JP2012062422A - Resin composition and molded body - Google Patents

Resin composition and molded body Download PDF

Info

Publication number
JP2012062422A
JP2012062422A JP2010208938A JP2010208938A JP2012062422A JP 2012062422 A JP2012062422 A JP 2012062422A JP 2010208938 A JP2010208938 A JP 2010208938A JP 2010208938 A JP2010208938 A JP 2010208938A JP 2012062422 A JP2012062422 A JP 2012062422A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
silica
weight
resin
molded body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010208938A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobuhiro Mori
伸浩 森
Yuya Hayashi
裕也 林
Tatsuji Hayashi
達史 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP2010208938A priority Critical patent/JP2012062422A/en
Publication of JP2012062422A publication Critical patent/JP2012062422A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition capable of obtaining a molded body having high performance fitting to unevenness and high surface smoothness when laminated on a member having holes or unevenness on the surface thereof, and to provide the molded body.SOLUTION: The resin composition includes an epoxy resin, a phenolic curing agent, a first silica having an average particle size of 0.1-10 μm, and a second silica having that of 1-100 nm. The content of the second silica is 0.6-30 pts.wt. based on 100 pts.wt. of the first silica. The molded body is produced by molding the resin composition in a sheet-like form.

Description

本発明は、エポキシ樹脂、硬化剤及びシリカを含む樹脂組成物、並びに該樹脂組成物を用いた成形体に関する。   The present invention relates to a resin composition containing an epoxy resin, a curing agent and silica, and a molded body using the resin composition.

従来、積層板及びプリント配線板等の電子部品を形成するために、様々な樹脂組成物が用いられている。   Conventionally, various resin compositions have been used to form electronic components such as laminates and printed wiring boards.

上記樹脂組成物の一例として、下記の特許文献1には、シアネート樹脂と、フェノール樹脂と、無機充填剤とを含む樹脂組成物が開示されている。ここでは、樹脂組成物の難燃性及び耐熱性が高く、線膨張係数が低いことが記載されている。さらに、特許文献1には、シアネート樹脂の反応性を向上させるために、エポキシ樹脂を用いることが好ましいことが記載されている。   As an example of the resin composition, Patent Document 1 below discloses a resin composition containing a cyanate resin, a phenol resin, and an inorganic filler. Here, it is described that the resin composition has high flame retardancy and heat resistance and a low coefficient of linear expansion. Furthermore, Patent Document 1 describes that it is preferable to use an epoxy resin in order to improve the reactivity of the cyanate resin.

下記の特許文献2には、重量平均分子量が10万〜60万の高分子量成分と、分子量が500以上の多官能エポキシ樹脂と、フェノール樹脂と、フィラーとを含む樹脂組成物が開示されている。ここでは、硬化前の流動性が良好であるので、配線基板などの凹凸に樹脂組成物を充分に埋め込ませることができ、更に硬化後は高い接着強度が発現することが記載されている。さらに、特許文献2には、上記フィラーとして平均粒径が異なる2種以上のフィラーが含まれると、溶融粘度が低くなり、硬化後に優れた接着強度が得られることが記載されている。   Patent Document 2 below discloses a resin composition containing a high molecular weight component having a weight average molecular weight of 100,000 to 600,000, a polyfunctional epoxy resin having a molecular weight of 500 or more, a phenol resin, and a filler. . Here, it is described that since the fluidity before curing is good, the resin composition can be sufficiently embedded in unevenness such as a wiring board and high adhesive strength is exhibited after curing. Furthermore, Patent Document 2 describes that when two or more kinds of fillers having different average particle diameters are included as the filler, the melt viscosity is lowered and excellent adhesive strength can be obtained after curing.

特開2003−096296号公報JP 2003-096296 A 特開2008−133456号公報JP 2008-133456 A

特許文献1〜2に記載の樹脂組成物では、該樹脂組成物が穴又は凹凸を表面に有する基板上などに塗布されたときに、穴埋め性又は凹凸追従性が低く、樹脂組成物の上面の平滑性が低いことがある。さらに、仮に特許文献1〜2に記載の樹脂組成物をシート状に成形して、成形体を得た場合にも、得られた成形体の穴埋め性又は凹凸追従性が低く、樹脂組成物の上面の平滑性が低いことがある。   In the resin compositions described in Patent Documents 1 and 2, when the resin composition is applied onto a substrate having holes or irregularities on the surface, the hole filling property or irregularity followability is low, and the upper surface of the resin composition Smoothness may be low. Furthermore, even if the resin composition described in Patent Documents 1 and 2 is molded into a sheet shape to obtain a molded body, the obtained molded body has low filling property or uneven follow-up property, and the resin composition The smoothness of the top surface may be low.

本発明の目的は、穴又は凹凸を表面に有する部材に積層された場合に、凹凸追従性が高く、かつ表面の平滑性を高めることができる成形体を得ることを可能とする樹脂組成物、並びに該樹脂組成物を用いた成形体を提供することである。   An object of the present invention is to provide a resin composition that can provide a molded article that has high unevenness followability and can improve surface smoothness when laminated on a member having a hole or unevenness on the surface, In addition, a molded body using the resin composition is provided.

本発明の広い局面によれば、エポキシ樹脂と、フェノール硬化剤と、平均粒子径が0.1μm以上、10μm以下の第1のシリカと、平均粒子径が1nm以上、100nm未満の第2のシリカとを含み、上記第1のシリカ100重量部に対する上記第2のシリカの含有量が0.6〜30重量部である、樹脂組成物が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, an epoxy resin, a phenol curing agent, a first silica having an average particle diameter of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and a second silica having an average particle diameter of 1 nm or more and less than 100 nm And the content of the second silica with respect to 100 parts by weight of the first silica is 0.6 to 30 parts by weight.

本発明に係る樹脂組成物のある特定の局面では、樹脂組成物100重量%(樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、上記第1,第2のシリカの合計の含有量は25〜80重量%であり、樹脂組成物に含まれている樹脂成分の合計100重量部に対して、上記第2のシリカの含有量は0.45〜24.5重量部である。   In a specific aspect of the resin composition according to the present invention, the total content of the first and second silicas in 100% by weight of the resin composition (excluding the solvent when the resin composition includes a solvent). Is 25 to 80% by weight, and the content of the second silica is 0.45 to 24.5 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the resin components contained in the resin composition.

本発明に係る樹脂組成物の他の特定の局面では、樹脂組成物100重量%(樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、上記第1,第2のシリカの合計の含有量は45〜75重量%である。   In another specific aspect of the resin composition according to the present invention, the total content of the first and second silicas in 100% by weight of the resin composition (excluding the solvent when the resin composition includes a solvent). The amount is 45 to 75% by weight.

本発明に係る樹脂組成物の他の特定の局面では、上記第1のシリカ100重量部に対して、上記第2のシリカの含有量は1〜15重量部である。   In another specific aspect of the resin composition according to the present invention, the content of the second silica is 1 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the first silica.

上記第1,第2のシリカは、シランカップリング剤により処理されていることが好ましい。上記第1,第2のシリカの内の少なくとも一方は、エポキシシランカップリング剤、ビニルシランカップリング剤又はアミノシランカップリング剤により処理されていることが好ましい。   The first and second silicas are preferably treated with a silane coupling agent. At least one of the first and second silicas is preferably treated with an epoxy silane coupling agent, a vinyl silane coupling agent, or an amino silane coupling agent.

上記フェノール硬化剤は、下記式(1)で表されるフェノール硬化剤であることが好ましい。   The phenol curing agent is preferably a phenol curing agent represented by the following formula (1).

Figure 2012062422
Figure 2012062422

上記式(1)中、m及びnはそれぞれ1以上の整数である。   In the above formula (1), m and n are each an integer of 1 or more.

本発明に係る成形体は、本発明に従って構成された樹脂組成物がシート状に成形された成形体である。   The molded body according to the present invention is a molded body in which the resin composition configured according to the present invention is formed into a sheet shape.

本発明に係る成形体のある特定の局面では、成形体の厚さは5〜100μmである。   On the specific situation with the molded object which concerns on this invention, the thickness of a molded object is 5-100 micrometers.

本発明に係る樹脂組成物は、エポキシ樹脂、フェノール硬化剤、平均粒子径が0.1μm以上10μm以下の第1のシリカ、及び平均粒子径が1nm以上100nm未満の第2のシリカを含むので、更に第1のシリカ100重量部に対する第2のシリカの含有量が0.6〜30重量部であるので、穴又は凹凸を表面に有する部材に積層された場合に、凹凸追従性が高く、かつ表面の平滑性を高めることができるシート状の成形体を得ることができる。   Since the resin composition according to the present invention includes an epoxy resin, a phenol curing agent, a first silica having an average particle size of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and a second silica having an average particle size of 1 nm or more and less than 100 nm, Furthermore, since content of the 2nd silica with respect to 100 weight part of 1st silica is 0.6-30 weight part, when laminated | stacked on the member which has a hole or an unevenness | corrugation on the surface, uneven | corrugated followable | trackability is high, and A sheet-like molded body that can improve the smoothness of the surface can be obtained.

以下、本発明の詳細を説明する。   Details of the present invention will be described below.

(樹脂組成物)
本発明に係る樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、フェノール硬化剤と、平均粒子径が0.1μm以上10μm以下の第1のシリカと、平均粒子径が1nm以上100nm未満の第2のシリカとを含む。本発明に係る樹脂組成物では、第1のシリカ100重量部に対する第2のシリカの含有量が0.6〜30重量部である。
(Resin composition)
The resin composition according to the present invention comprises an epoxy resin, a phenol curing agent, a first silica having an average particle diameter of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and a second silica having an average particle diameter of 1 nm or more and less than 100 nm. Including. In the resin composition according to the present invention, the content of the second silica with respect to 100 parts by weight of the first silica is 0.6 to 30 parts by weight.

本発明に係る樹脂組成物は上記組成を有するので、樹脂組成物及び樹脂組成物をシート状に成形した成形体が、穴又は凹凸を表面に有する部材に積層された場合に、樹脂組成物又は成形体の表面の平滑性を高めることができる。また、本発明に係る樹脂組成物は上記組成を有するので、形状追従性に優れており、樹脂組成物及び樹脂組成物をシート状に成形した成形体の穴埋め性又は凹凸追従性を高めることができる。例えば、ビアホールもしくはスルーホール等の穴を表面に有する部材、又は配線回路等により凹凸を表面に有する部材に樹脂組成物又は成形体が積層された場合に、穴又は凹部に樹脂組成物又は成形体を充分に埋め込ませることができ、更に樹脂組成物又は成形体の表面の平滑性を高めることができる。さらに、樹脂組成物及び成形体の保存安定性を高めることもできる。   Since the resin composition according to the present invention has the above composition, when the resin composition and a molded body obtained by molding the resin composition into a sheet are laminated on a member having holes or irregularities on the surface, the resin composition or The smoothness of the surface of a molded object can be improved. In addition, since the resin composition according to the present invention has the above composition, it has excellent shape followability, and can improve the filling property or uneven followability of the resin composition and a molded body obtained by molding the resin composition into a sheet shape. it can. For example, when a resin composition or a molded body is laminated on a member having a hole such as a via hole or a through hole on the surface, or a member having an uneven surface on the surface by a wiring circuit or the like, the resin composition or the molded body is formed in the hole or the recess. Can be embedded sufficiently, and the smoothness of the surface of the resin composition or molded article can be further improved. Furthermore, the storage stability of the resin composition and the molded body can be enhanced.

