JP2011178858A - Resin composition and formed article - Google Patents

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JP2011178858A JP2010043243A JP2010043243A JP2011178858A JP 2011178858 A JP2011178858 A JP 2011178858A JP 2010043243 A JP2010043243 A JP 2010043243A JP 2010043243 A JP2010043243 A JP 2010043243A JP 2011178858 A JP2011178858 A JP 2011178858A
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Tatsuji Hayashi
達史 林
Shota Uenishi
章太 上西
Hidehiro Deguchi
英寛 出口
Reona Yokota
玲夫奈 横田
Daisuke Tottori
大輔 鳥取
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition capable of providing a formed article capable of heightening surface smoothness when laminated on a member having holes or unevenness on the surface, and to provide the formed article. <P>SOLUTION: The resin composition contains an epoxy resin, a cyanate compound, a first silica having an average particle diameter of ≥0.1 μm and ≤10 μm, and a second silica having an average particle diameter of ≥1 nm and <100 nm. The formed article is obtained by forming the resin composition into a sheet shape. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、エポキシ樹脂、シアネート化合物及びシリカを含む樹脂組成物、並びに該樹脂組成物を用いた成形体に関する。   The present invention relates to a resin composition containing an epoxy resin, a cyanate compound and silica, and a molded body using the resin composition.

従来、積層板及びプリント配線板等の電子部品を形成するために、様々な樹脂組成物が用いられている。   Conventionally, various resin compositions have been used to form electronic components such as laminates and printed wiring boards.

上記樹脂組成物の一例として、下記の特許文献1には、シアネート樹脂と、フェノール樹脂と、無機充填剤とを含む樹脂組成物が開示されている。ここでは、樹脂組成物の難燃性及び耐熱性が高く、線膨張係数が低いことが記載されている。さらに、特許文献1には、シアネート樹脂の反応性を向上させるために、エポキシ樹脂を用いることが好ましいことが記載されている。   As an example of the resin composition, Patent Document 1 below discloses a resin composition containing a cyanate resin, a phenol resin, and an inorganic filler. Here, it is described that the resin composition has high flame retardancy and heat resistance and a low coefficient of linear expansion. Furthermore, Patent Document 1 describes that it is preferable to use an epoxy resin in order to improve the reactivity of the cyanate resin.

下記の特許文献2には、複素環基を有する化合物と、エポキシ樹脂と、シアネート化合物とを含む樹脂組成物が開示されている。この樹脂組成物には、フィラーを添加できる。ここでは、吸水率が低く、誘電特性に優れており、かつ耐熱性及び寸法安定性が高い硬化物が得られることが記載されている。   Patent Document 2 below discloses a resin composition containing a compound having a heterocyclic group, an epoxy resin, and a cyanate compound. A filler can be added to this resin composition. Here, it is described that a cured product having low water absorption, excellent dielectric properties, and high heat resistance and dimensional stability can be obtained.

下記の特許文献3には、重量平均分子量が10万〜60万の高分子量成分と、分子量が500以上の多官能エポキシ樹脂と、フェノール樹脂と、フィラーとを含む樹脂組成物が開示されている。ここでは、硬化前の流動性が良好であるので、配線基板などの凹凸に樹脂組成物を充分に埋め込ませることができ、更に硬化後は高い接着強度が発現することが記載されている。さらに、特許文献3には、上記フィラーとして平均粒径が異なる2種以上のフィラーが含まれると、溶融粘度が低くなり、硬化後に優れた接着強度が得られることが記載されている。   Patent Document 3 below discloses a resin composition comprising a high molecular weight component having a weight average molecular weight of 100,000 to 600,000, a polyfunctional epoxy resin having a molecular weight of 500 or more, a phenol resin, and a filler. . Here, it is described that since the fluidity before curing is good, the resin composition can be sufficiently embedded in unevenness such as a wiring board and high adhesive strength is exhibited after curing. Further, Patent Document 3 describes that when two or more kinds of fillers having different average particle diameters are contained as the filler, the melt viscosity is lowered and excellent adhesive strength is obtained after curing.

特開2003−096296号公報JP 2003-096296 A 特開2006−028498号公報JP 2006-028498 A 特開2008−133456号公報JP 2008-133456 A

特許文献1〜3に記載の樹脂組成物では、該樹脂組成物が穴又は凹凸を表面に有する基板上などに塗布されたときに、穴埋め性又は凹凸追従性が低く、樹脂組成物の上面の平滑性が低いことがある。さらに、仮に特許文献1〜3に記載の樹脂組成物をシート状に成形して、成形体を得た場合にも、得られた成形体の穴埋め性又は凹凸追従性が低く、樹脂組成物の上面の平滑性が低いことがある。   In the resin compositions described in Patent Documents 1 to 3, when the resin composition is applied on a substrate having holes or irregularities on the surface, the filling property or the irregularity followability is low, and the upper surface of the resin composition Smoothness may be low. Furthermore, even when the resin composition described in Patent Documents 1 to 3 is formed into a sheet shape to obtain a molded body, the obtained molded body has low filling or uneven followability, and the resin composition The smoothness of the top surface may be low.

本発明の目的は、穴又は凹凸を表面に有する部材に積層された場合に、表面の平滑性を高めることができる成形体を得ることを可能とする樹脂組成物、並びに該樹脂組成物を用いた成形体を提供することである。   An object of the present invention is to provide a resin composition that makes it possible to obtain a molded article capable of improving the smoothness of the surface when laminated on a member having holes or irregularities on the surface, and uses the resin composition. It is to provide a molded body.

本発明の広い局面によれば、エポキシ樹脂と、シアネート化合物と、平均粒子径が0.1μm以上、10μm以下の第1のシリカと、平均粒子径が1nm以上、100nm未満の第2のシリカとを含み、上記第1のシリカ100重量部に対する上記第2のシリカの含有量が0.7〜30重量部である、樹脂組成物が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, an epoxy resin, a cyanate compound, a first silica having an average particle diameter of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and a second silica having an average particle diameter of 1 nm or more and less than 100 nm A resin composition is provided in which the content of the second silica is 0.7 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the first silica.

