JPH0933221A - 測長スケール - Google Patents
測長スケールInfo
- Publication number
- JPH0933221A JPH0933221A JP18561495A JP18561495A JPH0933221A JP H0933221 A JPH0933221 A JP H0933221A JP 18561495 A JP18561495 A JP 18561495A JP 18561495 A JP18561495 A JP 18561495A JP H0933221 A JPH0933221 A JP H0933221A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- optical grating
- glass substrate
- measuring scale
- main scale
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 外乱光の影響を少なくでき、変位検出装置の
精度向上がはかれる測長スケールを提供する。 【解決手段】 ガラス基板１１と、このガラス基板１１
の表面に所定ピッチ間隔で光反射部１６を形成した光学
格子Ｇと、この光学格子Ｇの光反射部１６間に設けられ
た光吸収部１７とを備える。ガラス基板の光学格子が形
成された面およびそれとは反対側面から入射した外乱光
は、いずれも光学格子の光反射部間に設けられた光吸収
部によって吸収されるから、外乱光の影響を少なくでき
る。よって、変位検出装置の精度向上がはかれる。
精度向上がはかれる測長スケールを提供する。 【解決手段】 ガラス基板１１と、このガラス基板１１
の表面に所定ピッチ間隔で光反射部１６を形成した光学
格子Ｇと、この光学格子Ｇの光反射部１６間に設けられ
た光吸収部１７とを備える。ガラス基板の光学格子が形
成された面およびそれとは反対側面から入射した外乱光
は、いずれも光学格子の光反射部間に設けられた光吸収
部によって吸収されるから、外乱光の影響を少なくでき
る。よって、変位検出装置の精度向上がはかれる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光電式変位検出装
置に用いられる測長スケールに関する。詳しくは、光反
射型のスケールにおいて、外乱光の影響を少なくできる
測長スケールに関する。
置に用いられる測長スケールに関する。詳しくは、光反
射型のスケールにおいて、外乱光の影響を少なくできる
測長スケールに関する。
【０００２】
【背景技術】メインスケールおよびインデックススケー
ルの相対移動によって生じる光の明暗から両スケールの
相対移動変位量を検出する光電式変位検出装置として、
反射型光電式変位検出装置が知られている。これは、図
６に示すように、表面に光透過部および光反射部からな
る光学格子Ｇを形成したガラス製のメインスケール１０
の片側に、同様な光学格子Ｇを有するガラス製のインデ
ックススケール２１、発光素子２２および受光素子２３
を内蔵した検出ヘッド２０を対向配置し、メインスケー
ル１０と検出ヘッド２０とをメインスケール１０の長手
方向（光学格子Ｇの並設方向）に相対移動可能に構成し
た構造である。
ルの相対移動によって生じる光の明暗から両スケールの
相対移動変位量を検出する光電式変位検出装置として、
反射型光電式変位検出装置が知られている。これは、図
６に示すように、表面に光透過部および光反射部からな
る光学格子Ｇを形成したガラス製のメインスケール１０
の片側に、同様な光学格子Ｇを有するガラス製のインデ
ックススケール２１、発光素子２２および受光素子２３
を内蔵した検出ヘッド２０を対向配置し、メインスケー
ル１０と検出ヘッド２０とをメインスケール１０の長手
方向（光学格子Ｇの並設方向）に相対移動可能に構成し
た構造である。
【０００３】ところで、メインスケール１０の構造とし
ては、図７（Ａ）に示すように、メインスケール１０の
検出ヘッド２０と対向する面に光透過部および光反射部
からなる光学格子Ｇを形成したもの、あるいは、図８
（Ａ）に示すように、メインスケール１０の検出ヘッド
２０と対向する面とは反対側面に光透過部および光反射
部からなる光学格子Ｇを形成したものが知られている。
ては、図７（Ａ）に示すように、メインスケール１０の
検出ヘッド２０と対向する面に光透過部および光反射部
からなる光学格子Ｇを形成したもの、あるいは、図８
（Ａ）に示すように、メインスケール１０の検出ヘッド