第2のシリカの平均粒子径が1nm以上であると、シリカの2次凝集がそれほど多く生じないため、樹脂組成物又は成形体の埋め込み性を高めることができる。第2のシリカの平均粒子径が100nm未満であると、樹脂組成物又は成形体の埋め込み性を高めることができ、更に樹脂組成物又は成形体の表面の平滑性を高めることができる。第2のシリカの平均粒子径は、より好ましくは、3nm以上であり、50nm未満である。第2のシリカの平均粒子径は、更に好ましくは、25nm未満である。   When the average particle diameter of the second silica is 1 nm or more, since the secondary aggregation of the silica does not occur so much, the embedding property of the resin composition or the molded body can be improved. When the average particle diameter of the second silica is less than 100 nm, the embedding property of the resin composition or the molded body can be improved, and the smoothness of the surface of the resin composition or the molded body can be further increased. The average particle diameter of the second silica is more preferably 3 nm or more and less than 50 nm. The average particle diameter of the second silica is more preferably less than 25 nm.

第1のシリカの平均粒子径が0.1μm以上であると、樹脂組成物又は成形体の埋め込み性を高めることができる。第1のシリカの平均粒子径が10μm以下であると、樹脂組成物又は成形体の表面の平滑性を高めることができる。第1のシリカの平均粒子径は、好ましくは、0.3μm以上であり、5μm未満である。   The embedding property of a resin composition or a molded object can be improved as the average particle diameter of a 1st silica is 0.1 micrometer or more. The smoothness of the surface of a resin composition or a molded object can be improved as the average particle diameter of a 1st silica is 10 micrometers or less. The average particle diameter of the first silica is preferably 0.3 μm or more and less than 5 μm.

第1のシリカ100重量部に対する第2のシリカの含有量は0.6〜30重量部である。第2のシリカの含有量が0.6重量部以上であると、樹脂組成物又は成形体の埋め込み性を高めることができ、更に樹脂組成物又は成形体の表面の平滑性を高めることができる。第2のシリカの含有量が30重量部以下であると、配線パターンへの埋め込み性、ビアホールもしくはスルーホール等の穴への充填性を高めることができる。また、樹脂組成物の保存安定性を向上させることができる。第1のシリカ100重量部に対する第2のシリカの含有量の好ましい下限は0.8重量部、より好ましい下限は2重量部、更に好ましい下限は2.5重量部、好ましい上限は25重量部、より好ましい上限は20重量部、更に好ましい上限は15重量部、最も好ましい上限は10重量部である。   The content of the second silica with respect to 100 parts by weight of the first silica is 0.6 to 30 parts by weight. When the content of the second silica is 0.6 parts by weight or more, the embedding property of the resin composition or the molded body can be increased, and the smoothness of the surface of the resin composition or the molded body can be further increased. . When the content of the second silica is 30 parts by weight or less, the embedding property in the wiring pattern and the filling property in a hole such as a via hole or a through hole can be improved. Moreover, the storage stability of the resin composition can be improved. The preferred lower limit of the content of the second silica with respect to 100 parts by weight of the first silica is 0.8 parts by weight, the more preferred lower limit is 2 parts by weight, the still more preferred lower limit is 2.5 parts by weight, and the preferred upper limit is 25 parts by weight. A more preferred upper limit is 20 parts by weight, a still more preferred upper limit is 15 parts by weight, and a most preferred upper limit is 10 parts by weight.

樹脂組成物に含まれている樹脂成分の合計100重量部に対して、上記第2のシリカの含有量は0.45〜30重量部であることが好ましい。上記第2のシリカの含有量が0.45重量部以上であると、樹脂組成物又は成形体の埋め込み性をより一層高めることができ、更に樹脂組成物又は成形体の表面の平滑性をより一層高めることができる。上記第2のシリカの含有量が30重量部以下であると、ビアホールもしくはスルーホール等の穴への充填性及び配線パターンへの埋め込み性をより一層高めることができる。また、樹脂組成物又は成形体の保存安定性をより一層向上させることができる。樹脂組成物に含まれている樹脂成分の合計100重量部に対して、上記第2のシリカの含有量のより好ましい上限は24.5重量部である。   It is preferable that the content of the second silica is 0.45 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total resin components contained in the resin composition. When the content of the second silica is 0.45 parts by weight or more, the embedding property of the resin composition or the molded body can be further improved, and the surface smoothness of the resin composition or the molded body is further improved. It can be further enhanced. When the content of the second silica is 30 parts by weight or less, the filling property to holes such as via holes or through holes and the embedding property to wiring patterns can be further enhanced. Moreover, the storage stability of a resin composition or a molded object can be improved further. The more preferable upper limit of the content of the second silica is 24.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total resin components contained in the resin composition.

なお、上記樹脂成分には、エポキシ樹脂及びフェノール硬化剤と、必要に応じて配合される他の樹脂成分とが含まれる。上記樹脂成分には、硬化促進剤が含まれる。上記樹脂成分には、第1,第2のシリカは含まれない。樹脂組成物が溶剤を含む場合には、上記樹脂成分には、溶剤は含まれない。   In addition, the said resin component contains an epoxy resin and a phenol hardening | curing agent, and the other resin component mix | blended as needed. The resin component includes a curing accelerator. The resin component does not include the first and second silica. When the resin composition contains a solvent, the resin component does not contain a solvent.

[エポキシ樹脂]
上記エポキシ樹脂は、少なくとも1つのエポキシ基を有する有機化合物をいう。上記エポキシ樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[Epoxy resin]
The epoxy resin refers to an organic compound having at least one epoxy group. As for the said epoxy resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記エポキシ樹脂は特に限定されない。上記エポキシ樹脂として、従来公知のエポキシ樹脂を用いることができる。上記エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリアジン骨格含有エポキシ樹脂及びアントラセン型エポキシ樹脂等が挙げられる。   The epoxy resin is not particularly limited. A conventionally well-known epoxy resin can be used as said epoxy resin. Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, and naphthol aralkyl type epoxy. Examples thereof include resins, dicyclopentadiene type epoxy resins, triazine skeleton-containing epoxy resins and anthracene type epoxy resins.

[硬化剤]
本発明に係る樹脂組成物は、フェノール硬化剤(フェノール化合物)を含む。上記フェノール硬化剤をエポキシ樹脂と第1,第2のシリカと組み合わせて用いることにより、穴又は凹凸を表面に有する部材に積層された場合に、凹凸追従性が高く、かつ表面の平滑性を高めることができるシート状の成形体を得ることができる。さらに、フェノール硬化剤の使用により、硬化物のガラス転移温度を高くすることができ、更に硬化物と金属層との密着性をより一層高めることができる。フェノール硬化剤は、フェノール性水酸基を有する。フェノール硬化剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[Curing agent]
The resin composition according to the present invention contains a phenol curing agent (phenol compound). By using the phenol curing agent in combination with an epoxy resin and the first and second silica, when laminated on a member having holes or irregularities on the surface, the irregularity followability is high and the surface smoothness is enhanced. The sheet-like molded object which can be obtained can be obtained. Furthermore, by using a phenol curing agent, the glass transition temperature of the cured product can be increased, and the adhesion between the cured product and the metal layer can be further enhanced. The phenol curing agent has a phenolic hydroxyl group. Only one type of phenol curing agent may be used, or two or more types may be used in combination.

また、上記フェノール硬化剤としては、ノボラック型フェノール、ビフェノール型フェノール、ナフタレン型フェノール、ジシクロペンタジエン型フェノール、アラルキル型フェノール及びジシクロペンタジエン型フェノール等が挙げられる。   Examples of the phenol curing agent include novolak type phenol, biphenol type phenol, naphthalene type phenol, dicyclopentadiene type phenol, aralkyl type phenol and dicyclopentadiene type phenol.

上記フェノール硬化剤の市販品としては、アミノトリアジン骨格を有するフェノール化合物(DIC社製「LA1356」及び「LA3018−50P」)等が挙げられる。   Examples of commercially available phenol curing agents include phenolic compounds having an aminotriazine skeleton (“LA1356” and “LA3018-50P” manufactured by DIC).

樹脂組成物及び成形体の硬化性を高くし、粗化処理又は膨潤処理された硬化物の表面の表面粗さをより一層小さくする観点からは、上記フェノール化合物は、ノボラック型フェノール化合物又はトリアジン骨格を有するフェノール化合物であることが好ましい。   From the viewpoint of increasing the curability of the resin composition and the molded body and further reducing the surface roughness of the roughened or swollen cured product, the phenol compound is a novolak-type phenol compound or a triazine skeleton. It is preferable that it is a phenol compound which has this.

上記フェノール化合物は、下記式(1)で表されるフェノール硬化剤であることが好ましい。このフェノール硬化剤の使用により、凹凸追従性がより一層高く、かつ表面の平滑性をより一層高めることができるシート状の成形体を得ることができる。   The phenol compound is preferably a phenol curing agent represented by the following formula (1). By using this phenol curing agent, it is possible to obtain a sheet-like molded body that has higher unevenness followability and can further improve the surface smoothness.

Figure 2012062422
Figure 2012062422

上記式(1)中、m及びnはそれぞれ1以上の整数である。mは、好ましくは100以下、より好ましくは50以下である。mが上記上限以下であると、樹脂組成物の粘度が低下するために、凹凸追従性がより一層高くなる。汎用性の観点から、nは、好ましくは10以下、より好ましくは3以下である。   In the above formula (1), m and n are each an integer of 1 or more. m is preferably 100 or less, more preferably 50 or less. When m is less than or equal to the above upper limit, the viscosity of the resin composition is lowered, so that the unevenness followability is further enhanced. From the viewpoint of versatility, n is preferably 10 or less, more preferably 3 or less.

樹脂組成物の硬化性を高くし、粗化処理又は膨潤処理された硬化物の表面の表面粗さをより一層小さくする観点からは、上記フェノール化合物の水酸基当量は500以下、より好ましくは220以下である。硬化物のガラス転移温度をより一層高くする観点からは、上記フェノール化合物の水酸基当量は180以下であることがさらに好ましい。上記水酸基当量は、フェノール性水酸基当量を示す。   From the viewpoint of increasing the curability of the resin composition and further reducing the surface roughness of the surface of the roughened or swollen cured product, the hydroxyl equivalent of the phenol compound is 500 or less, more preferably 220 or less. It is. From the viewpoint of further increasing the glass transition temperature of the cured product, the hydroxyl equivalent of the phenol compound is more preferably 180 or less. The hydroxyl group equivalent represents a phenolic hydroxyl group equivalent.