本発明に係る樹脂組成物のある特定の局面では、樹脂組成物100重量%(樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、上記第1,第2のシリカの合計の含有量は25〜80重量%であり、樹脂組成物に含まれている樹脂成分の合計100重量部に対して、上記第2のシリカの含有量は0.45〜24.5重量部である。   In a specific aspect of the resin composition according to the present invention, the total content of the first and second silicas in 100% by weight of the resin composition (excluding the solvent when the resin composition includes a solvent). Is 25 to 80% by weight, and the content of the second silica is 0.45 to 24.5 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the resin components contained in the resin composition.

本発明に係る樹脂組成物の他の特定の局面では、樹脂組成物100重量%(樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、上記第1,第2のシリカの合計の含有量は45〜75重量%である。   In another specific aspect of the resin composition according to the present invention, the total content of the first and second silicas in 100% by weight of the resin composition (excluding the solvent when the resin composition includes a solvent). The amount is 45 to 75% by weight.

本発明に係る樹脂組成物のさらに他の特定の局面では、樹脂組成物に含まれている樹脂成分の合計100重量部に対して、上記第2のシリカの含有量は4〜18重量部である。   In still another specific aspect of the resin composition according to the present invention, the content of the second silica is 4 to 18 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the resin components contained in the resin composition. is there.

本発明に係る樹脂組成物のさらに他の特定の局面では、上記第1のシリカ100重量部に対して、上記第2のシリカの含有量は0.1〜15重量部である。   In still another specific aspect of the resin composition according to the present invention, the content of the second silica is 0.1 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the first silica.

本発明に係る樹脂組成物の他の特定の局面では、上記第1のシリカ100重量部に対して、上記第2のシリカの含有量は1〜15重量部である。   In another specific aspect of the resin composition according to the present invention, the content of the second silica is 1 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the first silica.

上記第1,第2のシリカは、シランカップリング剤により処理されていることが好ましい。上記第1,第2のシリカの内の少なくとも一方は、エポキシシランカップリング剤により処理されていることが好ましい。   The first and second silicas are preferably treated with a silane coupling agent. At least one of the first and second silicas is preferably treated with an epoxy silane coupling agent.

本発明に係る成形体は、本発明に従って構成された樹脂組成物がシート状に成形された成形体である。   The molded body according to the present invention is a molded body in which the resin composition configured according to the present invention is formed into a sheet shape.

本発明に係る成形体のある特定の局面では、成形体の厚さは5〜100μmである。   On the specific situation with the molded object which concerns on this invention, the thickness of a molded object is 5-100 micrometers.

本発明に係る樹脂組成物は、エポキシ樹脂、シアネート化合物、平均粒子径が0.1μm以上10μm以下の第1のシリカ、及び平均粒子径が1nm以上100nm未満の第2のシリカを含むので、更に第1のシリカ100重量部に対する第2のシリカの含有量が0.7〜30重量部であるので、穴又は凹凸を表面に有する部材に積層された場合に、表面の平滑性を高めることができるシート状の成形体を得ることができる。   Since the resin composition according to the present invention includes an epoxy resin, a cyanate compound, a first silica having an average particle diameter of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and a second silica having an average particle diameter of 1 nm or more and less than 100 nm, Since the content of the second silica with respect to 100 parts by weight of the first silica is 0.7 to 30 parts by weight, the smoothness of the surface can be improved when laminated on a member having holes or irregularities on the surface. A sheet-like molded product can be obtained.

以下、本発明の詳細を説明する。   Details of the present invention will be described below.

(樹脂組成物)
本発明に係る樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、シアネート化合物と、平均粒子径が0.1μm以上10μm以下の第1のシリカと、平均粒子径が1nm以上100nm未満の第2のシリカとを含む。本発明に係る樹脂組成物では、第1のシリカ100重量部に対する第2のシリカの含有量が0.7〜30重量部である。
(Resin composition)
The resin composition according to the present invention includes an epoxy resin, a cyanate compound, a first silica having an average particle size of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and a second silica having an average particle size of 1 nm or more and less than 100 nm. . In the resin composition according to the present invention, the content of the second silica with respect to 100 parts by weight of the first silica is 0.7 to 30 parts by weight.

本発明に係る樹脂組成物は上記組成を有するので、樹脂組成物及び樹脂組成物をシート状に成形した成形体が、穴又は凹凸を表面に有する部材に積層された場合に、樹脂組成物又は成形体の表面の平滑性を高めることができる。また、本発明に係る樹脂組成物は上記組成を有するので、形状追従性に優れており、樹脂組成物及び樹脂組成物をシート状に成形した成形体の穴埋め性又は凹凸追従性を高めることができる。例えば、ビアホールもしくはスルーホール等の穴を表面に有する部材、又は配線回路等により凹凸を表面に有する部材に樹脂組成物又は成形体が積層された場合に、穴又は凹部に樹脂組成物又は成形体を充分に埋め込ませることができ、更に樹脂組成物又は成形体の表面の平滑性を高めることができる。さらに、樹脂組成物及び成形体の保存安定性を高めることもできる。   Since the resin composition according to the present invention has the above composition, when the resin composition and a molded body obtained by molding the resin composition into a sheet are laminated on a member having holes or irregularities on the surface, the resin composition or The smoothness of the surface of a molded object can be improved. In addition, since the resin composition according to the present invention has the above composition, it has excellent shape followability, and can improve the filling property or uneven followability of the resin composition and a molded body obtained by molding the resin composition into a sheet shape. it can. For example, when a resin composition or a molded body is laminated on a member having a hole such as a via hole or a through hole on the surface, or a member having an uneven surface on the surface by a wiring circuit or the like, the resin composition or the molded body is formed in the hole or the recess. Can be embedded sufficiently, and the smoothness of the surface of the resin composition or molded article can be further improved. Furthermore, the storage stability of the resin composition and the molded body can be enhanced.

第2のシリカの平均粒子径が1nm以上であると、シリカの2次凝集がそれほど多く生じないため、樹脂組成物又は成形体の埋め込み性を高めることができる。第2のシリカの平均粒子径が100nm未満であると、樹脂組成物又は成形体の埋め込み性を高めることができ、更に樹脂組成物又は成形体の表面の平滑性を高めることができる。第2のシリカの平均粒子径は、より好ましくは、3nm以上であり、50nm未満である。第2のシリカの平均粒子径は、更に好ましくは、25nm未満である。   When the average particle diameter of the second silica is 1 nm or more, since the secondary aggregation of the silica does not occur so much, the embedding property of the resin composition or the molded body can be improved. When the average particle diameter of the second silica is less than 100 nm, the embedding property of the resin composition or the molded body can be improved, and the smoothness of the surface of the resin composition or the molded body can be further increased. The average particle diameter of the second silica is more preferably 3 nm or more and less than 50 nm. The average particle diameter of the second silica is more preferably less than 25 nm.

