JPH102761A - 光電式エンコーダ - Google Patents
光電式エンコーダInfo
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- JPH102761A JPH102761A JP15391196A JP15391196A JPH102761A JP H102761 A JPH102761 A JP H102761A JP 15391196 A JP15391196 A JP 15391196A JP 15391196 A JP15391196 A JP 15391196A JP H102761 A JPH102761 A JP H102761A
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- grating
- photoelectric encoder
- grating element
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 供給された光を一層効率的に利用することが
でき、その結果、出力信号の振幅が大きい光電式エンコ
ーダを提供する。 【解決手段】 拡散光ＤＬは、インデックススケール１
３の第１格子１４を透過する。このとき、格子素子１７
の段差によって段差直下では光干渉が生じる。この光干
渉が明暗パターンの暗領域を形成する。第２格子１５を
反射したり第３格子１６を通過したりするにあたって、
格子素子１８、１９は光の通過を阻止する。その結果、
受光素子１２では、メインスケール１１の移動時、（格
子ピッチＰ／２）周期の出力信号が得られる。この出力
信号に基づいてメインスケール１１の移動距離を測定す
ることができる。
でき、その結果、出力信号の振幅が大きい光電式エンコ
ーダを提供する。 【解決手段】 拡散光ＤＬは、インデックススケール１
３の第１格子１４を透過する。このとき、格子素子１７
の段差によって段差直下では光干渉が生じる。この光干
渉が明暗パターンの暗領域を形成する。第２格子１５を
反射したり第３格子１６を通過したりするにあたって、
格子素子１８、１９は光の通過を阻止する。その結果、
受光素子１２では、メインスケール１１の移動時、（格
子ピッチＰ／２）周期の出力信号が得られる。この出力
信号に基づいてメインスケール１１の移動距離を測定す
ることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも第１お
よび第２格子の相対移動時に生じる明暗の変化に応じて
検出された光量に基づいて相対移動の移動距離を測定す
る光電式エンコーダに関する。
よび第２格子の相対移動時に生じる明暗の変化に応じて
検出された光量に基づいて相対移動の移動距離を測定す
る光電式エンコーダに関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば３つの格子を使用する反射型エン
コーダは知られている。この反射型エンコーダは、図１
に示すように、光源１００から供給されてメインスケー
ル１０１で反射する光ＤＬを用いてメインスケール１０
１の図示上下方向Ｘ移動を測定する。メインスケール１
０１の移動に伴って第１および第３格子１０２、１０４
に対する第２格子１０３の位置が変化し、その結果、受
光素子１０５が捕らえる光ＤＬの光量が周期的に変化す
ることとなる。この周期的変化をカウントすることによ
ってメインスケール１０１の移動距離が測定される。
コーダは知られている。この反射型エンコーダは、図１
に示すように、光源１００から供給されてメインスケー
ル１０１で反射する光ＤＬを用いてメインスケール１０
１の図示上下方向Ｘ移動を測定する。メインスケール１
０１の移動に伴って第１および第３格子１０２、１０４
に対する第２格子１０３の位置が変化し、その結果、受
光素子１０５が捕らえる光ＤＬの光量が周期的に変化す
ることとなる。この周期的変化をカウントすることによ
ってメインスケール１０１の移動距離が測定される。
【０００３】光量の周期的変化は、格子ピッチＰでメイ