２０と対向する面とは反対側面に光透過部および光反射
部からなる光学格子Ｇを形成したものが知られている。
【０００４】従来、上記の各構造では、メインスケール
１０の裏面（検出ヘッド２０と対向する面とは反対側
面）からの外乱光の影響を防止するため、次のような対
策を施してある。つまり、図７の構造ではメインスケー
ル１０の裏面にクロム（Ｃｒ）膜１を設けていた〔図７
（Ｂ）参照〕。また、図８に示す構造では、メインスケ
ール１０の裏面に構造物２を設けたり、あるいは、構造
物２の光学格子Ｇと対応する部分に彫り込み溝３を形成
するなどしていた〔図８（Ｂ）参照〕。
１０の裏面（検出ヘッド２０と対向する面とは反対側
面）からの外乱光の影響を防止するため、次のような対
策を施してある。つまり、図７の構造ではメインスケー
ル１０の裏面にクロム（Ｃｒ）膜１を設けていた〔図７
（Ｂ）参照〕。また、図８に示す構造では、メインスケ
ール１０の裏面に構造物２を設けたり、あるいは、構造
物２の光学格子Ｇと対応する部分に彫り込み溝３を形成
するなどしていた〔図８（Ｂ）参照〕。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述したい
ずれの構造の場合にも、メインスケール１０の裏面から
の外乱光に対しては効果があるものの、検出ヘッド２０
と対向する側からの外乱光に対して変位検出装置の性能
が左右されるという欠点があった。つまり、図７に示す
構造では、検出ヘッド２０と対向する側からの外乱光が
クロム膜１で反射したのち、検出ヘッド２０に入射する
ため、変位検出装置の性能が左右される。また、図８に
示す構造では、検出ヘッド２０と対向する側からの外乱
光が構造物２の表面や彫り込溝３の処理などによって乱
反射し、検出ヘッド２０に入射するため、変位検出装置
の性能が左右される。
ずれの構造の場合にも、メインスケール１０の裏面から
の外乱光に対しては効果があるものの、検出ヘッド２０
と対向する側からの外乱光に対して変位検出装置の性能
が左右されるという欠点があった。つまり、図７に示す
構造では、検出ヘッド２０と対向する側からの外乱光が
クロム膜１で反射したのち、検出ヘッド２０に入射する
ため、変位検出装置の性能が左右される。また、図８に
示す構造では、検出ヘッド２０と対向する側からの外乱
光が構造物２の表面や彫り込溝３の処理などによって乱
反射し、検出ヘッド２０に入射するため、変位検出装置
の性能が左右される。
【０００６】本発明の目的は、外乱光の影響を少なくで
き、変位検出装置の精度向上がはかれる測長スケールを
提供することにある。
き、変位検出装置の精度向上がはかれる測長スケールを
提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の測長スケール
は、ガラス基板と、このガラス基板の表面に所定ピッチ
間隔で光反射部を形成した光学格子と、この光学格子の
光反射部間に設けられた光吸収部とを備えたことを特徴
とする。このような構成によれば、ガラス基板の光学格
子が形成された面およびそれとは反対側面から入射した
外乱光は、いずれも光学格子の光反射部間に設けられた
光吸収部によって吸収されるから、外乱光の影響を少な
くできる。よって、変位検出装置の精度向上がはかれ
る。
は、ガラス基板と、このガラス基板の表面に所定ピッチ
間隔で光反射部を形成した光学格子と、この光学格子の
光反射部間に設けられた光吸収部とを備えたことを特徴
とする。このような構成によれば、ガラス基板の光学格
子が形成された面およびそれとは反対側面から入射した
外乱光は、いずれも光学格子の光反射部間に設けられた
光吸収部によって吸収されるから、外乱光の影響を少な
くできる。よって、変位検出装置の精度向上がはかれ
る。
【０００８】また、本発明の測長スケールは、ガラス基
板と、このガラス基板の表面に所定ピッチ間隔で光反射
部を形成した光学格子と、この光学格子が形成された面
に設けられた光吸収層とを備えたことを特徴とする。こ
のような構成によれば、光学格子が形成された面に光吸
収層が設けられているから、外乱光をより効果的に吸収
できる。
板と、このガラス基板の表面に所定ピッチ間隔で光反射
部を形成した光学格子と、この光学格子が形成された面
に設けられた光吸収層とを備えたことを特徴とする。こ
のような構成によれば、光学格子が形成された面に光吸
収層が設けられているから、外乱光をより効果的に吸収
できる。
【０００９】また、上記構造の測長スケールにおいて、
前記光吸収層は、前記ガラス基板の光学格子が形成され