エポキシ樹脂と硬化剤との配合比は特に限定されない。エポキシ樹脂と硬化剤との配合比は、エポキシ樹脂と硬化剤との種類により適宜決定される。   The compounding ratio of the epoxy resin and the curing agent is not particularly limited. The compounding ratio of the epoxy resin and the curing agent is appropriately determined depending on the types of the epoxy resin and the curing agent.

[硬化促進剤]
樹脂組成物及び成形体を均一に硬化させる観点からは、本発明に係る樹脂組成物は、硬化促進剤を含むことが好ましい。該硬化促進剤は特に限定されない。上記硬化促進剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[Curing accelerator]
From the viewpoint of uniformly curing the resin composition and the molded body, the resin composition according to the present invention preferably includes a curing accelerator. The curing accelerator is not particularly limited. As for the said hardening accelerator, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

樹脂組成物及び成形体をより一層均一に硬化させる観点からは、樹脂組成物は、上記硬化促進剤としてイミダゾール化合物を含むことが好ましく、上記硬化促進剤はイミダゾール化合物であることが好ましい。樹脂組成物は、上記硬化促進剤としてイミダゾール化合物を含むことが好ましく、上記硬化促進剤は、イミダゾール化合物であることが好ましい。   From the viewpoint of more uniformly curing the resin composition and the molded body, the resin composition preferably contains an imidazole compound as the curing accelerator, and the curing accelerator is preferably an imidazole compound. The resin composition preferably contains an imidazole compound as the curing accelerator, and the curing accelerator is preferably an imidazole compound.

上記イミダゾール化合物の具体例としては、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、及び2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。   Specific examples of the imidazole compound include 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1 -Benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1 -Cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ') -Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-undecylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4 '-Methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2- Examples include phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, and 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole.

上記フェノール硬化剤100重量部に対して、上記硬化促進剤の含有量は0.01〜2重量部の範囲内であることが好ましい。上記硬化促進剤の含有量が0.01重量部以上であると、樹脂組成物及び成形体をより一層均一に硬化させることができる。上記硬化促進剤の含有量が2重量部以下であると、保管時に樹脂組成物及び成形体の硬化が過度に進まず、樹脂組成物及び成形体の保存安定性を高めることができる。   The content of the curing accelerator is preferably in the range of 0.01 to 2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the phenol curing agent. A resin composition and a molded object can be hardened more uniformly as content of the said hardening accelerator is 0.01 weight part or more. When the content of the curing accelerator is 2 parts by weight or less, the resin composition and the molded body are not excessively cured during storage, and the storage stability of the resin composition and the molded body can be improved.

本発明に係る樹脂組成物は、上記イミダゾール化合物以外の他の硬化促進剤を含んでいてもよい。上記他の硬化促進剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The resin composition according to the present invention may contain a curing accelerator other than the imidazole compound. As for said other hardening accelerator, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

[充填剤]
本発明に係る樹脂組成物は、充填剤として、平均粒子径が0.1μm以上10μm以下の第1のシリカと、平均粒子径が1nm以上100nm未満の第2のシリカとを含む。
[filler]
The resin composition according to the present invention includes, as a filler, a first silica having an average particle size of 0.1 μm or more and 10 μm or less and a second silica having an average particle size of 1 nm or more and less than 100 nm.

平均粒子径が比較的大きい上記特定の第1のシリカと、平均粒子径が比較的小さい上記特定の第2のシリカとを組み合わせて、エポキシ樹脂とフェノール硬化剤とともに用いることにより、穴又は凹凸を表面に有する部材に積層された場合に、樹脂組成物の表面の平滑性を高めることができる。また、樹脂組成物及び成形体の穴埋め性又は凹凸追従性を高めることができる。例えば、ビアホールもしくはスルーホール等の穴を表面に有する部材、又は配線回路等により凹凸を表面に有する部材に樹脂組成物又は成形体が積層された場合に、穴又は凹部に樹脂組成物又は成形体を充分に埋め込ませることができる。   By combining the specific first silica having a relatively large average particle diameter with the specific second silica having a relatively small average particle diameter, and using the epoxy resin and a phenol curing agent, holes or irregularities can be formed. When laminated on a member on the surface, the surface smoothness of the resin composition can be improved. Moreover, the hole filling property or uneven | corrugated followable | trackability of a resin composition and a molded object can be improved. For example, when a resin composition or a molded body is laminated on a member having a hole such as a via hole or a through hole on the surface, or a member having an uneven surface on the surface by a wiring circuit or the like, the resin composition or the molded body is formed in the hole or the recess. Can be embedded sufficiently.

上記第1,第2のシリカの平均粒子径として、50%となるメディアン径(d50)の値が採用される。上記平均粒子径は、レーザー回折散乱方式の粒度分布測定装置を用いて測定できる。   A median diameter (d50) value of 50% is adopted as the average particle diameter of the first and second silicas. The average particle size can be measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus.

樹脂組成物における第1,第2のシリカの分散性を高めることによって、穴埋め性又は凹凸追従性をより一層高める観点からは、第1,第2のシリカはそれぞれ、カップリング剤により処理されていることが好ましい。上記カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤及びアルミニウムカップリング剤等が挙げられる。   From the viewpoint of further improving the hole filling property or unevenness followability by increasing the dispersibility of the first and second silica in the resin composition, each of the first and second silicas is treated with a coupling agent. Preferably it is. Examples of the coupling agent include silane coupling agents, titanate coupling agents, and aluminum coupling agents.

樹脂組成物における第1,第2のシリカの分散性をより一層高める観点からは、上記カップリング剤は、シランカップリング剤であることが好ましい。上記シランカップリング剤としては、エポキシシラン、フェニルシラン、アミノシラン、及びイミダゾールシラン等が挙げられる。樹脂組成物における第1,第2のシリカの分散性をさらに一層高める観点からは、上記第1,第2のシリカの内の少なくとも一方は、エポキシシランカップリング剤、ビニルシランカップリング剤又はアミノシランカップリング剤により処理されていることが好ましい。上記第1,第2のシリカの内の少なくとも一方は、エポキシシランカップリング剤により処理されていることが好ましく、ビニルシランカップリング剤により処理されていることも好ましく、更にアミノシランカップリング剤により処理されていることも好ましい。   From the viewpoint of further enhancing the dispersibility of the first and second silica in the resin composition, the coupling agent is preferably a silane coupling agent. Examples of the silane coupling agent include epoxy silane, phenyl silane, amino silane, and imidazole silane. From the viewpoint of further enhancing the dispersibility of the first and second silica in the resin composition, at least one of the first and second silicas is an epoxy silane coupling agent, a vinyl silane coupling agent, or an aminosilane cup. It is preferably treated with a ring agent. At least one of the first and second silicas is preferably treated with an epoxy silane coupling agent, preferably treated with a vinyl silane coupling agent, and further treated with an amino silane coupling agent. It is also preferable.

樹脂組成物における第1,第2のシリカの分散性をさらに一層高める観点からは、第1のシリカが、エポキシシランカップリング剤、ビニルシランカップリング剤又はアミノシランカップリング剤により処理されていることが好ましい。第1のシリカは、エポキシシランカップリング剤により処理されていることが好ましく、ビニルシランカップリング剤により処理されていることも好ましく、更にアミノシランカップリング剤により処理されていることも好ましい。   From the viewpoint of further enhancing the dispersibility of the first and second silica in the resin composition, the first silica is treated with an epoxy silane coupling agent, a vinyl silane coupling agent, or an amino silane coupling agent. preferable. The first silica is preferably treated with an epoxy silane coupling agent, preferably treated with a vinyl silane coupling agent, and further preferably treated with an amino silane coupling agent.

樹脂組成物における第1,第2のシリカの分散性をさらに一層高める観点からは、上記第1,第2のシリカがそれぞれ、エポキシシランカップリング剤、ビニルシランカップリング剤又はアミノシランカップリング剤により処理されていることが好ましい。上記第1,第2のシリカがそれぞれ、エポキシシランカップリング剤により処理されていることが好ましく、ビニルシランカップリング剤により処理されていることも好ましく、更にアミノシランカップリング剤により処理されていることも好ましい。   From the viewpoint of further enhancing the dispersibility of the first and second silica in the resin composition, the first and second silicas are each treated with an epoxy silane coupling agent, a vinyl silane coupling agent, or an amino silane coupling agent. It is preferable that Each of the first and second silicas is preferably treated with an epoxy silane coupling agent, preferably treated with a vinyl silane coupling agent, and further treated with an amino silane coupling agent. preferable.

上記エポキシシランカップリング剤は、エポキシ基を有するシランカップリング剤であり、例えば、エポキシシランである。上記ビニルシランカップリング剤は、ビニル基を有するシランカップリング剤であり、例えば、ビニルシランである。上記アミノシランカップリング剤は、アミノ基を有するシランカップリング剤であり、例えば、アミノシランである。   The said epoxy silane coupling agent is a silane coupling agent which has an epoxy group, for example, is an epoxy silane. The vinyl silane coupling agent is a silane coupling agent having a vinyl group, for example, vinyl silane. The aminosilane coupling agent is a silane coupling agent having an amino group, for example, aminosilane.

樹脂組成物又は成形体の表面の平滑性、並びに穴埋め性又は凹凸追従性をより一層高める観点からは、樹脂組成物100重量%(樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、第1,第2のシリカの合計の含有量は25〜80重量%の範囲内であることが好ましい。樹脂組成物100重量%(樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、第1,第2のシリカの合計の含有量のより好ましい下限は35重量%、更に好ましい下限は45重量%、より好ましい上限は75重量%、更に好ましい上限は65重量%である。上記「樹脂組成物100重量%(樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)」は、樹脂組成物が溶剤を含まない場合には、樹脂組成物100重量%を示し、樹脂組成物が溶剤を含む場合には、樹脂組成物中の溶剤を除く成分の合計100重量%を示す。   From the viewpoint of further improving the smoothness of the surface of the resin composition or the molded body, as well as hole filling or unevenness followability, in 100% by weight of the resin composition (excluding the solvent when the resin composition contains a solvent), The total content of the first and second silica is preferably in the range of 25 to 80% by weight. In 100% by weight of the resin composition (excluding the solvent when the resin composition contains a solvent), the more preferable lower limit of the total content of the first and second silicas is 35% by weight, and the more preferable lower limit is 45%. %, A more preferred upper limit is 75% by weight, and a still more preferred upper limit is 65% by weight. The above “100 wt% resin composition (excluding the solvent when the resin composition contains a solvent)” means 100 wt% resin composition when the resin composition does not contain a solvent. When the solvent contains a solvent, it represents 100% by weight in total of the components excluding the solvent in the resin composition.

