス板２以外の透明基材（例えば、アクリルやポリカーボネートからなる樹脂板など）を代用または併用することもできる。

また、上述した実施の形態１、２では、低反射率層として非反射膜３を用いるとともに、高反射率層として反射膜５を用いる場合について説明した。しかし、低反射率層および高反射率層の反射率は、必ずしもそれぞれ０％および１００％とする必要はなく、光学式エンコーダ用反射板１に要求される反射率に応じて適切な数値（例えば、５％および８０％、１０％および９５％など）を設定すればよい。

また、上述した実施の形態１、２では、１種類の高分子材料を含む非反射膜３を用いる場合について説明したが、２種類以上の高分子材料を含む非反射膜３を代用しても構わない。

また、上述した実施の形態１、２では、非反射膜３を形成する際に、主剤および硬化剤からなる二液型のポリマーを使用する場合について説明した。しかし、紫外線硬化型の高分子材料を代用することにより、紫外線照射によって非反射膜３の形成作業を簡便に行うことも可能である。

さらに、上述した実施の形態１、２では、反射膜５の材料がアルミニウムである場合について説明したが、反射膜５の材料は、所定の反射特性を発現するものである限り、アルミニウム以外（例えば、銀、クロムなど）であっても構わない。

以下、本発明の実施例について説明する。なお、本発明は実施例に限定されるものではない。
＜実施例１＞

上述した実施の形態１に示す手順により、光学式エンコーダ用反射板を製造した。

この実施例１では、透明基材として、鏡面ガラス基板製の円板状部材（直径２４ｍｍ、厚さ４ｍｍ）を使用し、フォトレジスト形成工程において使用するポジ型のフォトレジストとして、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製のフォトレジスト「ＡＺ３１００」を使用し、現像工程において使用する現像液として、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製の現像液「ＡＺ３００ＭＩＦ」を用い、レジスト剥離工程において使用するレジスト剥離液として、アセトンを用い、非反射膜形成工程において使用する塗料として、日本特殊塗料（株）製の塗料「エポラ２０００Ｎ」を用いた。

すなわち、まず、フォトレジスト形成工程で、鏡面ガラス基板製の円板状部材（直径２４ｍｍ、厚さ４ｍｍ）の裏面にＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製のフォトレジスト「ＡＺ３１００」をスピンナーで一様に塗布した。その後、１００℃で１分間加熱処理を施して、プレベークを行なった。このようにして、円板状部材の裏面にフォトレジスト膜を形成した。

次に、露光工程に移行し、光学式エンコーダ用反射板の反射パターンとは逆のパターンを形成するようにクロムが石英ガラス基板に貼付されたフォトマスクをフォトレジスト膜の裏側に密着させて取り付け、水銀ランプを用いてフォトマスクの下方からｇ線を約２０秒間だけ照射した。

その後、現像工程に移行し、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製の現像液「ＡＺ３００ＭＩＦ」を用いて、フォトレジスト膜を現像した。

次に、反射膜形成工程に移行し、真空蒸着装置に予め装着された円板押さえ治具に円板状部材を取り付けた。そして、真空蒸着装置内が１．３×１０^−３Ｎ／ｍ^２ （１×１０^−５Ｔｏｒｒ）の圧力に達するまで真空に引き、この状態のまま、アルミニウムを抵抗加熱で飛ばして円板状部材の裏面に約１μｍ付着させることにより、反射膜を形成して反射パターンを形成した。その後、真空蒸着装置から円板状部材を取り出した。

次いで、レジスト剥離工程に移行し、フォトレジスト膜をアセトンに約３分間だけ浸漬した。

最後に、非反射膜形成工程に移行し、円板状部材を所定の治具に取り付け、日本特殊塗料（株）製の塗料「エポラ２０００Ｎ」を用いてスプレー塗装を行った後、１２０℃で１時間処理して硬化させることにより、非反射膜を形成した。この非反射膜の膜厚は約３０μｍであった。なお、ここで使用した塗料「エポラ２０００Ｎ」は、エポキシ樹脂にカーボンブラック（光吸収剤）およびシリカ粉（つや消し剤）が配合された主剤と、ポリアミド樹脂にシリカ粉（つや消し剤）が配合された硬化剤とからなる二液型のポリマーである。

これにより、長期経過後における信号光の反射精度については、光学式エンコーダ用反射板として十分な反射精度を維持することができる。

本発明は、反射型の光学式エンコーダに適用することができる。

１……光学式エンコーダ用反射板
２……透明基材（ガラス板）
２ａ……軸孔
２ｂ……表面
２ｃ……裏面
３……非反射膜（低反射率層）
５……反射膜（高反射率層）
６……フォトレジスト膜
７……フォトマスク
７ａ……石英ガラス基板
７ｂ……クロム
９……水銀ランプ

Claims (6)

1. 信号光を受ける鏡面状の表面と、この表面の反対側に位置する鏡面状の裏面とが形成された板状の透明基材を有し、
   前記透明基材の裏面に高反射率層の反射パターンが設けられ、
   前記透明基材の裏面に低反射率層が前記高反射率層を被覆するように設けられていることを特徴とする光学式エンコーダ用反射板。
2. 前記低反射率層は、１種類以上の高分子材料から構成されていることを特徴とする請求項１に記載の光学式エンコーダ用反射板。
3. 前記低反射率層には、光吸収剤が含まれていることを特徴とする請求項１または２に記載の光学式エンコーダ用反射板。
4. 前記低反射率層には、つや消し剤が含まれていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の光学式エンコーダ用反射板。
5. 前記高反射率層の材料は、アルミニウム、銀またはクロムであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の光学式エンコーダ用反射板。
6. 請求項１乃至５のいずれかに記載の光学式エンコーダ用反射板の製造方法であって、
   透明基材の裏面に高反射率層を形成して反射パターンを形成する高反射率層形成工程と、
   前記透明基材の裏面に低反射率層を前記高反射率層を被覆するように塗装によって形成する低反射率層形成工程と
   が含まれることを特徴とする光学式エンコーダ用反射板の製造方法。

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