た面に貼り合わされた補助部材の貼り合わせ面に設けら
れていることを特徴とする。このような構成によれば、
光学格子を測長スケールの厚み方向変形に対する中立軸
線に一致させることができるから、スケールが厚み方向
に変形したとしても、光学格子の全長を不変にできるか
ら、スケールの変形に対する誤差をなくすことができ
る。
前記光吸収層は、前記ガラス基板の光学格子が形成され
た面に貼り合わされた補助部材の貼り合わせ面に設けら
れていることを特徴とする。このような構成によれば、
光学格子を測長スケールの厚み方向変形に対する中立軸
線に一致させることができるから、スケールが厚み方向
に変形したとしても、光学格子の全長を不変にできるか
ら、スケールの変形に対する誤差をなくすことができ
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図を
参照しながら詳細に説明する。なお、以下の説明にあた
って、前述した図６〜図８の構成要件と同一構成要件に
ついては、同一符号を付し、その説明を省略もしくは簡
略化する。
参照しながら詳細に説明する。なお、以下の説明にあた
って、前述した図６〜図８の構成要件と同一構成要件に
ついては、同一符号を付し、その説明を省略もしくは簡
略化する。
【００１１】〔第１の実施の形態〕第１の実施の形態を
図１、図２および図３に示す。本実施の形態における反
射型光電式変位検出装置は、図１に示すように、表面に
光学格子Ｇ1 を形成したガラス製のメインスケール１０
1 と、このメインスケール１０1 の片側にメインスケー
ル１０1 の長手方向（光学格子Ｇの並設方向）に相対移
動可能に配置された検出ヘッド２０とから構成されてい
る。なお、検出ヘッド２０は、図６と同様に、光学格子
Ｇを有するガラス製のインデックススケール２１、発光
素子２２および受光素子２３を備えている。
図１、図２および図３に示す。本実施の形態における反
射型光電式変位検出装置は、図１に示すように、表面に
光学格子Ｇ1 を形成したガラス製のメインスケール１０
1 と、このメインスケール１０1 の片側にメインスケー
ル１０1 の長手方向（光学格子Ｇの並設方向）に相対移
動可能に配置された検出ヘッド２０とから構成されてい
る。なお、検出ヘッド２０は、図６と同様に、光学格子
Ｇを有するガラス製のインデックススケール２１、発光
素子２２および受光素子２３を備えている。
【００１２】本実施の形態におけるメインスケール１０
1 は、図２に示すように、ガラス基板１１と、このガラ
ス基板１１の表面に一定ピッチ間隔で光反射部１６を形
成した光学格子Ｇ1 と、この光学格子Ｇ1 の光反射部１
６間に設けられた光吸収部１７とを備えて構成されてい
る。ここで、光反射部１６は、クロム（Ｃｒ）の蒸着な
どによって形成されている。また、光吸収部１７は、酸
化クロムによって形成されている。
1 は、図２に示すように、ガラス基板１１と、このガラ
ス基板１１の表面に一定ピッチ間隔で光反射部１６を形
成した光学格子Ｇ1 と、この光学格子Ｇ1 の光反射部１
６間に設けられた光吸収部１７とを備えて構成されてい
る。ここで、光反射部１６は、クロム（Ｃｒ）の蒸着な
どによって形成されている。また、光吸収部１７は、酸
化クロムによって形成されている。
【００１３】さて、上記構造のメインスケール１０
1 は、図３に示す工程で製造することができる。 細長薄板状に形成されたガラス基板１１の表面にクロ
ム（Ｃｒ）を蒸着してて薄膜１２を形成する〔（Ａ）参
照〕。 その上にレジスト１３を塗布する〔（Ｂ）参照〕。 続いて、その上から光を照射して目的とする光学格子
パターンを描画するとともに、レジスト１３を現像する
〔（Ｃ）参照〕。 残ったレジスト１３をマスクとして薄膜１２を部分的
にエッチングで除去する〔（Ｄ）参照〕。 次に、これらの上に酸化クロムなどからなる光吸収膜
１４を形成する〔（Ｅ）参照〕。 最後に、マスクとして使用したレジスト１３を剥離す
ると同時に、レジスト１３上に堆積した反吸収膜１４を
持ち去る〔（Ｆ）参照〕。 このようなエッチング、リフトオフの手法により、レジ
スト１３の真下の薄膜１２の部分が光反射部１６、レジ
スト１３で覆われていなかった部分が光吸収部１７とし
て、これらが交互にかつ一定ピッチで連続する光学格子
Ｇ1 を形成することができる。
1 は、図３に示す工程で製造することができる。 細長薄板状に形成されたガラス基板１１の表面にクロ
ム（Ｃｒ）を蒸着してて薄膜１２を形成する〔（Ａ）参