(他の成分)
本発明に係る樹脂組成物は重量平均分子量が5000以上である高分子量成分を含むことが好ましい。該高分子量成分の使用により、硬化後の硬化物の表面を粗化処理したときに、粗化処理された表面の表面粗さを小さくすることができ、かつ硬化物と金属層との接着強度を高くすることができる。さらに、上記高分子量成分によって、Bステージフィルム又は硬化物層の厚さを均一にすることができる。上記高分子量成分は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Other ingredients)
The resin composition according to the present invention preferably contains a high molecular weight component having a weight average molecular weight of 5000 or more. By using the high molecular weight component, when the surface of the cured product after the curing is roughened, the surface roughness of the roughened surface can be reduced, and the adhesive strength between the cured product and the metal layer is reduced. Can be high. Furthermore, the thickness of the B stage film or the cured product layer can be made uniform by the high molecular weight component. As for the said high molecular weight component, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記高分子量成分としては、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ゴム成分及び有機フィラー等が挙げられる。   Examples of the high molecular weight component include phenoxy resin, polyvinyl acetal resin, rubber component, and organic filler.

上記高分子量成分は、ポリビニルアセタール樹脂及びフェノキシ樹脂の内の少なくとも1種を含むことが好ましく、ポリビニルアセタール樹脂及びフェノキシ樹脂の内の少なくとも1種であることがより好ましい。ポリビニルアセタール樹脂又はフェノキシ樹脂の使用により、Bステージフィルム又は硬化物層の厚さをより一層均一にすることができる。本発明に係る樹脂組成物がフェノキシ樹脂を含む場合には、該フェノキシ樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。上記フェノキシ樹脂として従来公知のフェノキシ樹脂を使用できる。   The high molecular weight component preferably includes at least one of a polyvinyl acetal resin and a phenoxy resin, and more preferably at least one of a polyvinyl acetal resin and a phenoxy resin. By using the polyvinyl acetal resin or the phenoxy resin, the thickness of the B stage film or the cured product layer can be made more uniform. When the resin composition according to the present invention includes a phenoxy resin, only one kind of the phenoxy resin may be used, or two or more kinds may be used in combination. A conventionally known phenoxy resin can be used as the phenoxy resin.

上記フェノキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールS型骨格、ビスフェノールA型骨格、ビスフェノールF型骨格、フェノール骨格、ビフェノール骨格又はナフタレン骨格などの骨格を有するフェノキシ樹脂等が挙げられる。上記フェノキシ樹脂の重量平均分子量は好ましくは5000以上であり、好ましくは300000以下である。   Examples of the phenoxy resin include phenoxy resins having a skeleton such as a bisphenol S skeleton, a bisphenol A skeleton, a bisphenol F skeleton, a phenol skeleton, a biphenol skeleton, or a naphthalene skeleton. The weight average molecular weight of the phenoxy resin is preferably 5000 or more, and preferably 300,000 or less.

上記フェノキシ樹脂の市販品としては、東都化成社製の「YP50」、「YP55」及び「YP70」、並びにジャパンエポキシレジン社製の「1256B40」、「4250」、「4256H40」、「4275」、「YX6954BH30」及び「YX8100BH3」等が挙げられる。   Commercially available products of the above phenoxy resins include “YP50”, “YP55” and “YP70” manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., and “1256B40”, “4250”, “4256H40”, “4275”, “4275” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. YX6954BH30 "and" YX8100BH3 ".

本発明に係る樹脂組成物がポリビニルアセタール樹脂を含む場合には、該ポリビニルアセタール樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。上記ポリビニルアセタール樹脂として従来公知のポリビニルアセタール樹脂を使用できる。上記ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。   When the resin composition according to the present invention includes a polyvinyl acetal resin, only one kind of the polyvinyl acetal resin may be used, or two or more kinds may be used in combination. A conventionally known polyvinyl acetal resin can be used as the polyvinyl acetal resin. The polyvinyl acetal resin is preferably a polyvinyl butyral resin.

上記ポリビニルアセタール樹脂の市販品としては、エスレックBLシリーズ、エスレックBXシリーズ、エスレックBMシリーズ、エスレックBHシリーズ及びエスレックKSシリーズ(以上いずれも積水化学工業社製)等が挙げられる。   As a commercial item of the said polyvinyl acetal resin, the ESREC BL series, the ESREC BX series, the ESREC BM series, the ESREC BH series, the ESREC KS series (all are made by Sekisui Chemical Co., Ltd.), etc. are mentioned.

本発明に係る樹脂組成物がゴム成分を含む場合には、該ゴム成分は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。上記ゴム成分として、従来公知のゴム成分を用いることができる。上記ゴム成分としては、アクリルゴム、ニトリルゴム、イソプレンゴム、ウレタンゴム、クロロプレンゴム、シリコーンゴム及びスチレン−ブタジエンゴム等が挙げられる。   When the resin composition according to the present invention includes a rubber component, only one rubber component may be used, or two or more rubber components may be used in combination. As the rubber component, a conventionally known rubber component can be used. Examples of the rubber component include acrylic rubber, nitrile rubber, isoprene rubber, urethane rubber, chloroprene rubber, silicone rubber, and styrene-butadiene rubber.

上記ゴム成分の市販品としては、タフテックHシリーズ、タフテックMシリーズ及びタフテックPシリーズ(以上いずれも旭化成社製)等が挙げられる。   Examples of commercially available rubber components include Tuftec H series, Tuftec M series, and Tuftec P series (all of which are manufactured by Asahi Kasei Corporation).

上記高分子量成分の重量平均分子量は、好ましくは5000以上、より好ましくは10000以上である。上記高分子量成分の重量平均分子量の上限は特に限定されない。上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定されたポリスチレン換算での値である。   The weight average molecular weight of the high molecular weight component is preferably 5000 or more, more preferably 10,000 or more. The upper limit of the weight average molecular weight of the high molecular weight component is not particularly limited. The weight average molecular weight is a value in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).

上記樹脂組成物100重量%(樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、上記高分子量成分の含有量は好ましくは0.4重量%以上、より好ましくは0.7重量%以上、好ましくは5重量%以下、より好ましくは2.5重量%以下である。上記高分子量成分の含有量が上記下限値以上であると、成形体及び硬化物の厚さをより一層均一にすることができる。例えば、樹脂組成物のキャスト時の製膜性を高めることができる。上記高分子量成分の含有量が上記上限値以下であると、硬化物の熱線膨張係数を低くすることができ、硬化物の歪み量を小さくすることができる。さらに、上記高分子量成分の含有量が上記上限値以下であると、粗化処理により硬化物の表面に微細な凹凸を形成でき、かつ硬化物と金属層との接着強度をより一層高めることができる。なお、上記高分子量成分は、成形体及び硬化物の厚さの均一性に大きく影響する成分である。また、上記高分子量成分の含有量が多いほど、硬化物と金属層との接着強度が低くなる傾向がある。   In 100% by weight of the resin composition (excluding the solvent when the resin composition contains a solvent), the content of the high molecular weight component is preferably 0.4% by weight or more, more preferably 0.7% by weight or more. , Preferably 5% by weight or less, more preferably 2.5% by weight or less. When the content of the high molecular weight component is not less than the lower limit, the thicknesses of the molded product and the cured product can be made more uniform. For example, the film forming property at the time of casting of a resin composition can be improved. When the content of the high molecular weight component is not more than the above upper limit value, the coefficient of thermal expansion of the cured product can be lowered, and the strain amount of the cured product can be reduced. Furthermore, when the content of the high molecular weight component is not more than the above upper limit value, fine irregularities can be formed on the surface of the cured product by the roughening treatment, and the adhesive strength between the cured product and the metal layer can be further increased. it can. In addition, the said high molecular weight component is a component which influences greatly the uniformity of the thickness of a molded object and hardened | cured material. Moreover, there exists a tendency for the adhesive strength of hardened | cured material and a metal layer to become low, so that there is much content of the said high molecular weight component.

耐衝撃性、耐熱性、樹脂の相溶性及び作業性等の改善を目的として、樹脂組成物には、着色剤、酸化防止剤、紫外線劣化防止剤、消泡剤、増粘剤、揺変性付与剤及び上記エポキシ樹脂及び高分子量成分以外の他の樹脂等を添加してもよい。   For the purpose of improving impact resistance, heat resistance, resin compatibility, workability, etc., the resin composition is provided with a colorant, an antioxidant, an ultraviolet degradation inhibitor, an antifoaming agent, a thickener, and thixotropic properties. You may add other resin other than an agent, the said epoxy resin, and a high molecular weight component.

上記他の樹脂としては、ポリフェニレンエーテル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ジビニルベンジルエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、ベンゾオキサゾール樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネート樹脂及びアクリレート樹脂等が挙げられる。   Other resins include polyphenylene ether resin, phenoxy resin, polyacetal resin, divinyl benzyl ether resin, polyarylate resin, diallyl phthalate resin, polyimide resin, benzoxazine resin, benzoxazole resin, bismaleimide resin, cyanate resin and acrylate resin. Etc.

本発明に係る樹脂組成物は、溶剤を含んでいてもよい。上記溶剤としては、アセトン、メタノール、エタノール、ブタノール、2−プロパノール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、2−アセトキシ−1−メトキシプロパン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、メチルイソブチルケトン、N−メチル−ピロリドン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン及び混合物であるナフサ等が挙げられる。上記溶剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The resin composition according to the present invention may contain a solvent. Examples of the solvent include acetone, methanol, ethanol, butanol, 2-propanol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 1-methoxy-2-propanol, 2-acetoxy-1-methoxypropane, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, Examples thereof include N, N-dimethylformamide, methyl isobutyl ketone, N-methyl-pyrrolidone, n-hexane, cyclohexane, cyclohexanone, and naphtha as a mixture. As for the said solvent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

溶剤を含む樹脂組成物はワニスとして用いることができる。用途に応じて溶剤の含有量を調整することにより、ワニスの粘度を調整できる。上記樹脂組成物の固形分100重量部に対して、上記溶剤の含有量は、10〜1000重量部の範囲内であることが好ましい。   The resin composition containing a solvent can be used as a varnish. The viscosity of the varnish can be adjusted by adjusting the solvent content according to the application. The content of the solvent is preferably in the range of 10 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the resin composition.

(成形体)
本発明に係る樹脂組成物をシート状に成形することにより、成形体を得ることができる。
(Molded body)
A molded body can be obtained by molding the resin composition according to the present invention into a sheet shape.

上記樹脂組成物をシート状に成形する方法は、特に限定されない。この方法としては、例えば、押出機を用いて、上記樹脂組成物を溶融混練し、押出した後、Tダイ又はサーキュラーダイ等により、シート状に成形する押出成形法、溶剤を含む樹脂組成物をキャスティングしてシート状に成形するキャスティング成形法、又は従来公知のその他のシート成形法等が挙げられる。なかでも、薄型化を進めることができるので、押出成形法又はキャスティング成形法が好ましい。   The method for forming the resin composition into a sheet is not particularly limited. As this method, for example, using an extruder, the above resin composition is melt-kneaded, extruded, and then molded into a sheet shape with a T die or a circular die, or a resin composition containing a solvent. Examples thereof include a casting molding method in which a casting is performed to form a sheet, or other conventionally known sheet molding methods. Of these, the extrusion molding method or the casting molding method is preferable because the thickness can be reduced.