ンスケール１０１およびインデックススケール１０６に
等間隔に取り付けられた格子素子１０７、１０８によっ
て形成される。図２に示すように、反射型エンコーダで
は、第１〜第３格子１０２〜１０４をくぐり抜けた光が
受光素子１０５によって検出され電気信号ＯＵＴに変換
される。第２格子１０３が移動していくと、第１〜第３
格子１０２〜１０４をくぐり抜ける光は周期Ｐ／２で変
化を繰り返す。なお、図２では、理解を容易にすべく反
射型エンコーダが透過型エンコーダとして描かれてい
る。
ンスケール１０１およびインデックススケール１０６に
等間隔に取り付けられた格子素子１０７、１０８によっ
て形成される。図２に示すように、反射型エンコーダで
は、第１〜第３格子１０２〜１０４をくぐり抜けた光が
受光素子１０５によって検出され電気信号ＯＵＴに変換
される。第２格子１０３が移動していくと、第１〜第３
格子１０２〜１０４をくぐり抜ける光は周期Ｐ／２で変
化を繰り返す。なお、図２では、理解を容易にすべく反
射型エンコーダが透過型エンコーダとして描かれてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】一般に、一層細かい分
解能を得るには、周期Ｐ／２で変化する信号を電気的に
分割（内挿）する。したがって、信号の振幅を大きくし
て雑音や分割精度の影響を低減することが望まれる。こ
のように信号の振幅を拡大するには受光素子を拡大すれ
ばよいが、メインスケールやインデックススケールのサ
イズによって受光素子の大きさには制約がつきまとう。
メインスケールやインデックススケールの寸法が機械的
な取付精度や機構構造、コストなどによって制約される
からである。
解能を得るには、周期Ｐ／２で変化する信号を電気的に
分割（内挿）する。したがって、信号の振幅を大きくし
て雑音や分割精度の影響を低減することが望まれる。こ
のように信号の振幅を拡大するには受光素子を拡大すれ
ばよいが、メインスケールやインデックススケールのサ
イズによって受光素子の大きさには制約がつきまとう。
メインスケールやインデックススケールの寸法が機械的
な取付精度や機構構造、コストなどによって制約される
からである。
【０００５】その一方で、第１〜第３格子の遮蔽機能に
よって受光素子が受け取る光量は非常に限定されること
となる。例えば、図２に示すように、第１〜第３格子１
０２〜１０４を完全に通過する光は最大でもほんのわず
かな量に過ぎない。すなわち、遮蔽された光は格子素子
で散乱され、光が無駄に捨て去られていることとなる。
よって受光素子が受け取る光量は非常に限定されること
となる。例えば、図２に示すように、第１〜第３格子１
０２〜１０４を完全に通過する光は最大でもほんのわず
かな量に過ぎない。すなわち、遮蔽された光は格子素子
で散乱され、光が無駄に捨て去られていることとなる。
【０００６】本発明は、上記実情に鑑みてなされたもの
で、供給された光を一層効率的に利用することができ、
その結果、出力信号の振幅が大きい光電式エンコーダを
提供することを目的とする。
で、供給された光を一層効率的に利用することができ、
その結果、出力信号の振幅が大きい光電式エンコーダを
提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第１発明によれば、第１格子ピッチで配列された格
子素子を用いて、光源からの光線を任意の明暗パターン
で通過させる第１格子と、第２格子ピッチで配列された
格子素子を用いて、第１格子を通過してきた光線の通過
を遮る第２格子と、第２格子を通過してきた光線の光量
を検出する受光素子とを備え、第１および第２格子の相
対移動時に生じる明暗の変化に応じて検出された光量に
基づいて相対移動の移動距離を測定する光電式エンコー
ダにおいて、前記第１格子では、前記格子素子が光透過
性に形成され、この格子素子に基づく光干渉を利用して
前記明暗パターンを生成することを特徴とする。
に、第１発明によれば、第１格子ピッチで配列された格
子素子を用いて、光源からの光線を任意の明暗パターン