第1のシリカの平均粒子径が0.1μm以上であると、樹脂組成物又は成形体の埋め込み性を高めることができる。第1のシリカの平均粒子径が10μm以下であると、樹脂組成物又は成形体の表面の平滑性を高めることができる。第1のシリカの平均粒子径は、好ましくは、0.3μm以上であり、5μm未満である。   The embedding property of a resin composition or a molded object can be improved as the average particle diameter of a 1st silica is 0.1 micrometer or more. The smoothness of the surface of a resin composition or a molded object can be improved as the average particle diameter of a 1st silica is 10 micrometers or less. The average particle diameter of the first silica is preferably 0.3 μm or more and less than 5 μm.

第1のシリカ100重量部に対する第2のシリカの含有量は0.7〜30重量部である。第2のシリカの含有量が0.7重量部以上であると、樹脂組成物又は成形体の埋め込み性を高めることができ、更に樹脂組成物又は成形体の表面の平滑性を高めることができる。第2のシリカの含有量が30重量部以下であると、配線パターンへの埋め込み性、ビアホールもしくはスルーホール等の穴への充填性を高めることができる。また、樹脂組成物の保存安定性を向上させることができる。第1のシリカ100重量部に対する第2のシリカの含有量の好ましい下限は1重量部、より好ましい下限は2重量部、更に好ましい下限は2.5重量部、好ましい上限は25重量部、より好ましい上限は20重量部、更に好ましい上限は15重量部、最も好ましい上限は12重量部である。   The content of the second silica with respect to 100 parts by weight of the first silica is 0.7 to 30 parts by weight. When the content of the second silica is 0.7 parts by weight or more, the embedding property of the resin composition or the molded body can be improved, and the smoothness of the surface of the resin composition or the molded body can be further increased. . When the content of the second silica is 30 parts by weight or less, the embedding property in the wiring pattern and the filling property in a hole such as a via hole or a through hole can be improved. Moreover, the storage stability of the resin composition can be improved. The preferable lower limit of the content of the second silica with respect to 100 parts by weight of the first silica is 1 part by weight, the more preferable lower limit is 2 parts by weight, the still more preferable lower limit is 2.5 parts by weight, and the preferable upper limit is 25 parts by weight. The upper limit is 20 parts by weight, the more preferred upper limit is 15 parts by weight, and the most preferred upper limit is 12 parts by weight.

樹脂組成物に含まれている樹脂成分の合計100重量部に対して、上記第2のシリカの含有量は0.45〜30重量部であることが好ましい。上記第2のシリカの含有量が0.45重量部以上であると、樹脂組成物又は成形体の埋め込み性をより一層高めることができ、更に樹脂組成物又は成形体の表面の平滑性をより一層高めることができる。上記第2のシリカの含有量が30重量部以下であると、ビアホールもしくはスルーホール等の穴への充填性及び配線パターンへの埋め込み性をより一層高めることができる。また、樹脂組成物又は成形体の保存安定性をより一層向上させることができる。樹脂組成物に含まれている樹脂成分の合計100重量部に対して、上記第2のシリカの含有量のより好ましい下限は0.6重量部、更に好ましい下限は1重量部、更に好ましい下限は1.5重量部、最も好ましい下限は4重量部、より好ましい上限は24.5重量部、更に好ましい上限は18重量部、最も好ましい上限は13重量部である。   It is preferable that the content of the second silica is 0.45 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total resin components contained in the resin composition. When the content of the second silica is 0.45 parts by weight or more, the embedding property of the resin composition or the molded body can be further improved, and the surface smoothness of the resin composition or the molded body is further improved. It can be further enhanced. When the content of the second silica is 30 parts by weight or less, the filling property to holes such as via holes or through holes and the embedding property to wiring patterns can be further enhanced. Moreover, the storage stability of a resin composition or a molded object can be improved further. The more preferable lower limit of the content of the second silica is 0.6 parts by weight, the still more preferable lower limit is 1 part by weight, and the further preferable lower limit is 100 parts by weight of the total resin components contained in the resin composition. 1.5 parts by weight, the most preferred lower limit is 4 parts by weight, the more preferred upper limit is 24.5 parts by weight, the still more preferred upper limit is 18 parts by weight, and the most preferred upper limit is 13 parts by weight.

なお、上記樹脂成分には、エポキシ樹脂及びシアネート化合物と、必要に応じて配合される他の樹脂成分とが含まれる。上記樹脂成分には、硬化促進剤が含まれる。上記樹脂成分には、第1,第2のシリカは含まれない。樹脂組成物が溶剤を含む場合には、上記樹脂成分には、溶剤は含まれない。   In addition, the said resin component contains an epoxy resin and a cyanate compound, and the other resin component mix | blended as needed. The resin component includes a curing accelerator. The resin component does not include the first and second silica. When the resin composition contains a solvent, the resin component does not contain a solvent.

[エポキシ樹脂]
上記エポキシ樹脂は、少なくとも1つのエポキシ基を有する有機化合物をいう。上記エポキシ樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[Epoxy resin]
The epoxy resin refers to an organic compound having at least one epoxy group. As for the said epoxy resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記エポキシ樹脂は、従来公知のエポキシ樹脂を用いることができ、特に限定されない。上記エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリアジン骨格含有エポキシ樹脂及びアントラセン型エポキシ樹脂等が挙げられる。   A conventionally well-known epoxy resin can be used for the said epoxy resin, and it does not specifically limit. Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, and naphthol aralkyl type epoxy. Examples thereof include resins, dicyclopentadiene type epoxy resins, triazine skeleton-containing epoxy resins and anthracene type epoxy resins.