照〕。 その上にレジスト１３を塗布する〔（Ｂ）参照〕。 続いて、その上から光を照射して目的とする光学格子
パターンを描画するとともに、レジスト１３を現像する
〔（Ｃ）参照〕。 残ったレジスト１３をマスクとして薄膜１２を部分的
にエッチングで除去する〔（Ｄ）参照〕。 次に、これらの上に酸化クロムなどからなる光吸収膜
１４を形成する〔（Ｅ）参照〕。 最後に、マスクとして使用したレジスト１３を剥離す
ると同時に、レジスト１３上に堆積した反吸収膜１４を
持ち去る〔（Ｆ）参照〕。 このようなエッチング、リフトオフの手法により、レジ
スト１３の真下の薄膜１２の部分が光反射部１６、レジ
スト１３で覆われていなかった部分が光吸収部１７とし
て、これらが交互にかつ一定ピッチで連続する光学格子
Ｇ1 を形成することができる。
【００１４】第１の実施の形態によれば、ガラス基板１
１の表面に一定ピッチ間隔で光反射部１６を有する光学
格子Ｇ1 を形成し、この光学格子Ｇ1 の光反射部１６間
に光吸収部１７を設けてメインスケール１０1 を構成し
たので、ガラス基板１１の光学格子Ｇ1 が形成された面
およびそれとは反対側面から入射した外乱光は、いずれ
も光学格子Ｇ1 の光反射部１６間に設けられた光吸収部
１７によって吸収されるから、外乱光の影響を少なくで
きる。よって、変位検出装置の精度向上がはかることが
できる。
１の表面に一定ピッチ間隔で光反射部１６を有する光学
格子Ｇ1 を形成し、この光学格子Ｇ1 の光反射部１６間
に光吸収部１７を設けてメインスケール１０1 を構成し
たので、ガラス基板１１の光学格子Ｇ1 が形成された面
およびそれとは反対側面から入射した外乱光は、いずれ
も光学格子Ｇ1 の光反射部１６間に設けられた光吸収部
１７によって吸収されるから、外乱光の影響を少なくで
きる。よって、変位検出装置の精度向上がはかることが
できる。
【００１５】また、光学格子Ｇの光反射部１６間に光吸
収部１７を設けるにも、リフトオフの手法によって簡単
に製造することができる。つまり、従来の光学格子Ｇを
形成する工程〔図３の（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）
（Ｆ）〕に、光吸収膜１４を形成する工程〔図３の
（Ｅ）〕を追加するだけですむから、簡単に製造するこ
とができる。
収部１７を設けるにも、リフトオフの手法によって簡単
に製造することができる。つまり、従来の光学格子Ｇを
形成する工程〔図３の（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）
（Ｆ）〕に、光吸収膜１４を形成する工程〔図３の
（Ｅ）〕を追加するだけですむから、簡単に製造するこ
とができる。
【００１６】〔第２の実施の形態〕第２の実施の形態を
図４および図５に示す。本実施の形態における反射型光
電式変位検出装置は、図４に示すように、第１の実施の
形態に対して、メインスケール１０2 が異なる。本実施
の形態におけるメインスケール１０2 は、図５に示すよ
うに、ガラス基板１１と、このガラス基板１１の表面に
一定ピッチ間隔で交互に形成された光透過部１５および
光反射部１６からなる光学格子Ｇと、この光学格子Ｇが
形成された面に貼り合わされた補助部材３０とから構成
されている。補助部材３０は、前記ガラス基板１１と同
一材料（ガラス製）、同一形状に形成され、かつ、前記
光学格子Ｇと貼り合わされる面に光吸収層３１を備えて
いる。
図４および図５に示す。本実施の形態における反射型光
電式変位検出装置は、図４に示すように、第１の実施の
形態に対して、メインスケール１０2 が異なる。本実施
の形態におけるメインスケール１０2 は、図５に示すよ
うに、ガラス基板１１と、このガラス基板１１の表面に
一定ピッチ間隔で交互に形成された光透過部１５および
光反射部１６からなる光学格子Ｇと、この光学格子Ｇが
形成された面に貼り合わされた補助部材３０とから構成
されている。補助部材３０は、前記ガラス基板１１と同
一材料（ガラス製）、同一形状に形成され、かつ、前記
光学格子Ｇと貼り合わされる面に光吸収層３１を備えて
いる。
【００１７】第２の実施の形態によれば、ガラス基板１
１の光学格子Ｇが形成された面の全面に光吸収層３１が
設けられているから、外乱光をより効果的に吸収でき
る。よって、外乱光の影響をより少なくできるから、変
位検出装置の精度をより向上させることができる。
１の光学格子Ｇが形成された面の全面に光吸収層３１が
設けられているから、外乱光をより効果的に吸収でき
る。よって、外乱光の影響をより少なくできるから、変