で通過させる第１格子と、第２格子ピッチで配列された
格子素子を用いて、第１格子を通過してきた光線の通過
を遮る第２格子と、第２格子を通過してきた光線の光量
を検出する受光素子とを備え、第１および第２格子の相
対移動時に生じる明暗の変化に応じて検出された光量に
基づいて相対移動の移動距離を測定する光電式エンコー
ダにおいて、前記第１格子では、前記格子素子が光透過
性に形成され、この格子素子に基づく光干渉を利用して
前記明暗パターンを生成することを特徴とする。
【０００８】かかる構成によれば、第１格子では、格子
素子を透過する光に基づく光干渉によって明暗パターン
が形成されることから、第１格子で遮断される光が減少
する。その結果、より多量の光を受光素子まで送り込む
ことが可能となる。
素子を透過する光に基づく光干渉によって明暗パターン
が形成されることから、第１格子で遮断される光が減少
する。その結果、より多量の光を受光素子まで送り込む
ことが可能となる。
【０００９】また第２発明によれば、第１発明に係る光
電式エンコーダにおいて、前記第１格子は、前記格子素
子を支持する光透過性基体を備え、前記格子素子が形成
する基体表面の段差によって前記光干渉を生起させるこ
とを特徴とする。したがって、簡単な構成によって光干
渉型の明暗パターンを形成することができる。
電式エンコーダにおいて、前記第１格子は、前記格子素
子を支持する光透過性基体を備え、前記格子素子が形成
する基体表面の段差によって前記光干渉を生起させるこ
とを特徴とする。したがって、簡単な構成によって光干
渉型の明暗パターンを形成することができる。
【００１０】さらに、第３発明によれば、第１または第
２発明に係る光電式エンコーダにおいて、前記格子素子
の厚みは、この格子素子を通過する光線の波長を半波長
分ずらす厚みに設定されることを特徴とする。かかる構
成によって、明暗パターンでは、明領域と暗領域とのコ
ントラストが最大限強調される。
２発明に係る光電式エンコーダにおいて、前記格子素子
の厚みは、この格子素子を通過する光線の波長を半波長
分ずらす厚みに設定されることを特徴とする。かかる構
成によって、明暗パターンでは、明領域と暗領域とのコ
ントラストが最大限強調される。
【００１１】さらにまた、第４発明によれば、第２また
は第３発明に係る光電式エンコーダにおいて、前記基体
はガラス基板であって、このガラス基板の表面にＳｉＯ
2 によって前記格子素子を成膜することを特徴とする。
このとき、格子素子を覆う光透過性保護膜をガラス基体
の表面に形成すれば、機械的強度を高めることができ
る。こういった材料に代えて、ガラス基板の表面に有機
樹脂から格子素子を成膜してもよい。
は第３発明に係る光電式エンコーダにおいて、前記基体
はガラス基板であって、このガラス基板の表面にＳｉＯ
2 によって前記格子素子を成膜することを特徴とする。
このとき、格子素子を覆う光透過性保護膜をガラス基体
の表面に形成すれば、機械的強度を高めることができ
る。こういった材料に代えて、ガラス基板の表面に有機
樹脂から格子素子を成膜してもよい。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しつつ本発
明の好適な実施形態を説明する。
明の好適な実施形態を説明する。
【００１３】図３は本発明の第１実施形態に係る反射型
エンコーダを示す。この反射型エンコーダは、光源１０
から照射される波長λの拡散光ＤＬをメインスケール１
１の反射面１１ａで反射させて、反射した拡散光ＤＬを
受光素子１２で受光する。受光素子１２は、受光した拡
散光の光量に応じた出力信号ＯＵＴを増幅回路（図示せ
ず）に向けて出力する。メインスケール１１が移動する
と、一定周期Ｐ／２で変化する出力信号ＯＵＴが得られ
る。この出力信号ＯＵＴをカウントしたり内挿したりす
ることによってメインスケール１１のＸ軸方向移動距離
が測定される。
エンコーダを示す。この反射型エンコーダは、光源１０
から照射される波長λの拡散光ＤＬをメインスケール１
１の反射面１１ａで反射させて、反射した拡散光ＤＬを
受光素子１２で受光する。受光素子１２は、受光した拡