[シアネート化合物]
本発明に係る樹脂組成物に含まれている上記シアネート化合物は特に限定されない。該シアネート化合物として、従来公知のシアネート化合物を用いることができる。上記シアネートエステル化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[Cyanate compounds]
The cyanate compound contained in the resin composition according to the present invention is not particularly limited. A conventionally well-known cyanate compound can be used as this cyanate compound. As for the said cyanate ester compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記シアネート化合物としては、ノボラック型シアネート樹脂及びビスフェノール型シアネート樹脂等が挙げられる。上記ビスフェノール型シアネート樹脂としては、ビスフェノールA型シアネート樹脂、ビスフェノールE型シアネート樹脂及びテトラメチルビスフェノールF型シアネート樹脂等が挙げられる。   Examples of the cyanate compound include novolak type cyanate resins and bisphenol type cyanate resins. Examples of the bisphenol type cyanate resin include bisphenol A type cyanate resin, bisphenol E type cyanate resin, and tetramethylbisphenol F type cyanate resin.

上記シアネート化合物の市販品としては、フェノールノボラック型シアネート樹脂(ロンザジャパン社製「PT−30」及び「PT−60」)、並びにビスフェノールAジシアネートがトリアジン化され、三量体とされたプレポリマー(ロンザジャパン社製「BA230」)等が挙げられる。   Commercially available products of the above-mentioned cyanate compounds include phenol novolac-type cyanate resins (“PT-30” and “PT-60” manufactured by Lonza Japan), and a prepolymer (trimerized from bisphenol A dicyanate). Lonza Japan “BA230”) and the like.

粗化処理された硬化物の表面の表面粗さをより一層小さくし、かつ硬化物と金属層との接着強度をより一層高める観点からは、上記シアネート化合物のシアネート当量は、130〜500の範囲内であることが好ましい。該シアネート当量のより好ましい下限は150、より好ましい上限は300である。   From the viewpoint of further reducing the surface roughness of the roughened cured product and further increasing the adhesive strength between the cured product and the metal layer, the cyanate equivalent of the cyanate compound is in the range of 130 to 500. It is preferable to be within. A more preferred lower limit of the cyanate equivalent is 150, and a more preferred upper limit is 300.

上記エポキシ樹脂100重量部に対して、上記シアネート化合物の含有量は50〜300重量部の範囲内であることが好ましい。上記シアネート化合物の含有量が50重量部以上であると、樹脂組成物の硬化物の誘電特性を高めることができる。   The content of the cyanate compound is preferably in the range of 50 to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. The dielectric property of the hardened | cured material of a resin composition can be improved as content of the said cyanate compound is 50 weight part or more.

[硬化剤]
本発明に係る樹脂組成物は、上記シアネート化合物以外の硬化剤をさらに含んでいてもよい。該硬化剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[Curing agent]
The resin composition according to the present invention may further contain a curing agent other than the cyanate compound. As for this hardening | curing agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記硬化剤としては、フェノール化合物、活性エステル化合物、アミン化合物、酸無水物及びジシアンジアミド等が挙げられる。   Examples of the curing agent include phenol compounds, active ester compounds, amine compounds, acid anhydrides, dicyandiamide, and the like.

上記活性エステル化合物の具体例としては、ジ(α−ナフチル)イソフタレート等が挙げられる。上記活性エステル化合物の市販品としては、DIC社製「EXB−9451」、「EXB−9451−65T」、「EXB−9460S」、及び「EXB−9460S−65T」等が挙げられる。   Specific examples of the active ester compound include di (α-naphthyl) isophthalate. Examples of commercial products of the active ester compound include “EXB-9451”, “EXB-9451-65T”, “EXB-9460S”, and “EXB-9460S-65T” manufactured by DIC.

[硬化促進剤]
樹脂組成物及び成形体を均一に硬化させる観点からは、本発明に係る樹脂組成物は、硬化促進剤を含むことが好ましい。該硬化促進剤は特に限定されない。上記硬化促進剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[Curing accelerator]
From the viewpoint of uniformly curing the resin composition and the molded body, the resin composition according to the present invention preferably includes a curing accelerator. The curing accelerator is not particularly limited. As for the said hardening accelerator, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

樹脂組成物及び成形体をより一層均一に硬化させる観点からは、樹脂組成物は、上記硬化促進剤としてイミダゾール化合物又は2価コバルト錯体を含むことが好ましく、上記硬化促進剤はイミダゾール化合物又は2価コバルト錯体であることが好ましい。樹脂組成物は、上記硬化促進剤としてイミダゾール化合物を含むことが好ましく、上記硬化促進剤は、イミダゾール化合物であることが好ましい。また、樹脂組成物は、上記硬化促進剤として2価コバルト錯体を含むことが好ましく、上記硬化促進剤は2価コバルト錯体であることが好ましい。   From the viewpoint of more uniformly curing the resin composition and the molded body, the resin composition preferably contains an imidazole compound or a divalent cobalt complex as the curing accelerator, and the curing accelerator is an imidazole compound or a bivalent compound. A cobalt complex is preferred. The resin composition preferably contains an imidazole compound as the curing accelerator, and the curing accelerator is preferably an imidazole compound. Moreover, it is preferable that a resin composition contains a bivalent cobalt complex as the said hardening accelerator, and it is preferable that the said hardening accelerator is a bivalent cobalt complex.

上記イミダゾール化合物の具体例としては、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、及び2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。   Specific examples of the imidazole compound include 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1 -Benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1 -Cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ') -Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-undecylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4 '-Methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2- Examples include phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, and 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole.

上記シアネート化合物100重量部に対して、上記硬化促進剤の含有量は0.01〜2重量部の範囲内であることが好ましい。上記硬化促進剤の含有量が0.01重量部以上であると、樹脂組成物及び成形体をより一層均一に硬化させることができる。上記硬化促進剤の含有量が2重量部以下であると、保管時に樹脂組成物及び成形体の硬化が過度に進まず、樹脂組成物及び成形体の保存安定性を高めることができる。   The content of the curing accelerator is preferably in the range of 0.01 to 2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the cyanate compound. A resin composition and a molded object can be hardened more uniformly as content of the said hardening accelerator is 0.01 weight part or more. When the content of the curing accelerator is 2 parts by weight or less, the resin composition and the molded body are not excessively cured during storage, and the storage stability of the resin composition and the molded body can be improved.