成形体の取扱い性を高めたり、適度な厚みの硬化物層を形成したりする観点からは、成形体の厚みは5〜100μmの範囲内であることが好ましい。   From the viewpoint of enhancing the handleability of the molded body or forming a cured product layer having an appropriate thickness, the thickness of the molded body is preferably in the range of 5 to 100 μm.

(樹脂組成物及び成形体の硬化物)
金属層が形成される硬化物の表面に微細な凹凸を形成するために、上記樹脂組成物又は上記成形体を予備硬化させ、半硬化した硬化物を得てもよい。適度に予備硬化させるためには、上記樹脂組成物又は上記成形体を130〜190℃で30分以上加熱し、硬化させることが好ましい。
(Hardened product of resin composition and molded body)
In order to form fine irregularities on the surface of the cured product on which the metal layer is formed, the resin composition or the molded body may be pre-cured to obtain a semi-cured cured product. In order to pre-cure appropriately, it is preferable to cure the resin composition or the molded body by heating at 130 to 190 ° C. for 30 minutes or more.

予備硬化温度が130℃よりも低いと、樹脂組成物及び成形体が充分に硬化されないため、粗化処理後の硬化物の表面の凹凸が大きくなる。予備硬化温度が190℃よりも高いと、樹脂組成物及び成形体の硬化反応が急速に進行しやすい。このため、硬化度が部分的に異なりやすく、粗い部分と密な部分とが形成されやすい。その結果、粗化処理後の硬化物の表面の凹凸が大きくなる。予備硬化時間が30分よりも短いと、樹脂組成物及び成形体が充分に硬化されないため、粗化処理後の硬化物の表面の凹凸が大きくなる。生産性を高めることができるので、予備硬化時間は、1時間以下であることが好ましい。   When the pre-curing temperature is lower than 130 ° C., the resin composition and the molded body are not sufficiently cured, so that the unevenness of the surface of the cured product after the roughening treatment becomes large. When the preliminary curing temperature is higher than 190 ° C., the curing reaction of the resin composition and the molded body tends to proceed rapidly. For this reason, the degree of curing tends to be partially different, and a rough portion and a dense portion are likely to be formed. As a result, the unevenness of the surface of the cured product after the roughening treatment is increased. When the pre-curing time is shorter than 30 minutes, the resin composition and the molded body are not sufficiently cured, so that the unevenness of the surface of the cured product after the roughening treatment becomes large. Since productivity can be improved, it is preferable that pre-curing time is 1 hour or less.

得られた硬化物の表面に微細な凹凸を形成するために、硬化物が粗化処理される。該粗化処理される前に、硬化物が膨潤処理されることが好ましい。ただし、硬化物は、必ずしも膨潤処理されなくてもよい。   In order to form fine irregularities on the surface of the obtained cured product, the cured product is roughened. It is preferable that the cured product is subjected to a swelling treatment before the roughening treatment. However, the cured product is not necessarily subjected to the swelling treatment.

上記膨潤処理方法としては、例えば、エチレングリコールなどを主成分とする化合物の水溶液又は有機溶媒分散溶液などにより、硬化物を処理する方法が用いられる。具体的には、上記膨潤処理は、40重量%エチレングリコール水溶液等を用いて、処理温度30〜85℃で1〜20分間、硬化物を処理することにより行なわれる。   As the swelling treatment method, for example, a method of treating a cured product with an aqueous solution or an organic solvent dispersion solution of a compound mainly composed of ethylene glycol or the like is used. Specifically, the swelling treatment is carried out by treating the cured product with a 40 wt% ethylene glycol aqueous solution or the like at a treatment temperature of 30 to 85 ° C. for 1 to 20 minutes.

上記粗化処理には、例えば、マンガン化合物、クロム化合物又は過硫酸化合物などの化学酸化剤等が用いられる。これらの化学酸化剤は、水又は有機溶剤が添加された後、水溶液又は有機溶媒分散溶液として用いられる。   For the roughening treatment, for example, a chemical oxidizing agent such as a manganese compound, a chromium compound, or a persulfuric acid compound is used. These chemical oxidizers are used as an aqueous solution or an organic solvent dispersion after water or an organic solvent is added.

上記マンガン化合物としては、過マンガン酸カリウム又は過マンガン酸ナトリウム等が挙げられる。上記クロム化合物としては、重クロム酸カリウム又は無水クロム酸カリウム等が挙げられる。上記過硫酸化合物としては、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム又は過硫酸アンモニウム等が挙げられる。   Examples of the manganese compound include potassium permanganate and sodium permanganate. Examples of the chromium compound include potassium dichromate and anhydrous potassium chromate. Examples of the persulfate compound include sodium persulfate, potassium persulfate, and ammonium persulfate.

上記粗化処理方法は特に限定されない。上記粗化処理方法として、例えば、30〜90g/L過マンガン酸又は過マンガン酸塩溶液及び30〜90g/L水酸化ナトリウム溶液を用いて、処理温度30〜85℃及び1〜10分間の条件で、1回又は2回、硬化物を処理する方法が好適である。粗化処理の回数が多いと粗化効果も大きい。しかしながら、粗化処理の回数が3回を超えると、粗化効果が飽和することがあり、又は硬化物の表面の樹脂成分が必要以上に削られて、硬化物の表面にシリカ成分が脱離した形状の孔が形成されにくくなる。   The roughening treatment method is not particularly limited. As the roughening treatment method, for example, using a 30 to 90 g / L permanganate or permanganate solution and a 30 to 90 g / L sodium hydroxide solution, a treatment temperature of 30 to 85 ° C. and a condition of 1 to 10 minutes And the method of processing hardened | cured material once or twice is suitable. When the number of roughening treatments is large, the roughening effect is large. However, if the number of times of roughening treatment exceeds 3, the roughening effect may be saturated, or the resin component on the surface of the cured product is scraped more than necessary, and the silica component is detached from the surface of the cured product. It becomes difficult to form holes having the shape.

(樹脂組成物及び成形体の用途)
本発明に係る樹脂組成物及び成形体の用途は、特に限定されない。上記樹脂組成物は、例えば、多層基板のコア層又はビルドアップ層等を形成する基板用材料、接着シート、積層板、樹脂付き銅箔、銅張積層板、TAB用テープ、プリント基板、プリプレグ又はワニス等に好適に用いられる。
(Use of resin composition and molded body)
Applications of the resin composition and the molded body according to the present invention are not particularly limited. The resin composition is, for example, a substrate material for forming a core layer or a buildup layer of a multilayer substrate, an adhesive sheet, a laminate, a copper foil with resin, a copper clad laminate, a TAB tape, a printed board, a prepreg, or It is suitably used for varnishes and the like.

本発明に係る樹脂組成物及び成形体は、例えば、多層プリント基板、部品内蔵型プリント基板などにおいて、凹凸パターン、スルーホール又はビアホールを表面に有する基板用材料に加熱及び加圧して塗布又はラミネートするために用いることができる。   The resin composition and the molded body according to the present invention are applied or laminated by heating and pressing a substrate material having a concavo-convex pattern, a through hole or a via hole on a surface thereof, for example, in a multilayer printed board or a component built-in printed board. Can be used for

以下、実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by giving examples and comparative examples. The present invention is not limited to the following examples.

実施例及び比較例では、以下に示す材料を用いた。   In the examples and comparative examples, the following materials were used.

(エポキシ樹脂)
エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、三菱化学社製「jER154」)
エポキシ樹脂(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、日本化薬社製「RE−410S」)
(Epoxy resin)
Epoxy resin (phenol novolac type epoxy resin, “jER154” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
Epoxy resin (bisphenol A type epoxy resin, “RE-410S” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

(硬化剤)
フェノール硬化剤(明和化成社製「MEH7800」、上記式(1)で表されるフェノール硬化剤に相当する)
フェノール硬化剤(明和化成社製「MEH7851−H」)
(Curing agent)
Phenol curing agent (Maywa Kasei “MEH7800”, corresponding to the phenol curing agent represented by the above formula (1))
Phenol curing agent (“MEH7851-H” manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.)

(硬化促進剤)
イミダゾール化合物(2−フェニル−4−メチルイミダゾール、四国化成社製「2P4MZ」)
(Curing accelerator)
Imidazole compound (2-phenyl-4-methylimidazole, “2P4MZ” manufactured by Shikoku Chemicals)

(高分子量成分)
高分子量成分(変性ビフェノール骨格含有フェノキシ樹脂溶液、ジャパンエポキシレジン社製、商品名「YX6954BH30」、固形分30重量%、溶剤はMEK(メチルエチルケトン)とシクロヘキサノンとの混合溶剤)
(High molecular weight component)
High molecular weight component (modified biphenol skeleton-containing phenoxy resin solution, manufactured by Japan Epoxy Resin, trade name “YX6954BH30”, solid content 30% by weight, solvent is a mixed solvent of MEK (methyl ethyl ketone) and cyclohexanone)