位検出装置の精度をより向上させることができる。
【００１８】また、ガラス基板１１の光学格子Ｇが形成
された面に、ガラス基板１１と同一材料、同一形状から
なる補状部材３０を貼り合わせてメインスケール１０2
を構成してあるから、光学格子Ｇがメインスケール１０
2 の厚み方向変形に対する中立軸線Ｌに一致し、メイン
スケール１０2 が厚み方向に変形したとしても、中立軸
線Ｌ（つまり光学格子Ｇ）の全長は不変になるから、メ
インスケール１０2 の変形に対する誤差をなくすことが
できる。
された面に、ガラス基板１１と同一材料、同一形状から
なる補状部材３０を貼り合わせてメインスケール１０2
を構成してあるから、光学格子Ｇがメインスケール１０
2 の厚み方向変形に対する中立軸線Ｌに一致し、メイン
スケール１０2 が厚み方向に変形したとしても、中立軸
線Ｌ（つまり光学格子Ｇ）の全長は不変になるから、メ
インスケール１０2 の変形に対する誤差をなくすことが
できる。
【００１９】しかも、光学格子Ｇは、ガラス基板１１と
補状部材３０とに挟まれ、露出されていないから、たと
えば、製造、組立て、定期点検などにおいてメインスケ
ール１０2 の表裏面に付着した接着剤や油脂を有機溶剤
を使用して清浄しても光学格子Ｇを傷めることなく、そ
れらを除去できる。このことは、メインスケール１０ 2
の光特性を最良に維持できるから、所定の検出精度を長
期間に亘って保障することができる。
補状部材３０とに挟まれ、露出されていないから、たと
えば、製造、組立て、定期点検などにおいてメインスケ
ール１０2 の表裏面に付着した接着剤や油脂を有機溶剤
を使用して清浄しても光学格子Ｇを傷めることなく、そ
れらを除去できる。このことは、メインスケール１０ 2
の光特性を最良に維持できるから、所定の検出精度を長
期間に亘って保障することができる。
【００２０】上述した第１の実施の形態では、リフトオ
フの手法によって、光学格子Ｇ1 の光反射部１６間に光
吸収部１７を設けたが、この方法に限らず、他の方法で
もよい。また、第１の実施の形態では、図８（Ａ）のタ
イプで説明したが、図７（Ａ）のタイプ（メインスケー
ル１０の検出ヘッド２０と対向する面に光学格子Ｇを形
成したタイプ）にも適用できる。
フの手法によって、光学格子Ｇ1 の光反射部１６間に光
吸収部１７を設けたが、この方法に限らず、他の方法で
もよい。また、第１の実施の形態では、図８（Ａ）のタ
イプで説明したが、図７（Ａ）のタイプ（メインスケー
ル１０の検出ヘッド２０と対向する面に光学格子Ｇを形
成したタイプ）にも適用できる。
【００２１】また、第２の実施の形態では、ガラス基板
１１の光学格子Ｇが形成された面に、光吸収層３１を有
する補状部材３０を貼り合わせるようにしたが、とくに
補状部材３０受けることなく、ガラス基板１１の光学格
子Ｇが形成された面に、光吸収層３１を直接形成するよ
うにしてもよい。
１１の光学格子Ｇが形成された面に、光吸収層３１を有
する補状部材３０を貼り合わせるようにしたが、とくに
補状部材３０受けることなく、ガラス基板１１の光学格
子Ｇが形成された面に、光吸収層３１を直接形成するよ
うにしてもよい。
【００２２】
【発明の効果】本発明の測長スケールによれば、外乱光
の影響を少なくできるから、変位検出装置の精度向上を
はかることができる。
の影響を少なくできるから、変位検出装置の精度向上を
はかることができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態を示す斜視図であ
る。
る。
【図２】同上実施の形態におけるメインスケールを示す
断面図である。
断面図である。
【図３】図２に示すメインスケールの製造方法を示す図
である。
である。
【図４】本発明の第２の実施の形態を示す斜視図であ
る。
る。
【図５】同上実施の形態におけるメインスケールを示す
断面図である。
断面図である。
【図６】一般的な反射型光電式変位検出装置を示す斜視
図である
図である
【図７】従来の反射型光電式変位検出装置の構成（メイ
ンケールの検出ヘッドと対向する面に光学格子を形成し
た構成）およびその構造において外乱光の影響を少なく
する対策を示す図である。
ンケールの検出ヘッドと対向する面に光学格子を形成し
た構成）およびその構造において外乱光の影響を少なく
する対策を示す図である。
【図８】従来の反射型光電式変位検出装置の構成（メイ
ンケールの検出ヘッドと対向する面とは反対側面に光学
格子を形成した構成）およびその構造において外乱光の
影響を少なくする対策を示す図である。