本発明に係る樹脂組成物は、上記イミダゾール化合物及び2価コバルト錯体以外の他の硬化促進剤を含んでいてもよい。このような他の硬化促進剤としては、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン等が挙げられる。上記他の硬化促進剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The resin composition according to the present invention may contain a curing accelerator other than the imidazole compound and the divalent cobalt complex. Examples of such other curing accelerators include N, N-dimethyl-4-aminopyridine. As for said other hardening accelerator, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

[充填剤]
本発明に係る樹脂組成物は、充填剤として、平均粒子径が0.1μm以上10μm以下の第1のシリカと、平均粒子径が1nm以上100nm未満の第2のシリカとを含む。
[filler]
The resin composition according to the present invention includes, as a filler, a first silica having an average particle size of 0.1 μm or more and 10 μm or less and a second silica having an average particle size of 1 nm or more and less than 100 nm.

平均粒子径が比較的大きい上記特定の第1のシリカと、平均粒子径が比較的小さい上記特定の第2のシリカとを組み合わせて、エポキシ樹脂とシアネート化合物とともに用いることにより、穴又は凹凸を表面に有する部材に積層された場合に、樹脂組成物の表面の平滑性を高めることができる。また、樹脂組成物及び成形体の穴埋め性又は凹凸追従性を高めることができる。例えば、ビアホールもしくはスルーホール等の穴を表面に有する部材、又は配線回路等により凹凸を表面に有する部材に樹脂組成物又は成形体が積層された場合に、穴又は凹部に樹脂組成物又は成形体を充分に埋め込ませることができる。   By combining the specific first silica having a relatively large average particle diameter with the specific second silica having a relatively small average particle diameter, and using the epoxy resin and the cyanate compound together, holes or irregularities are formed on the surface. When it is laminated on the member having the above, the surface smoothness of the resin composition can be improved. Moreover, the hole filling property or uneven | corrugated followable | trackability of a resin composition and a molded object can be improved. For example, when a resin composition or a molded body is laminated on a member having a hole such as a via hole or a through hole on the surface, or a member having an uneven surface on the surface by a wiring circuit or the like, the resin composition or the molded body is formed in the hole or the recess. Can be embedded sufficiently.

上記第1,第2のシリカの平均粒子径として、50%となるメディアン径(d50)の値が採用される。上記平均粒子径は、レーザー回折散乱方式の粒度分布測定装置を用いて測定できる。   A median diameter (d50) value of 50% is adopted as the average particle diameter of the first and second silicas. The average particle size can be measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus.

樹脂組成物における第1,第2のシリカの分散性を高めることによって、穴埋め性又は凹凸追従性をより一層高める観点からは、第1,第2のシリカはそれぞれ、カップリング剤により処理されていることが好ましい。上記カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤及びアルミニウムカップリング剤等が挙げられる。   From the viewpoint of further improving the hole filling property or unevenness followability by increasing the dispersibility of the first and second silica in the resin composition, each of the first and second silicas is treated with a coupling agent. Preferably it is. Examples of the coupling agent include silane coupling agents, titanate coupling agents, and aluminum coupling agents.

樹脂組成物における第1,第2のシリカの分散性をより一層高める観点からは、上記カップリング剤は、シランカップリング剤であることが好ましい。上記シランカップリング剤としては、エポキシシラン、フェニルシラン、アミノシラン、及びイミダゾールシラン等が挙げられる。樹脂組成物における第1,第2のシリカの分散性をさらに一層高める観点からは、上記第1,第2のシリカの内の少なくとも一方は、エポキシシランカップリング剤により処理されていることが好ましく、第1のシリカがエポキシシランカップリング剤により処理されていることがより好ましい。該エポキシシランカップリング剤は、エポキシ基を有するシランカップリング剤であり、例えば、エポキシシランである。   From the viewpoint of further enhancing the dispersibility of the first and second silica in the resin composition, the coupling agent is preferably a silane coupling agent. Examples of the silane coupling agent include epoxy silane, phenyl silane, amino silane, and imidazole silane. From the viewpoint of further enhancing the dispersibility of the first and second silicas in the resin composition, at least one of the first and second silicas is preferably treated with an epoxy silane coupling agent. More preferably, the first silica is treated with an epoxy silane coupling agent. The epoxy silane coupling agent is a silane coupling agent having an epoxy group, for example, epoxy silane.

樹脂組成物又は成形体の表面の平滑性、並びに穴埋め性又は凹凸追従性をより一層高める観点からは、樹脂組成物100重量%(樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、第1,第2のシリカの合計の含有量は25〜80重量%の範囲内であることが好ましい。樹脂組成物100重量%(樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、第1,第2のシリカの合計の含有量のより好ましい下限は35重量%、更に好ましい下限は45重量%、より好ましい上限は75重量%、更に好ましい上限は65重量%である。   From the viewpoint of further improving the smoothness of the surface of the resin composition or the molded body, as well as hole filling or unevenness followability, in 100% by weight of the resin composition (excluding the solvent when the resin composition contains a solvent), The total content of the first and second silica is preferably in the range of 25 to 80% by weight. In 100% by weight of the resin composition (excluding the solvent when the resin composition contains a solvent), the more preferable lower limit of the total content of the first and second silicas is 35% by weight, and the more preferable lower limit is 45%. %, A more preferred upper limit is 75% by weight, and a still more preferred upper limit is 65% by weight.

(他の成分)
耐衝撃性、耐熱性、樹脂の相溶性及び作業性等の改善を目的として、樹脂組成物には、着色剤、酸化防止剤、紫外線劣化防止剤、消泡剤、増粘剤、揺変性付与剤及び上記エポキシ樹脂以外の他の樹脂等を添加してもよい。
(Other ingredients)
For the purpose of improving impact resistance, heat resistance, resin compatibility, workability, etc., the resin composition is provided with a colorant, an antioxidant, an ultraviolet degradation inhibitor, an antifoaming agent, a thickener, and thixotropic properties. You may add other resin other than an agent and the said epoxy resin.

上記他の樹脂としては、ポリフェニレンエーテル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリブチラール樹脂、ジビニルベンジルエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、ベンゾオキサゾール樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネート樹脂及びアクリレート樹脂等が挙げられる。   Examples of other resins include polyphenylene ether resin, phenoxy resin, polyacetal resin, polybutyral resin, divinyl benzyl ether resin, polyarylate resin, diallyl phthalate resin, polyimide resin, benzoxazine resin, benzoxazole resin, bismaleimide resin, cyanate Examples thereof include resins and acrylate resins.