(シリカ成分)
第1のシリカ含有スラリーA(エポキシシラン処理):
第1のシリカ(シリカ(アドマテックス社製「SO−C2」、平均粒子径0.5μm)が、エポキシシラン(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業社製「KBM−403」)により、シリカ100重量%に対してエポキシシラン1.5重量部で表面処理されたもの)を含む第1のシリカ含有スラリー
第1のシリカ含有スラリーB(ビニルシラン処理):
第1のシリカ(シリカ(アドマテックス社製「SO−C2」、平均粒子径0.5μm)が、ビニルシラン(ビニルトリメトキシシラン、信越化学工業社製「KBM−1003」)により、シリカ100重量%に対してビニルシラン1.5重量部で表面処理されたもの)を含む第1のシリカ含有スラリー
第1のシリカ含有スラリーC(アミノシラン処理):
第1のシリカ(シリカ(アドマテックス社製「SO−C2」、平均粒子径0.5μm)が、アミノシラン(N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業社製「KBM−573」)により、シリカ100重量%に対してアミノシラン1.5重量部で表面処理されたもの)を含む第1のシリカ含有スラリー
第1のシリカ含有スラリーD(未処理):
第1のシリカ(シリカ(アドマテックス社製「SO−C2」、平均粒子径0.5μm)を含む第1のシリカ含有スラリー
第2のシリカ含有スラリーP(エポキシシラン処理):
第2のシリカ(シリカ(アドマテックス社製「アドマナノ」、平均粒子径10nm)が、エポキシシラン(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業社製「KBM−403」)により、シリカ100重量%に対してエポキシシラン1.5重量部で表面処理されたもの)を含む第2のシリカ含有スラリー
第2のシリカ含有スラリーQ(ビニルシラン処理):
第2のシリカ(シリカ(アドマテックス社製「アドマナノ」、平均粒子径10nm)が、ビニルシラン(ビニルトリメトキシシラン、信越化学工業社製「KBM−1003」)により、シリカ100重量%に対してビニルシラン1.5重量部で表面処理されたもの)を含む第2のシリカ含有スラリー
第2のシリカ含有スラリーR(アミノシラン処理):
第2のシリカ(シリカ(アドマテックス社製「アドマナノ」、平均粒子径10nm)が、アミノシラン(N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業社製「KBM−573」)により、シリカ100重量%に対してアミノシラン1.5重量部で表面処理されたもの)を含む第2のシリカ含有スラリー
第2のシリカ含有スラリーS(未処理):
第2のシリカ(シリカ(アドマテックス社製「アドマナノ」、平均粒子径10nm)を含む第2のシリカ含有スラリー
(Silica component)
First silica-containing slurry A (epoxysilane treatment):
First silica (Silica (“SO-C2” manufactured by Admatechs, average particle size 0.5 μm) is epoxy silane (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, “KBM-403” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)) The first silica-containing slurry B (vinyl silane treatment) containing the first silica-containing slurry B) (surface-treated with 1.5 parts by weight of epoxysilane with respect to 100% by weight of silica):
The first silica (silica (“SO-C2” manufactured by Admatechs Co., Ltd., average particle diameter of 0.5 μm) is converted into 100% by weight of silica by vinylsilane (vinyltrimethoxysilane, “KBM-1003” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). First silica-containing slurry containing 1.5 parts by weight of vinyl silane with respect to the first silica-containing slurry C (aminosilane treatment):
The first silica (silica (“SO-C2” manufactured by Admatechs, average particle size 0.5 μm) is aminosilane (N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, “KBM-573” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). ), The first silica-containing slurry D (untreated) containing 100% by weight of silica and surface-treated with 1.5 parts by weight of aminosilane):
First silica-containing slurry containing silica (silica (“Ad-Tex” “SO-C2”, average particle size 0.5 μm)) Second silica-containing slurry P (epoxysilane treatment):
The second silica (silica (“Admanano” manufactured by Admatechs Co., Ltd., average particle diameter 10 nm) is changed to silica 100 by epoxysilane (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, “KBM-403” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Second silica-containing slurry containing 1.5% by weight of epoxysilane with respect to% by weight) Second silica-containing slurry Q (vinylsilane treatment):
The second silica (silica (“Admanano” manufactured by Admatechs Co., Ltd., average particle size 10 nm) is vinylsilane based on 100% by weight of silica by vinylsilane (vinyltrimethoxysilane, “KBM-1003” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)). Second silica-containing slurry containing 1.5 parts by weight of the surface-treated slurry. Second silica-containing slurry R (aminosilane treatment):
The second silica (silica (“Admanano” manufactured by Admatechs Co., Ltd., average particle diameter 10 nm) is converted into silica by aminosilane (N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, “KBM-573” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)). Second silica-containing slurry containing 100% by weight of a surface-treated silica with 1.5 parts by weight of aminosilane. Second silica-containing slurry S (untreated):
Second silica-containing slurry containing second silica (silica (“Admanano” manufactured by Admatechs, average particle size 10 nm))

(溶剤)
メチルエチルケトン(三協化学社製)
(solvent)
Methyl ethyl ketone (manufactured by Sankyo Chemical Co., Ltd.)

(実施例1)
メチルエチルケトン50重量部に、エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ジャパンエポキシレジン社製「jER154」)25.00重量部と、変性ビフェノール骨格含有フェノキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名「YX6954BH30」を固形分で4.5重量部と、第1のシリカ含有スラリーAを固形分で47.50重量部と、第2のシリカ含有スラリーPを固形分で2.50重量部とを加え、撹拌機を用いて1200rpmで1時間撹拌した。
Example 1
To 50 parts by weight of methyl ethyl ketone, 25.00 parts by weight of an epoxy resin (phenol novolac-type epoxy resin, “jER154” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and a modified biphenol skeleton-containing phenoxy resin (trade name “YX6954BH30” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) Add 4.5 parts by weight of solid, 47.50 parts by weight of first silica-containing slurry A and 2.50 parts by weight of second silica-containing slurry P, and add stirrer For 1 hour at 1200 rpm.

次に、フェノール硬化剤(明和化成社製「MEH7800」)20.00重量部をさらに加え、撹拌機を用いて1200rpmで90分間撹拌した。   Next, 20.00 parts by weight of a phenol curing agent (“MEH7800” manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) was further added, and the mixture was stirred at 1200 rpm for 90 minutes using a stirrer.

その後、イミダゾール化合物(2−フェニル−4−メチルイミダゾール、四国化成社製「2P4MZ」)0.50重量部をさらに加え、撹拌機を用いて1200rpmで10分間撹拌し、樹脂組成物を得た。   Thereafter, 0.50 part by weight of an imidazole compound (2-phenyl-4-methylimidazole, “2P4MZ” manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.) was further added, followed by stirring at 1200 rpm for 10 minutes using a stirrer to obtain a resin composition.

塗工機を用いて、ポリエチレンテレフタレート製フィルム上に樹脂組成物を塗工した。100℃のギアオーブン内で3分間乾燥し、溶剤を揮発させた。このようにして、PETフィルム上に厚さ50μmのシート状の成形体を得た。   The resin composition was coated on a polyethylene terephthalate film using a coating machine. The solvent was volatilized by drying in a gear oven at 100 ° C. for 3 minutes. In this manner, a sheet-like molded body having a thickness of 50 μm was obtained on the PET film.

(実施例2〜13及び比較例1〜5)
使用した材料の種類及び配合量を下記の表1に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、樹脂組成物及び成形体を得た。
(Examples 2 to 13 and Comparative Examples 1 to 5)
A resin composition and a molded body were obtained in the same manner as in Example 1 except that the type and blending amount of the materials used were changed as shown in Table 1 below.

(評価)
(1)埋め込み性1
銅張り積層板(厚さ150μmのガラスエポキシ基板と厚さ25μmの銅箔との積層体)に、直径150μm及び深さ50μmの25個の穴を、直線上にかつ隣接する穴の中心の間隔が500μmになるように開けて、穴開き基板を得た。
(Evaluation)
(1) Embeddability 1
A copper-clad laminate (a laminate of a glass epoxy substrate having a thickness of 150 μm and a copper foil having a thickness of 25 μm) is provided with 25 holes having a diameter of 150 μm and a depth of 50 μm on a straight line and the distance between the centers of adjacent holes. Was made to be 500 μm to obtain a perforated substrate.

実施例及び比較例で得られた成形体(厚さ50μm)と穴開き基板とを重ねて、名機製作所製真空加圧式ラミネーター機(型番MVLP−500)を用い、ラミネート圧0.4MPaで20秒、プレス圧力0.8MPaで20秒、ラミネート及びプレスの温度90℃で加熱加圧した。常温で冷却した後、ポリエチレンテレフタレート製フィルムを剥離した。このようにして、穴開き基板上に成形体が積層されている積層体を得た。   The molded bodies (thickness 50 μm) obtained in the examples and comparative examples were stacked with a perforated substrate, and a vacuum pressurization laminator machine (model number MVLP-500) manufactured by Meiki Seisakusho was used. Second, pressurization was performed at a press pressure of 0.8 MPa for 20 seconds, and a laminating and pressing temperature of 90 ° C. After cooling at room temperature, the polyethylene terephthalate film was peeled off. Thus, the laminated body by which the molded object was laminated | stacked on the perforated board | substrate was obtained.

得られた積層体において、穴開き基板の穴がない部分に対応する成形体部分を標準として、穴開き基板の穴がある部分に対応する成形体部分の上面の凹みの程度を測定した。なお、凹凸の計測は、表面粗さ計(商品名「SJ−301」、ミツトヨ社製)により行った。   In the obtained laminate, the degree of dents on the upper surface of the molded body portion corresponding to the holed portion of the perforated substrate was measured using the molded body portion corresponding to the holeless substrate as a standard. The unevenness was measured with a surface roughness meter (trade name “SJ-301”, manufactured by Mitutoyo Corporation).

穴開き基板の穴がある部分に対応する成形体部分25箇所中、凹みが無い箇所と、凹みがあるものの、穴の中心線上の凹みの深さが1μm以内である箇所との合計数T1を数えて、埋め込み性1を下記の判定基準で判定した。合計数T1が多いほど、穴に対する埋め込み性が優れていることを示す。   Of the 25 parts of the molded body corresponding to the holed portion of the perforated substrate, the total number T1 of the places where there is no dent and the places where there is a dent but the depth of the dent on the center line of the hole is within 1 μm The embedding property 1 was determined according to the following criteria. The larger the total number T1, the better the embedding in the hole.

[埋め込み性1の判定基準]
A:合計数T1が25
B:合計数T1が23〜24
C:合計数T1が20〜22
D:合計数T1が0〜19
[Criteria for Embedding 1]
A: Total number T1 is 25
B: Total number T1 is 23-24
C: Total number T1 is 20-22
D: Total number T1 is 0 to 19

(2)埋め込み性2
銅張り積層板(厚さ150μmのガラスエポキシ基板と厚さ25μmの銅箔との積層体)を用意した。銅箔をエッチング処理し、L/Sが50μm/50μm及び長さが1cmである銅パターンを26本作製し、凹凸基板を得た。
(2) Embeddability 2
A copper-clad laminate (a laminate of a 150 μm thick glass epoxy substrate and a 25 μm thick copper foil) was prepared. The copper foil was etched to produce 26 copper patterns having an L / S of 50 μm / 50 μm and a length of 1 cm to obtain an uneven substrate.

実施例及び比較例で得られた成形体(厚さ50μm)と凹凸基板とを重ねて、名機製作所製真空加圧式ラミネーター機(型番MVLP−500)を用い、ラミネート圧0.4MPaで20秒、プレス圧力0.8MPaで20秒、ラミネート及びプレスの温度90℃で加熱加圧した。常温で冷却した後、ポリエチレンテレフタレート製フィルムを剥離した。このようにして、凹凸基板上に成形体が積層されている積層体を得た。   The molded bodies (thickness: 50 μm) obtained in the examples and comparative examples were stacked with the concavo-convex substrate, and a vacuum pressurization laminator machine (model number MVLP-500) manufactured by Meiki Seisakusho was used for 20 seconds at a laminating pressure of 0.4 MPa. The laminate was heated and pressed at a pressing pressure of 0.8 MPa for 20 seconds and at a laminating and pressing temperature of 90 ° C. After cooling at room temperature, the polyethylene terephthalate film was peeled off. Thus, the laminated body by which the molded object was laminated | stacked on the uneven substrate was obtained.

得られた積層体において、凹凸基板の銅パターンがある部分に対応する成形体部分を標準として、凹凸基板の銅パターン間の銅パターンがない部分に対応する成形体部分の上面の凹みの程度を測定した。なお、凹凸の計測は、表面粗さ計(商品名「SJ−301」、ミツトヨ社製)により行った。   In the obtained laminate, the degree of the depression on the upper surface of the molded part corresponding to the part where there is no copper pattern between the copper patterns of the concave and convex board, with the molded part corresponding to the part with the copper pattern of the concave and convex board as a standard. It was measured. The unevenness was measured with a surface roughness meter (trade name “SJ-301”, manufactured by Mitutoyo Corporation).