散光の光量に応じた出力信号ＯＵＴを増幅回路（図示せ
ず）に向けて出力する。メインスケール１１が移動する
と、一定周期Ｐ／２で変化する出力信号ＯＵＴが得られ
る。この出力信号ＯＵＴをカウントしたり内挿したりす
ることによってメインスケール１１のＸ軸方向移動距離
が測定される。
【００１４】出力信号ＯＵＴの周期Ｐ／２は、インデッ
クススケール１３上に設けられた第１格子１４と、メイ
ンスケール１１上に設けられた第２格子１５と、第１格
子１４に隣接してインデックススケール１３上に設けら
れた第３格子１６とによって形成される。すなわち、第
１格子１４では、第１格子ピッチＰの等間隔で光透過性
の格子素子１７が配列され、これら格子素子１７に基づ
く光干渉を利用して任意の明暗パターンが形成される。
かかる明暗パターンの形成原理は後述される。
クススケール１３上に設けられた第１格子１４と、メイ
ンスケール１１上に設けられた第２格子１５と、第１格
子１４に隣接してインデックススケール１３上に設けら
れた第３格子１６とによって形成される。すなわち、第
１格子１４では、第１格子ピッチＰの等間隔で光透過性
の格子素子１７が配列され、これら格子素子１７に基づ
く光干渉を利用して任意の明暗パターンが形成される。
かかる明暗パターンの形成原理は後述される。
【００１５】第２格子１５では、第１格子ピッチＰと等
しい第２格子ピッチＰの等間隔で不透明なＣｒ薄膜製格
子素子１８が配列される。第１格子１４を通過してきた
拡散光ＤＬは、格子素子１８で遮蔽されつつ反射面１１
ａによって反射される。同じく、第３格子１６では、第
１格子ピッチＰと等しい第３格子ピッチＰの等間隔で不
透明なＣｒ薄膜製格子素子１９が配列される。第１およ
び第２格子１４、１５を通過してきた拡散光ＤＬは、格
子素子１９で遮蔽されつつインデックススケール１３を
透過する。最終的に、第２および第３格子１５、１６の
格子素子１８、１９に遮蔽されなかった拡散光ＤＬのみ
が受光素子１２に達する。
しい第２格子ピッチＰの等間隔で不透明なＣｒ薄膜製格
子素子１８が配列される。第１格子１４を通過してきた
拡散光ＤＬは、格子素子１８で遮蔽されつつ反射面１１
ａによって反射される。同じく、第３格子１６では、第
１格子ピッチＰと等しい第３格子ピッチＰの等間隔で不
透明なＣｒ薄膜製格子素子１９が配列される。第１およ
び第２格子１４、１５を通過してきた拡散光ＤＬは、格
子素子１９で遮蔽されつつインデックススケール１３を
透過する。最終的に、第２および第３格子１５、１６の
格子素子１８、１９に遮蔽されなかった拡散光ＤＬのみ
が受光素子１２に達する。
【００１６】図４を参照しつつ、第１格子１４での明暗
パターンの形成原理を説明する。光源１０から照射され
た拡散光ＤＬはインデックススケール１３を透過する。
このとき、光透過性の格子素子１７を透過する拡散光Ｄ
Ｌでは、格子素子１７を透過しない拡散光ＤＬに比べて
光路長差ｄＬが生じる。すなわち、屈折率ｎの透過媒体
からなる格子素子１７では光路長Ｌ＝ｎｔが成立する。
ここで、ｔは格子素子１７の厚みを意味する。一方、格
子素子１７以外では、空気の屈折率ｎ＝１によって光路
長Ｌ＝ｔが成立することから、両者の間には、ｄＬ＝ｔ
（ｎ−１）の位相差が生じることとなる。格子素子１７
の縁では光のわずかな回折によって隣接する光同士が干
渉を引き起こす。その結果、格子素子１７が形成する段
差１７ａ直下には暗領域２０が形成される。こういった
干渉現象では、格子素子１７の厚みｔの設定を通じて光
路長差ｄＬ＝λ／２（半波長）を生じされば最もコント
ラストの強い明暗パターンが得られる。すなわち、ｔ＝
λ／［２（ｎ−１）］が成立することとなる。
パターンの形成原理を説明する。光源１０から照射され
た拡散光ＤＬはインデックススケール１３を透過する。
このとき、光透過性の格子素子１７を透過する拡散光Ｄ
Ｌでは、格子素子１７を透過しない拡散光ＤＬに比べて
光路長差ｄＬが生じる。すなわち、屈折率ｎの透過媒体
からなる格子素子１７では光路長Ｌ＝ｎｔが成立する。
ここで、ｔは格子素子１７の厚みを意味する。一方、格