ンケールの検出ヘッドと対向する面とは反対側面に光学
格子を形成した構成）およびその構造において外乱光の
影響を少なくする対策を示す図である。
１０ メインスケール（測長スケール） １１ ガラス基板 １４ 光吸収膜 １５ 光透過部 １６ 光反射部 １７ 光吸収部 ２０ 検出ヘッド ２１ インデックススケール ２２ 発光素子 ２３ 受光素子 ３０ 補助部材 ３１ 光吸収層
Claims (3)
- 【請求項１】 ガラス基板と、このガラス基板の表面に
所定ピッチ間隔で光反射部を形成した光学格子と、この
光学格子の光反射部間に設けられた光吸収部とを備えた
ことを特徴とする測長スケール。 - 【請求項２】 ガラス基板と、このガラス基板の表面に
所定ピッチ間隔で光反射部を形成した光学格子と、この
光学格子が形成された面に設けられた光吸収層とを備え
たことを特徴とする測長スケール。 - 【請求項３】 請求項２に記載の測長スケールにおい
て、前記光吸収層は、前記ガラス基板の光学格子が形成
された面に貼り合わされた補助部材の貼り合わせ面に設
けられていることを特徴とする測長スケール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18561495A JPH0933221A (ja) | 1995-07-21 | 1995-07-21 | 測長スケール |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18561495A JPH0933221A (ja) | 1995-07-21 | 1995-07-21 | 測長スケール |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0933221A true JPH0933221A (ja) | 1997-02-07 |
Family
ID=16173891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18561495A Pending JPH0933221A (ja) | 1995-07-21 | 1995-07-21 | 測長スケール |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0933221A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999041570A1 (de) * | 1998-02-10 | 1999-08-19 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Optoelektronisches weg-, winkel- oder rotationsmessgerät |
| US6671092B2 (en) * | 2000-03-10 | 2003-12-30 | Johannes Heidenhain Gmbh | Reflective measuring scale graduation and method for its manufacture |
| JP2009055034A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Nikon Corp | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びに計測方法 |
| JP2011122993A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Nikon Corp | 光学式エンコーダ用反射板およびその製造方法 |
-
1995
- 1995-07-21 JP JP18561495A patent/JPH0933221A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999041570A1 (de) * | 1998-02-10 | 1999-08-19 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Optoelektronisches weg-, winkel- oder rotationsmessgerät |
| US6437323B1 (en) | 1998-02-10 | 2002-08-20 | Dr. Johannes Heidenhain G.Mbh | Optoelectronic path-, angle- or rotation-measuring device |