本発明に係る樹脂組成物は、溶剤を含んでいてもよい。上記溶剤としては、アセトン、メタノール、エタノール、ブタノール、2−プロパノール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、2−アセトキシ−1−メトキシプロパン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、メチルイソブチルケトン、N−メチル−ピロリドン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン及び混合物であるナフサ等が挙げられる。上記溶剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The resin composition according to the present invention may contain a solvent. Examples of the solvent include acetone, methanol, ethanol, butanol, 2-propanol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 1-methoxy-2-propanol, 2-acetoxy-1-methoxypropane, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, Examples thereof include N, N-dimethylformamide, methyl isobutyl ketone, N-methyl-pyrrolidone, n-hexane, cyclohexane, cyclohexanone, and naphtha as a mixture. As for the said solvent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

溶剤を含む樹脂組成物はワニスとして用いることができる。用途に応じて溶剤の含有量を調整することにより、ワニスの粘度を調整できる。上記樹脂組成物の固形分100重量部に対して、上記溶剤の含有量は、10〜1000重量部の範囲内であることが好ましい。   The resin composition containing a solvent can be used as a varnish. The viscosity of the varnish can be adjusted by adjusting the solvent content according to the application. The content of the solvent is preferably in the range of 10 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the resin composition.

(成形体)
本発明に係る樹脂組成物をシート状に成形することにより、成形体を得ることができる。
(Molded body)
A molded body can be obtained by molding the resin composition according to the present invention into a sheet shape.

上記樹脂組成物をシート状に成形する方法は、特に限定されない。この方法としては、例えば、押出機を用いて、上記樹脂組成物を溶融混練し、押出した後、Tダイ又はサーキュラーダイ等により、シート状に成形する押出成形法、溶剤を含む樹脂組成物をキャスティングしてシート状に成形するキャスティング成形法、又は従来公知のその他のシート成形法等が挙げられる。なかでも、薄型化を進めることができるので、押出成形法又はキャスティング成形法が好ましい。   The method for forming the resin composition into a sheet is not particularly limited. As this method, for example, using an extruder, the above resin composition is melt-kneaded, extruded, and then molded into a sheet shape with a T die or a circular die, or a resin composition containing a solvent. Examples thereof include a casting molding method in which a casting is performed to form a sheet, or other conventionally known sheet molding methods. Of these, the extrusion molding method or the casting molding method is preferable because the thickness can be reduced.

成形体の取扱い性を高めたり、適度な厚みの硬化物層を形成したりする観点からは、成形体の厚みは5〜100μmの範囲内であることが好ましい。   From the viewpoint of enhancing the handleability of the molded body or forming a cured product layer having an appropriate thickness, the thickness of the molded body is preferably in the range of 5 to 100 μm.

(樹脂組成物及び成形体の硬化物)
金属層が形成される硬化物の表面に微細な凹凸を形成するために、上記樹脂組成物又は上記成形体を予備硬化させ、半硬化した硬化物を得てもよい。適度に予備硬化させるためには、上記樹脂組成物又は上記成形体を130〜190℃で30分以上加熱し、硬化させることが好ましい。
(Hardened product of resin composition and molded body)
In order to form fine irregularities on the surface of the cured product on which the metal layer is formed, the resin composition or the molded body may be pre-cured to obtain a semi-cured cured product. In order to pre-cure appropriately, it is preferable to cure the resin composition or the molded body by heating at 130 to 190 ° C. for 30 minutes or more.

予備硬化温度が130℃よりも低いと、樹脂組成物及び成形体が充分に硬化されないため、粗化処理後の硬化物の表面の凹凸が大きくなる。予備硬化温度が190℃よりも高いと、樹脂組成物及び成形体の硬化反応が急速に進行しやすい。このため、硬化度が部分的に異なりやすく、粗い部分と密な部分とが形成されやすい。その結果、粗化処理後の硬化物の表面の凹凸が大きくなる。予備硬化時間が30分よりも短いと、樹脂組成物及び成形体が充分に硬化されないため、粗化処理後の硬化物の表面の凹凸が大きくなる。生産性を高めることができるので、予備硬化時間は、1時間以下であることが好ましい。   When the pre-curing temperature is lower than 130 ° C., the resin composition and the molded body are not sufficiently cured, so that the unevenness of the surface of the cured product after the roughening treatment becomes large. When the preliminary curing temperature is higher than 190 ° C., the curing reaction of the resin composition and the molded body tends to proceed rapidly. For this reason, the degree of curing tends to be partially different, and a rough portion and a dense portion are likely to be formed. As a result, the unevenness of the surface of the cured product after the roughening treatment is increased. When the pre-curing time is shorter than 30 minutes, the resin composition and the molded body are not sufficiently cured, so that the unevenness of the surface of the cured product after the roughening treatment becomes large. Since productivity can be improved, it is preferable that pre-curing time is 1 hour or less.

得られた硬化物の表面に微細な凹凸を形成するために、硬化物が粗化処理される。該粗化処理される前に、硬化物が膨潤処理されることが好ましい。ただし、硬化物は、必ずしも膨潤処理されなくてもよい。   In order to form fine irregularities on the surface of the obtained cured product, the cured product is roughened. It is preferable that the cured product is subjected to a swelling treatment before the roughening treatment. However, the cured product is not necessarily subjected to the swelling treatment.

上記膨潤処理方法としては、例えば、エチレングリコールなどを主成分とする化合物の水溶液又は有機溶媒分散溶液などにより、硬化物を処理する方法が用いられる。具体的には、上記膨潤処理は、40重量%エチレングリコール水溶液等を用いて、処理温度30〜85℃で1〜20分間、硬化物を処理することにより行なわれる。   As the swelling treatment method, for example, a method of treating a cured product with an aqueous solution or an organic solvent dispersion solution of a compound mainly composed of ethylene glycol or the like is used. Specifically, the swelling treatment is carried out by treating the cured product with a 40 wt% ethylene glycol aqueous solution or the like at a treatment temperature of 30 to 85 ° C. for 1 to 20 minutes.