子素子１７以外では、空気の屈折率ｎ＝１によって光路
長Ｌ＝ｔが成立することから、両者の間には、ｄＬ＝ｔ
（ｎ−１）の位相差が生じることとなる。格子素子１７
の縁では光のわずかな回折によって隣接する光同士が干
渉を引き起こす。その結果、格子素子１７が形成する段
差１７ａ直下には暗領域２０が形成される。こういった
干渉現象では、格子素子１７の厚みｔの設定を通じて光
路長差ｄＬ＝λ／２（半波長）を生じされば最もコント
ラストの強い明暗パターンが得られる。すなわち、ｔ＝
λ／［２（ｎ−１）］が成立することとなる。
【００１７】こうして第１格子１４に透明な格子素子１
７を適用することによって、図５に示すように、受光素
子１２に達する拡散光ＤＬは従来の２倍近くに達する。
その結果、光源１０の出力を増加させることなく出力信
号ＯＵＴの振幅を２倍に引き上げることができる。光源
１０の出力増加に伴う光源寿命の短期化や劣化阻止用パ
ッケージの必要性は回避される。また、振幅が小さい場
合に必要とされる回路の低雑音化やオフセット電圧の削
減といったコストアップ要因も回避される。しかも、各
格子素子１７は両側縁で２つの段差を有することから、
同一格子ピッチＰで２倍の明暗の繰り返しを得ることが
可能となる（再び図４を参照のこと）。なお、図５で
は、第１および第２格子１４、１５間のギャップＧｐは
Ｐ2 ／λ以上の広さに設定され、受光素子１２の受光量
が最大となるインデックススケールおよびメインスケー
ルの相対位置関係となっている。
７を適用することによって、図５に示すように、受光素
子１２に達する拡散光ＤＬは従来の２倍近くに達する。
その結果、光源１０の出力を増加させることなく出力信
号ＯＵＴの振幅を２倍に引き上げることができる。光源
１０の出力増加に伴う光源寿命の短期化や劣化阻止用パ
ッケージの必要性は回避される。また、振幅が小さい場
合に必要とされる回路の低雑音化やオフセット電圧の削
減といったコストアップ要因も回避される。しかも、各
格子素子１７は両側縁で２つの段差を有することから、
同一格子ピッチＰで２倍の明暗の繰り返しを得ることが
可能となる（再び図４を参照のこと）。なお、図５で
は、第１および第２格子１４、１５間のギャップＧｐは
Ｐ2 ／λ以上の広さに設定され、受光素子１２の受光量
が最大となるインデックススケールおよびメインスケー
ルの相対位置関係となっている。
【００１８】図６を参照しつつ光透過性格子素子１７の
製造方法を説明する。例えば格子素子１７の形成には、
ＳｉＯ2 や有機樹脂といった透明な素材を用いたフォト
リソグラフィ技術が採用される。まず、図６に示すよ
うに、ガラス基板３０といった光透過性基体の表面に格
子素子用薄膜３１を成膜する。ＳｉＯ2 の場合にはスパ
ッタリングで成膜すればよく、有機樹脂の場合にはスピ
ンコートで成膜すればよい。続いて、図６に示すよう
に、薄膜３１上に例えばポジレジスト３２を塗布する。
露光時には、図６に示すように、格子ピッチＰで遮蔽
光素子が配列されたマスク基板３３をポジレジスト３２
上空に配置する。
製造方法を説明する。例えば格子素子１７の形成には、
ＳｉＯ2 や有機樹脂といった透明な素材を用いたフォト
リソグラフィ技術が採用される。まず、図６に示すよ
うに、ガラス基板３０といった光透過性基体の表面に格
子素子用薄膜３１を成膜する。ＳｉＯ2 の場合にはスパ
ッタリングで成膜すればよく、有機樹脂の場合にはスピ
ンコートで成膜すればよい。続いて、図６に示すよう
に、薄膜３１上に例えばポジレジスト３２を塗布する。
露光時には、図６に示すように、格子ピッチＰで遮蔽
光素子が配列されたマスク基板３３をポジレジスト３２
上空に配置する。
【００１９】図６に示すように、レジストを現像する
と、ポジレジスト３２では、露光によって光の照射され
た部分が取り除かれ、薄膜３１上にはレジストパターン
３４が形成される。このレジストパターン３４を用いて
エッチングを行うと、図６に示すように、レジストパ
ターン３４によって薄膜３１にはパターン形成がなされ
る。図６に示すように、レジストパターン３４を除去