| US6671092B2 (en) * | 2000-03-10 | 2003-12-30 | Johannes Heidenhain Gmbh | Reflective measuring scale graduation and method for its manufacture |
| JP2009055034A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Nikon Corp | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びに計測方法 |
| JP2013042170A (ja) * | 2007-08-24 | 2013-02-28 | Nikon Corp | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びに計測方法 |
| JP2011122993A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Nikon Corp | 光学式エンコーダ用反射板およびその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7332711B2 (en) | Photoelectric encoder, scale therefor and method for manufacturing the same | |
| EP1557701B1 (en) | Photoelectric encoder and method of manufacturing scales | |
| JP2891332B2 (ja) | 位相格子および位相格子の作製方法 | |
| EP1674895A1 (en) | Surface reflection type phase grating | |
| US7430076B2 (en) | Diffraction element | |
| JPH04211202A (ja) | 反射型回折格子および該回折格子を用いた装置 | |
| JPS6127690B2 (ja) | ||
| JP2752034B2 (ja) | 目盛担持体 | |
| JPH0377961B2 (ja) | ||
| JPH0933221A (ja) | 測長スケール | |
| JP3034899B2 (ja) | エンコーダ | |
| JP2003166856A (ja) | 光学式エンコーダ | |
| US11768322B2 (en) | Grating part and manufacturing method thereof | |
| JPH0377442B2 (ja) | ||
| JPH102761A (ja) | 光電式エンコーダ | |
| JPH05232318A (ja) | 反射形ホログラムスケール | |
| US10018485B2 (en) | Scale and position-measuring device having such a scale | |
| JP4073509B2 (ja) | 反射型位相格子 | |
| JP2004037341A (ja) | 光電式エンコーダ及びスケールの製造方法 | |
| JPS5875004A (ja) | 光電式変位検出装置の反射型スケ−ルの製造方法 | |
| JP3287737B2 (ja) | 測長スケールおよびそれを用いた光電式変位検出装置 | |
| JPH11101662A (ja) | 光学式エンコーダ | |
| JP3738722B2 (ja) | 光学式検出器 | |
| US20040090677A1 (en) | Material measure in the form of an amplitude grating, as well as a position measuring system | |
| JP2000193490A (ja) | 光電式エンコ―ダ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20040120 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040127 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040601 |