上記粗化処理には、例えば、マンガン化合物、クロム化合物又は過硫酸化合物などの化学酸化剤等が用いられる。これらの化学酸化剤は、水又は有機溶剤が添加された後、水溶液又は有機溶媒分散溶液として用いられる。   For the roughening treatment, for example, a chemical oxidizing agent such as a manganese compound, a chromium compound, or a persulfuric acid compound is used. These chemical oxidizers are used as an aqueous solution or an organic solvent dispersion after water or an organic solvent is added.

上記マンガン化合物としては、過マンガン酸カリウム又は過マンガン酸ナトリウム等が挙げられる。上記クロム化合物としては、重クロム酸カリウム又は無水クロム酸カリウム等が挙げられる。上記過硫酸化合物としては、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム又は過硫酸アンモニウム等が挙げられる。   Examples of the manganese compound include potassium permanganate and sodium permanganate. Examples of the chromium compound include potassium dichromate and anhydrous potassium chromate. Examples of the persulfate compound include sodium persulfate, potassium persulfate, and ammonium persulfate.

上記粗化処理方法は特に限定されない。上記粗化処理方法として、例えば、30〜90g/L過マンガン酸又は過マンガン酸塩溶液及び30〜90g/L水酸化ナトリウム溶液を用いて、処理温度30〜85℃及び1〜10分間の条件で、1回又は2回、硬化物を処理する方法が好適である。粗化処理の回数が多いと粗化効果も大きい。しかしながら、粗化処理の回数が3回を超えると、粗化効果が飽和することがあり、又は硬化物の表面の樹脂成分が必要以上に削られて、硬化物の表面にシリカ成分が脱離した形状の孔が形成されにくくなる。   The roughening treatment method is not particularly limited. As the roughening treatment method, for example, using a 30 to 90 g / L permanganate or permanganate solution and a 30 to 90 g / L sodium hydroxide solution, a treatment temperature of 30 to 85 ° C. and a condition of 1 to 10 minutes And the method of processing hardened | cured material once or twice is suitable. When the number of roughening treatments is large, the roughening effect is large. However, if the number of times of roughening treatment exceeds 3, the roughening effect may be saturated, or the resin component on the surface of the cured product is scraped more than necessary, and the silica component is detached from the surface of the cured product. It becomes difficult to form holes having the shape.

(樹脂組成物及び成形体の用途)
本発明に係る樹脂組成物及び成形体の用途は、特に限定されない。上記樹脂組成物は、例えば、多層基板のコア層又はビルドアップ層等を形成する基板用材料、接着シート、積層板、樹脂付き銅箔、銅張積層板、TAB用テープ、プリント基板、プリプレグ又はワニス等に好適に用いられる。
(Use of resin composition and molded body)
Applications of the resin composition and the molded body according to the present invention are not particularly limited. The resin composition is, for example, a substrate material for forming a core layer or a buildup layer of a multilayer substrate, an adhesive sheet, a laminate, a copper foil with resin, a copper clad laminate, a TAB tape, a printed board, a prepreg, or It is suitably used for varnishes and the like.

本発明に係る樹脂組成物及び成形体は、例えば、多層プリント基板、部品内蔵型プリント基板などにおいて、凹凸パターン、スルーホール又はビアホールを表面に有する基板用材料に加熱及び加圧して塗布又はラミネートするために用いることができる。   The resin composition and the molded body according to the present invention are applied or laminated by heating and pressing a substrate material having a concavo-convex pattern, a through hole or a via hole on a surface thereof, for example, in a multilayer printed board or a component built-in printed board. Can be used for

以下、実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by giving examples and comparative examples. The present invention is not limited to the following examples.

実施例及び比較例では、以下に示す材料を用いた。     In the examples and comparative examples, the following materials were used.

(エポキシ樹脂)
エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ジャパンエポキシレジン社製「エピコート154」)
エポキシ樹脂(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、日本化薬社製「RE−410S」)
(Epoxy resin)
Epoxy resin (phenol novolac type epoxy resin, “Epicoat 154” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
Epoxy resin (bisphenol A type epoxy resin, “RE-410S” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

(硬化剤)
シアネート化合物含有溶液(ロンザジャパン社製「BA230S−75」、シアネート化合物(固形分)75重量%、溶媒(メチルエチルケトン)25重量%)
(Curing agent)
Cyanate compound-containing solution ("BA230S-75" manufactured by Lonza Japan Co., Ltd., cyanate compound (solid content) 75 wt%, solvent (methyl ethyl ketone) 25 wt%)

(硬化促進剤)
イミダゾール化合物(2−フェニル−4−メチルイミダゾール、四国化成社製「2P4MZ」)
2価コバルト錯体(和光純薬社製、コバルト(II)アセチルアセトネート)
(Curing accelerator)
Imidazole compound (2-phenyl-4-methylimidazole, “2P4MZ” manufactured by Shikoku Chemicals)
Divalent cobalt complex (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Cobalt (II) acetylacetonate)

(高分子)
高分子(フェノキシ樹脂、ジャパンエポキシレジン社製「YX6954−BH30」)
(High molecular)
Polymer (phenoxy resin, “YX6954-BH30” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)

(シリカ成分)
第1のシリカ含有スラリー:
第1のシリカ70重量部と、溶剤(メチルエチルケトン)30重量部とを含む第1のシリカ含有スラリー
(Silica component)
First silica-containing slurry:
First silica-containing slurry containing 70 parts by weight of first silica and 30 parts by weight of solvent (methyl ethyl ketone)

シリカ(アドマテックス社製「SC2050−MTF」、平均粒子径0.5μm)40重量部と純水60重量部とをよく混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテル200重量部を加えよく混合した。更にエポキシシラン(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業社製「KBM−403」)5重量部を加えよく攪拌した後、ろ過し、処理された第1のシリカを得た。ろ液中のシランの量を測定し、シリカ100重量部がエポキシシラン1.5重量部で表面処理されたことを確認した。得られた第1のシリカ70重量部をメチルエチルケトン30重量部に加えよく攪拌し、第1のシリカ含有スラリーを調製した。   40 parts by weight of silica (“Advertex Corporation SC2050-MTF”, average particle size 0.5 μm) and 60 parts by weight of pure water were mixed well, and 200 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether was added and mixed well. Further, 5 parts by weight of epoxysilane (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, “KBM-403” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added and stirred well, followed by filtration to obtain a treated first silica. The amount of silane in the filtrate was measured, and it was confirmed that 100 parts by weight of silica was surface-treated with 1.5 parts by weight of epoxy silane. 70 parts by weight of the obtained first silica was added to 30 parts by weight of methyl ethyl ketone and stirred well to prepare a first silica-containing slurry.