凹凸基板の銅パターンがない部分に対応する成形体部分25箇所中、凹みが無い箇所と、凹みがあるものの、銅パターン間の中央線上の凹みの深さが1μm以内である箇所との合計数T2を数えて、埋め込み性2を下記の判定基準で判定した。合計数T2が多いほど、凹凸に対する埋め込み性が優れていることを示す。   The total number of places where there are no dents and 25 places where the depth of the dent on the center line between the copper patterns is within 1 μm among the 25 parts of the molded body corresponding to the part where there is no copper pattern on the uneven substrate T2 was counted, and embedding property 2 was determined according to the following criteria. The larger the total number T2, the better the embedding with respect to the unevenness.

[埋め込み性2の判定基準]
A:合計数T2が25
B:合計数T2が23〜24
C:合計数T2が20〜22
D:合計数T2が0〜19
[Evaluation criteria for embedding 2]
A: Total number T2 is 25
B: Total number T2 is 23-24
C: Total number T2 is 20-22
D: Total number T2 is 0 to 19

(3)保存安定性
粘弾性測定装置(ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン社製「AR2000ex」)を用いて、得られた直後の成形体の80℃における粘度η*を測定した。
(3) Storage stability Using a viscoelasticity measuring apparatus ("AR2000ex" manufactured by TA Instruments Japan Co., Ltd.), the viscosity η * at 80 ° C of the molded article immediately after it was obtained was measured.

次に、成形体を24℃で3日間放置した。放置後の成形体の80℃における粘度η*を測定した。   Next, the molded body was left at 24 ° C. for 3 days. The viscosity η * at 80 ° C. of the molded product after standing was measured.

得られた粘度η*の測定値から、保存安定性を下記の判定基準で判定した。   From the measured value of the obtained viscosity η *, the storage stability was determined according to the following criteria.

[保存安定性の判定基準]
A:得られた直後の成形体の粘度η*に対して、放置後の成形体の粘度η*の変化が5%以下
B:得られた直後の成形体の粘度η*に対して、放置後の成形体の粘度η*の変化が5%を超え、10%以下
C:得られた直後の成形体の粘度η*に対して、放置後の成形体の粘度η*の変化が10%を超える
[Criteria for storage stability]
A: Change in viscosity η * of the molded body after standing is 5% or less with respect to the viscosity η * of the molded body immediately after being obtained. B: Standing with respect to the viscosity η * of the molded body immediately after being obtained. The change in the viscosity η * of the molded body after 5% is more than 5% and 10% or less. C: The change in the viscosity η * of the molded body after being left is 10% with respect to the viscosity η * of the molded body immediately after being obtained. Over

(4)算術平均粗さRa(表面粗さ)
〔樹脂シートの未硬化物の作製〕
離型処理された透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(商品名「PET5011 550」、厚み50μm、リンテック社製)を用意した。このPETフィルム上にアプリケーターを用いて、乾燥後の厚みが50μmとなるように、得られた実施例及び比較例の樹脂組成物を塗工した。次に、100℃のギアオーブン内で12分間乾燥して、200mm×200mmの面積を有する厚み50μmの樹脂シートの未硬化物を作製した。作製した樹脂シートの未硬化物を用いて、以下の半硬化体A1を有する積層体A及び半硬化体A2を作製した。
(4) Arithmetic average roughness Ra (surface roughness)
[Preparation of uncured resin sheet]
A release-treated transparent polyethylene terephthalate (PET) film (trade name “PET5011 550”, thickness 50 μm, manufactured by Lintec Corporation) was prepared. Using the applicator on this PET film, the obtained resin compositions of Examples and Comparative Examples were applied so that the thickness after drying was 50 μm. Next, it was dried in a gear oven at 100 ° C. for 12 minutes to prepare an uncured product of a resin sheet having an area of 200 mm × 200 mm and a thickness of 50 μm. A laminate A and a semi-cured body A2 having the following semi-cured bodies A1 were produced using the uncured product of the produced resin sheet.

〔半硬化体A1を有する積層体Aの作製〕
ガラスエポキシ基板上に、銅厚みが25μm、パターン長が3cm、かつL/S=75μm/75μmのパターンが10本形成された回路基板を用意した。この回路基板上に、得られた樹脂シートの未硬化物を、真空ラミネートした。真空ラミネートに際し、真空ラミネータ(名機製作所社製、MVLP−500)を用いて、90℃、0.6MPa、真空40秒及び加圧40秒のラミネート条件によりラミネートした。なお、後述の真空ラミネートの際にも、同様の条件によりラミネートした。その後、樹脂シートの未硬化物を150℃で1時間予備硬化させ、樹脂シートの未硬化物が半硬化した半硬化体A1と回路基板とからなる積層体Aを得た。
[Preparation of laminate A having semi-cured product A1]
A circuit board was prepared on a glass epoxy substrate having a copper thickness of 25 μm, a pattern length of 3 cm, and 10 patterns of L / S = 75 μm / 75 μm. An uncured product of the obtained resin sheet was vacuum laminated on the circuit board. At the time of vacuum lamination, lamination was performed using a vacuum laminator (MVLP-500, manufactured by Meiki Seisakusho Co., Ltd.) under lamination conditions of 90 ° C., 0.6 MPa, vacuum 40 seconds, and pressure 40 seconds. It should be noted that lamination was performed under the same conditions when vacuum laminating described later. Thereafter, the uncured product of the resin sheet was precured at 150 ° C. for 1 hour to obtain a laminate A composed of a semi-cured product A1 and a circuit board obtained by semi-curing the uncured product of the resin sheet.

その後、得られた積層体Aの半硬化体A1の表面を、下記の(a)膨潤処理をした後、下記の(b)過マンガン酸塩処理すなわち粗化処理をした。   Thereafter, the surface of the semi-cured body A1 of the obtained laminate A was subjected to the following (a) swelling treatment, and then the following (b) permanganate treatment, that is, roughening treatment.

(a)膨潤処理:
得られた積層体Aを80℃の膨潤液(スウェリングディップセキュリガントP、アトテックジャパン社製)に入れて、10分間揺動した。その後、純水で洗浄した。
(A) Swelling treatment:
The obtained laminate A was placed in a swelling liquid at 80 ° C. (Swelling Dip Securigant P, manufactured by Atotech Japan) and rocked for 10 minutes. Thereafter, it was washed with pure water.

(b)過マンガン酸塩処理(粗化処理):
膨潤処理された積層体Aを80℃の過マンガン酸カリウム(コンセントレートコンパクトCP、アトテックジャパン社製)粗化水溶液に入れて、10分間揺動した。その後、25℃の洗浄液(リダクションセキュリガントP、アトテックジャパン社製)により2分間洗浄し、純水でさらに洗浄した。表面が粗化処理された半硬化体A2を得た。
(B) Permanganate treatment (roughening treatment):
The swelled laminate A was placed in a 80 ° C. potassium permanganate (concentrate compact CP, manufactured by Atotech Japan) roughened aqueous solution and rocked for 10 minutes. Then, it wash | cleaned for 2 minutes with the washing | cleaning liquid (Reduction securigant P, the Atotech Japan company make) of 25 degreeC, and also wash | cleaned further with the pure water. A semi-cured product A2 having a roughened surface was obtained.

〔算術平均粗さRaの測定〕
非接触式の表面粗さ計(商品名「WYKO」、ビーコ社製)を用いて、表面が粗化処理された上記半硬化体A2の表面の算術平均粗さRaを測定した。算術平均粗さRaはJIS B 0601−1994に従った。
[Measurement of arithmetic average roughness Ra]
Using a non-contact type surface roughness meter (trade name “WYKO”, manufactured by Beiko Co., Ltd.), the arithmetic average roughness Ra of the surface of the semi-cured product A2 whose surface was roughened was measured. Arithmetic mean roughness Ra conformed to JIS B 0601-1994.

結果を下記の表1に示す。下記の表1において、高分子量成分の配合量は、固形分である変性ビフェノール骨格含有フェノキシ樹脂の配合量を示し、シリカ成分の配合量は、固形分である第1,第2のシリカでの配合量を示す。下記の表1において、第1のシリカ含有スラリーA、B、C及びDの種類をA、B、C及びDと略して記載し、第2のシリカ含有スラリーP、Q、R及びSの種類をP、Q、R及びSと略して記載した。   The results are shown in Table 1 below. In Table 1 below, the blending amount of the high molecular weight component indicates the blending amount of the modified biphenol skeleton-containing phenoxy resin that is a solid content, and the blending amount of the silica component is the solid content in the first and second silicas. The blending amount is shown. In Table 1 below, the types of the first silica-containing slurries A, B, C and D are abbreviated as A, B, C and D, and the types of the second silica-containing slurries P, Q, R and S are described. Was abbreviated as P, Q, R and S.

Figure 2012062422
Figure 2012062422

なお、樹脂組成物にかえて該樹脂組成物をシート状に成形した成形体を用いて、上記半硬化体A2を作製した場合でも、実施例及び比較例における算術平均粗さRaの大きさについては、同様の傾向が見られた。   In addition, even when the semi-cured body A2 is produced using a molded body obtained by molding the resin composition into a sheet shape instead of the resin composition, the arithmetic average roughness Ra in Examples and Comparative Examples A similar trend was seen.