すれば、格子ピッチＰ間隔の格子素子１７が得られる。
格子素子１７の機械的強度が不十分な場合には、図６
に示すように、できあがった格子素子１７の上から透明
な保護膜３５を成膜してもよい。保護膜３５の厚みｔ１
は限定されないが、格子素子１７の段差を維持したまま
均一に成膜されることが望ましい。
と、ポジレジスト３２では、露光によって光の照射され
た部分が取り除かれ、薄膜３１上にはレジストパターン
３４が形成される。このレジストパターン３４を用いて
エッチングを行うと、図６に示すように、レジストパ
ターン３４によって薄膜３１にはパターン形成がなされ
る。図６に示すように、レジストパターン３４を除去
すれば、格子ピッチＰ間隔の格子素子１７が得られる。
格子素子１７の機械的強度が不十分な場合には、図６
に示すように、できあがった格子素子１７の上から透明
な保護膜３５を成膜してもよい。保護膜３５の厚みｔ１
は限定されないが、格子素子１７の段差を維持したまま
均一に成膜されることが望ましい。
【００２０】図７では、図６のエッチングによって完
全に薄膜３１を取り除かずにエッチングの深さを制御す
ることによって薄膜３１に一体化された格子素子１７す
なわち段差１７ａが形成される。こうすることによって
堆積させる膜厚の制御（図６の成膜時）を大雑把にす
ることができる。
全に薄膜３１を取り除かずにエッチングの深さを制御す
ることによって薄膜３１に一体化された格子素子１７す
なわち段差１７ａが形成される。こうすることによって
堆積させる膜厚の制御（図６の成膜時）を大雑把にす
ることができる。
【００２１】図８は本発明の第２実施形態に係る反射型
光電式エンコーダを示す。この第２実施形態では、第１
格子１４に加え、第３格子１６を光透過性の格子素子２
５で形成したことが特徴とされる。前述した第１実施形
態と同様な構成については同一の参照符号を付してその
詳細な説明を省略する。かかる構成は、アレイ型の受光
素子を採用した場合に特に有効である。
光電式エンコーダを示す。この第２実施形態では、第１
格子１４に加え、第３格子１６を光透過性の格子素子２
５で形成したことが特徴とされる。前述した第１実施形
態と同様な構成については同一の参照符号を付してその
詳細な説明を省略する。かかる構成は、アレイ型の受光
素子を採用した場合に特に有効である。
【００２２】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、光透過性
格子素子に基づく光干渉を利用して第１格子の明暗パタ
ーンを形成するので、受光素子に達する光は従来よりも
増加する。その結果、光源の出力を増加させることなく
受光素子の出力信号の振幅を拡大させることができる。
したがって、光源の出力増加に伴う光源寿命の短期化や
劣化阻止用パッケージの必要性は回避される。また、出
力信号の振幅が小さい場合に必要とされる回路の低雑音
化やオフセット電圧の削減といったコストアップ要因も
回避される。
格子素子に基づく光干渉を利用して第１格子の明暗パタ
ーンを形成するので、受光素子に達する光は従来よりも
増加する。その結果、光源の出力を増加させることなく
受光素子の出力信号の振幅を拡大させることができる。
したがって、光源の出力増加に伴う光源寿命の短期化や
劣化阻止用パッケージの必要性は回避される。また、出
力信号の振幅が小さい場合に必要とされる回路の低雑音
化やオフセット電圧の削減といったコストアップ要因も
回避される。
【図１】 反射型光電式エンコーダの全体構造を示す図
である。
である。
【図２】 各格子を通過する明暗パターンを示す図であ
る。
る。
【図３】 本発明の第１実施形態に係る反射型光電式エ
ンコーダの全体構成図である。
ンコーダの全体構成図である。
【図４】 透過性格子素子を用いた明暗パターン形成原
理を説明する図である。
理を説明する図である。
【図５】 透過性格子素子の利用によって増加した受光
量を示す図である。
量を示す図である。
【図６】 透過性格子素子の製造方法を示す図である。
【図７】 段差を介して透過性格子素子が一体化された
薄膜を示す図である。
薄膜を示す図である。
【図８】 本発明の第２実施形態に係る反射型光電式エ
ンコーダの全体構成図である。
ンコーダの全体構成図である。
１２ 受光素子、１４ 第１格子、１５ 第２格子、１
７、２５ 光透過性の格子素子、ＤＬ 光源からの光線
としての拡散光、Ｐ 第１および第２格子ピッチ。
７、２５ 光透過性の格子素子、ＤＬ 光源からの光線
としての拡散光、Ｐ 第１および第２格子ピッチ。
Claims (6)
- 【請求項１】 第１格子ピッチで配列された格子素子を
用いて、光源からの光線を任意の明暗パターンで通過さ
せる第１格子と、第２格子ピッチで配列された格子素子
を用いて、第１格子を通過してきた光線の通過を遮る第
２格子と、第２格子を通過してきた光線の光量を検出す
る受光素子とを備え、第１および第２格子の相対移動時
に生じる明暗の変化に応じて検出された光量に基づいて
相対移動の移動距離を測定する光電式エンコーダにおい
て、 前記第１格子では、前記格子素子が光透過性に形成さ
れ、この格子素子に基づく光干渉を利用して前記明暗パ
ターンを生成することを特徴とする光電式エンコーダ。 - 【請求項２】 請求項１に記載の光電式エンコーダにお
いて、前記第１格子は、前記格子素子を支持する光透過
性基体を備え、前記格子素子が形成する基体表面の段差
によって前記光干渉を生起させることを特徴とする光電
式エンコーダ。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載の光電式エンコ
ーダにおいて、前記格子素子の厚みは、この格子素子を
通過する光線の波長を半波長分ずらす厚みに設定される
ことを特徴とする光電式エンコーダ。 - 【請求項４】 請求項２または３に記載の光電式エンコ
ーダにおいて、前記基体はガラス基板であって、このガ
ラス基板の表面にＳｉＯ2 からなる前記格子素子を成膜
することを特徴とする光電式エンコーダ。 - 【請求項５】 請求項４に記載の光電式エンコーダにお
いて、前記ガラス基板の表面には、前記格子素子を覆う
光透過性保護膜が形成されることを特徴とする光電式エ
ンコーダ。 - 【請求項６】 請求項２または３に記載の光電式エンコ
ーダにおいて、前記基体はガラス基板であって、ガラス
基板の表面に有機樹脂からなる前記格子素子が成膜され
ることを特徴とする光電式エンコーダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15391196A JPH102761A (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 光電式エンコーダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15391196A JPH102761A (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 光電式エンコーダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH102761A true JPH102761A (ja) | 1998-01-06 |
Family
ID=15572805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15391196A Pending JPH102761A (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 光電式エンコーダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH102761A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1996
- 1996-06-14 JP JP15391196A patent/JPH102761A/ja active Pending
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