Claims (9)

エポキシ樹脂と、
フェノール硬化剤と、
平均粒子径が0.1μm以上、10μm以下の第1のシリカと、
平均粒子径が1nm以上、100nm未満の第2のシリカとを含み、
前記第1のシリカ100重量部に対する前記第2のシリカの含有量が0.6〜30重量部である、樹脂組成物。
Epoxy resin,
A phenolic curing agent,
A first silica having an average particle size of 0.1 μm or more and 10 μm or less;
A second silica having an average particle diameter of 1 nm or more and less than 100 nm,
The resin composition whose content of the said 2nd silica with respect to 100 weight part of said 1st silicas is 0.6-30 weight part.
樹脂組成物100重量%(樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、前記第1,第2のシリカの合計の含有量が25〜80重量%であり、
樹脂組成物に含まれている樹脂成分の合計100重量部に対して、前記第2のシリカの含有量が0.45〜24.5重量部である、請求項1に記載の樹脂組成物。
In 100% by weight of the resin composition (excluding the solvent when the resin composition contains a solvent), the total content of the first and second silicas is 25 to 80% by weight,
2. The resin composition according to claim 1, wherein the content of the second silica is 0.45 to 24.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total resin components contained in the resin composition.
樹脂組成物100重量%(樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、前記第1,第2のシリカの合計の含有量が45〜75重量%である、請求項2に記載の樹脂組成物。   The total content of the first and second silicas is 45 to 75% by weight in 100% by weight of the resin composition (excluding the solvent when the resin composition includes a solvent). Resin composition. 前記第1のシリカ100重量部に対して、前記第2のシリカの含有量が1〜15重量部である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein a content of the second silica is 1 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the first silica. 前記第1,第2のシリカが、シランカップリング剤により処理されている、請求項1〜4のいずれか1項に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the first and second silicas are treated with a silane coupling agent. 前記第1,第2のシリカの内の少なくとも一方が、エポキシシランカップリング剤、ビニルシランカップリング剤又はアミノシランカップリング剤により処理されている、請求項5に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 5, wherein at least one of the first and second silicas is treated with an epoxy silane coupling agent, a vinyl silane coupling agent, or an amino silane coupling agent. 前記フェノール硬化剤が、下記式(1)で表されるフェノール硬化剤である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
Figure 2012062422
前記式(1)中、m及びnはそれぞれ1以上の整数である。
The resin composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the phenol curing agent is a phenol curing agent represented by the following formula (1).
Figure 2012062422
In the formula (1), m and n are each an integer of 1 or more.
請求項1〜7のいずれか1項に記載の樹脂組成物がシート状に成形された成形体。   The molded object in which the resin composition of any one of Claims 1-7 was shape | molded in the sheet form. 厚さが5〜100μmである、請求項8に記載の成形体。   The molded object of Claim 8 whose thickness is 5-100 micrometers.
JP2010208938A 2010-09-17 2010-09-17 Resin composition and molded body Pending JP2012062422A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010208938A JP2012062422A (en) 2010-09-17 2010-09-17 Resin composition and molded body

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010208938A JP2012062422A (en) 2010-09-17 2010-09-17 Resin composition and molded body

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012062422A true JP2012062422A (en) 2012-03-29

Family

ID=46058467

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010208938A Pending JP2012062422A (en) 2010-09-17 2010-09-17 Resin composition and molded body

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012062422A (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012153752A (en) * 2011-01-24 2012-08-16 Sumitomo Bakelite Co Ltd Resin composition, prepreg, laminate, resin sheet, printed wiring board and semiconductor device
JP2014201642A (en) * 2013-04-03 2014-10-27 日立化成株式会社 Resin composition, and resin film for printed wiring board and production method of the same
JP2015040260A (en) * 2013-08-22 2015-03-02 富士電機株式会社 Nanocomposite resin composition
JP2016079368A (en) * 2014-10-22 2016-05-16 株式会社Kri Low thermal expandable resin composition and manufacturing method therefor
JP2017122187A (en) * 2016-01-08 2017-07-13 住友ベークライト株式会社 Epoxy resin composition, and filler-containing epoxy resin composition
JPWO2017014238A1 (en) * 2015-07-21 2018-05-10 住友ベークライト株式会社 Thermally conductive resin composition, thermal conductive sheet, and semiconductor device
JP2019123799A (en) * 2018-01-16 2019-07-25 日立化成株式会社 Resin composition for interlayer insulation layer, resin film for interlayer insulation layer, multilayer printed wiring board, semiconductor package and method for manufacturing multilayer printed wiring board
WO2019245026A1 (en) * 2018-06-21 2019-12-26 日立化成株式会社 Thermosetting resin composition, prepreg, laminated sheet, printed-wiring board and semiconductor package, and method for producing thermosetting resin composition
JP2020066695A (en) * 2018-10-25 2020-04-30 日立化成株式会社 Liquid resin composition and electronic component device and method for producing the same
JP2021084968A (en) * 2019-11-28 2021-06-03 住友ベークライト株式会社 Resin membrane with substrate, printed wiring board and electronic device

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63159422A (en) * 1986-12-23 1988-07-02 Sumitomo Bakelite Co Ltd Insulating resin paste for semiconductor
JPH04332754A (en) * 1991-05-07 1992-11-19 Sumitomo Bakelite Co Ltd Electrical insulating resin paste
JP2000080285A (en) * 1998-09-07 2000-03-21 Sumitomo Bakelite Co Ltd Thermosetting resin composition and semiconductor device using the same
JP2002275350A (en) * 2001-03-16 2002-09-25 Toray Ind Inc Epoxy resin composition and semiconductor device made by using the composition
JP2006036915A (en) * 2004-07-27 2006-02-09 Admatechs Co Ltd Resin composition
JP2006036916A (en) * 2004-07-27 2006-02-09 Admatechs Co Ltd Slurry composition, varnish composition, and insulating film and prepreg using the same
JP2008133456A (en) * 2006-10-24 2008-06-12 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition for semiconductor, adhesive sheet for semiconductor, and semiconductor apparatus
JP2009283905A (en) * 2008-04-21 2009-12-03 Hitachi Chem Co Ltd Semiconductor device and film-shaped adhesive
JP2010111825A (en) * 2008-11-10 2010-05-20 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition for sealing semiconductor and semiconductor device
WO2012002434A1 (en) * 2010-07-01 2012-01-05 住友ベークライト株式会社 Prepreg, wiring board, and semiconductor device

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63159422A (en) * 1986-12-23 1988-07-02 Sumitomo Bakelite Co Ltd Insulating resin paste for semiconductor
JPH04332754A (en) * 1991-05-07 1992-11-19 Sumitomo Bakelite Co Ltd Electrical insulating resin paste
JP2000080285A (en) * 1998-09-07 2000-03-21 Sumitomo Bakelite Co Ltd Thermosetting resin composition and semiconductor device using the same
JP2002275350A (en) * 2001-03-16 2002-09-25 Toray Ind Inc Epoxy resin composition and semiconductor device made by using the composition
JP2006036915A (en) * 2004-07-27 2006-02-09 Admatechs Co Ltd Resin composition
JP2006036916A (en) * 2004-07-27 2006-02-09 Admatechs Co Ltd Slurry composition, varnish composition, and insulating film and prepreg using the same
JP2008133456A (en) * 2006-10-24 2008-06-12 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition for semiconductor, adhesive sheet for semiconductor, and semiconductor apparatus
JP2009283905A (en) * 2008-04-21 2009-12-03 Hitachi Chem Co Ltd Semiconductor device and film-shaped adhesive
JP2010111825A (en) * 2008-11-10 2010-05-20 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition for sealing semiconductor and semiconductor device
WO2012002434A1 (en) * 2010-07-01 2012-01-05 住友ベークライト株式会社 Prepreg, wiring board, and semiconductor device

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012153752A (en) * 2011-01-24 2012-08-16 Sumitomo Bakelite Co Ltd Resin composition, prepreg, laminate, resin sheet, printed wiring board and semiconductor device
JP2014201642A (en) * 2013-04-03 2014-10-27 日立化成株式会社 Resin composition, and resin film for printed wiring board and production method of the same
JP2015040260A (en) * 2013-08-22 2015-03-02 富士電機株式会社 Nanocomposite resin composition
JP2016079368A (en) * 2014-10-22 2016-05-16 株式会社Kri Low thermal expandable resin composition and manufacturing method therefor
JP7073716B2 (en) 2015-07-21 2022-05-24 住友ベークライト株式会社 Thermally conductive resin compositions, thermally conductive sheets and semiconductor devices
JPWO2017014238A1 (en) * 2015-07-21 2018-05-10 住友ベークライト株式会社 Thermally conductive resin composition, thermal conductive sheet, and semiconductor device
JP2017122187A (en) * 2016-01-08 2017-07-13 住友ベークライト株式会社 Epoxy resin composition, and filler-containing epoxy resin composition
JP2019123799A (en) * 2018-01-16 2019-07-25 日立化成株式会社 Resin composition for interlayer insulation layer, resin film for interlayer insulation layer, multilayer printed wiring board, semiconductor package and method for manufacturing multilayer printed wiring board
WO2019245026A1 (en) * 2018-06-21 2019-12-26 日立化成株式会社 Thermosetting resin composition, prepreg, laminated sheet, printed-wiring board and semiconductor package, and method for producing thermosetting resin composition
CN112313281A (en) * 2018-06-21 2021-02-02 昭和电工材料株式会社 Thermosetting resin composition, prepreg, laminate, printed wiring board, semiconductor package, and method for producing thermosetting resin composition
JPWO2019245026A1 (en) * 2018-06-21 2021-08-02 昭和電工マテリアルズ株式会社 Method for manufacturing thermosetting resin composition, prepreg, laminated board, printed wiring board and semiconductor package, and thermosetting resin composition
JP7420071B2 (en) 2018-06-21 2024-01-23 株式会社レゾナック Thermosetting resin composition, prepreg, laminate, printed wiring board, semiconductor package, and method for producing thermosetting resin composition
CN112313281B (en) * 2018-06-21 2024-03-29 株式会社力森诺科 Thermosetting resin composition, prepreg, laminated board, printed wiring board, semiconductor package, and method for producing thermosetting resin composition
JP2020066695A (en) * 2018-10-25 2020-04-30 日立化成株式会社 Liquid resin composition and electronic component device and method for producing the same
JP7404620B2 (en) 2018-10-25 2023-12-26 株式会社レゾナック Liquid resin composition, electronic component device, and manufacturing method thereof
JP2021084968A (en) * 2019-11-28 2021-06-03 住友ベークライト株式会社 Resin membrane with substrate, printed wiring board and electronic device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012062422A (en) Resin composition and molded body
JP4938910B1 (en) Precured material, roughened precured material and laminate
JP5629407B2 (en) Insulating resin material and multilayer substrate
WO2016072404A1 (en) Resin composition, prepreg, metal-foil-clad laminated board, resin composite sheet, and printed circuit board
JP5291684B2 (en) Compact
JP5340203B2 (en) Compact
JP2013023666A (en) Epoxy resin material, cured product, and plasma-roughened cured product
JP2012211269A (en) Precured product, roughened precured product and laminate
JP2024009109A (en) Resin material and multilayer printed wiring board
JP5799174B2 (en) Insulating resin film, pre-cured product, laminate and multilayer substrate
JP2011153285A (en) Resin composition, b-stage film, laminated film, copper-clad laminated board, and multilayer board
JP2011178858A (en) Resin composition and formed article
JP5216164B2 (en) Roughened cured product and laminate
JP5752071B2 (en) B-stage film and multilayer substrate
JP2013185089A (en) Thermosetting resin material, and multi-layer substrate
JP5767540B2 (en) B-stage film, multilayer substrate and laminated film which are episulfide resin materials
JP5303524B2 (en) Epoxy resin material, laminated film and multilayer substrate
WO2016047682A1 (en) Resin film and laminated film
JP2014062150A (en) Insulating resin film, production method of insulating resin film, preliminarily cured product, laminate, and multilayer substrate
JP5662858B2 (en) B-stage film and multilayer substrate
JP2011032296A (en) Epoxy resin composition, b-stage film, laminated film, copper-clad laminate, and multilayer substrate
JP2019006980A (en) Resin composition for insulation film, insulation film, and multilayer printed board
JP6159627B2 (en) Resin composition, resin film and multilayer substrate
JP5727325B2 (en) Thermosetting resin material and multilayer substrate
JP2011032330A (en) Resin composition, b-stage film, laminated film, copper-clad laminate, and multilayer substrate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120308

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121122

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121127

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130123

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130611