第2のシリカ含有スラリー:
第2のシリカ20重量部と、溶剤(メチルエチルケトン)80重量部とを含む第2のシリカ含有スラリー
Second silica-containing slurry:
Second silica-containing slurry containing 20 parts by weight of second silica and 80 parts by weight of solvent (methyl ethyl ketone)

第2のシリカ(シリカ(アドマテックス社製「SX007−MDF」、平均粒子径0.01μm)が、フェニルシラン(フェニルトリメトキシシラン、信越化学工業社製「KBM−103」)により、シリカ100重量部に対してフェニルシラン15重量部で表面処理されたもの)20重量部と、溶剤(メチルエチルケトン)80重量部とを含む第2のシリカ含有スラリーは、シリカ及びシランカップリング剤の種類を変更したこと以外は第1のシリカと同様にして処理された第2のシリカを得、該第2のシリカを用いて調製した。   The second silica (silica (“SX007-MDF” manufactured by Admatechs Co., Ltd., average particle diameter of 0.01 μm) is converted to 100 weight silica by phenylsilane (phenyltrimethoxysilane, “KBM-103” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). The second silica-containing slurry containing 20 parts by weight of a part (surface-treated with 15 parts by weight of phenylsilane with respect to parts) and 80 parts by weight of a solvent (methyl ethyl ketone) changed the types of silica and silane coupling agents. Except for the above, a second silica treated in the same manner as the first silica was obtained and prepared using the second silica.

(溶剤)
メチルエチルケトン(三協化学社製)
(solvent)
Methyl ethyl ketone (manufactured by Sankyo Chemical Co., Ltd.)

(実施例1)
メチルエチルケトン50重量部に、エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ジャパンエポキシレジン社製「エピコート154」)32.00重量部と、第1のシリカ含有スラリーを固形分で47.50重量部と、第2のシリカ含有スラリーを固形分で2.50重量部と、高分子(フェノキシ樹脂、ジャパンエポキシレジン社製「YX6954−BH30」)7.50重量部とを加え、撹拌機を用いて1200rpmで1時間撹拌した。
Example 1
To 50 parts by weight of methyl ethyl ketone, 32.00 parts by weight of an epoxy resin (phenol novolac type epoxy resin, “Epicoat 154” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 47.50 parts by weight of the first silica-containing slurry in solids, 2. Silica-containing slurry of 2.50 parts by weight in solid content and 7.50 parts by weight of a polymer (phenoxy resin, “YX6954-BH30” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) are added, and 1 at 1200 rpm using a stirrer. Stir for hours.

次に、シアネート化合物含有溶液(ロンザジャパン社製「BA230S−75」、シアネート化合物(固形分)75重量%、溶媒(メチルエチルケトン)25重量%)を固形分で10.00重量部をさらに加え、撹拌機を用いて1200rpmで90分間撹拌した。   Next, 10.00 parts by weight of a solid content of a cyanate compound-containing solution (“BA230S-75” manufactured by Lonza Japan Co., Ltd., cyanate compound (solid content) 75 wt%, solvent (methyl ethyl ketone) 25 wt%)) is added and stirred. The mixture was stirred for 90 minutes at 1200 rpm.

その後、イミダゾール化合物(2−フェニル−4−メチルイミダゾール、四国化成社製「2P4MZ」)0.50重量部をさらに加え、撹拌機を用いて1200rpmで10分間撹拌し、樹脂組成物を得た。   Thereafter, 0.50 part by weight of an imidazole compound (2-phenyl-4-methylimidazole, “2P4MZ” manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.) was further added, followed by stirring at 1200 rpm for 10 minutes using a stirrer to obtain a resin composition.

塗工機を用いて、ポリエチレンテレフタレート製フィルム上に樹脂組成物を塗工した。100℃のギアオーブン内で3分間乾燥し、溶剤を揮発させた。このようにして、PETフィルム上に厚さ50μmのシート状の成形体を得た。   The resin composition was coated on a polyethylene terephthalate film using a coating machine. The solvent was volatilized by drying in a gear oven at 100 ° C. for 3 minutes. In this manner, a sheet-like molded body having a thickness of 50 μm was obtained on the PET film.

(実施例2〜14及び比較例1〜5)
使用した材料の種類及び配合量を下記の表1に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、樹脂組成物及び成形体を得た。
(Examples 2-14 and Comparative Examples 1-5)
A resin composition and a molded body were obtained in the same manner as in Example 1 except that the type and blending amount of the materials used were changed as shown in Table 1 below.

(評価)
(1)埋め込み性1
銅張り積層板(厚さ150μmのガラスエポキシ基板と厚さ25μmの銅箔との積層体)に、直径150μm及び深さ50μmの25個の穴を、直線上にかつ隣接する穴の中心の間隔が500μmになるように開けて、穴開き基板を得た。
(Evaluation)
(1) Embeddability 1
A copper-clad laminate (a laminate of a glass epoxy substrate having a thickness of 150 μm and a copper foil having a thickness of 25 μm) is provided with 25 holes having a diameter of 150 μm and a depth of 50 μm on a straight line and the distance between the centers of adjacent holes. Was made to be 500 μm to obtain a perforated substrate.

実施例及び比較例で得られた成形体(厚さ50μm)と穴開き基板とを重ねて、名機製作所製真空加圧式ラミネーター機(型番MVLP−500)を用い、ラミネート圧0.4MPaで20秒、プレス圧力0.8MPaで20秒、ラミネート及びプレスの温度90℃で加熱加圧した。常温で冷却した後、ポリエチレンテレフタレート製フィルムを剥離した。このようにして、穴開き基板上に成形体が積層されている積層体を得た。   The molded bodies (thickness 50 μm) obtained in the examples and comparative examples were stacked with a perforated substrate, and a vacuum pressurization laminator machine (model number MVLP-500) manufactured by Meiki Seisakusho was used. Second, pressurization was performed at a press pressure of 0.8 MPa for 20 seconds, and a laminating and pressing temperature of 90 ° C. After cooling at room temperature, the polyethylene terephthalate film was peeled off. Thus, the laminated body by which the molded object was laminated | stacked on the perforated board | substrate was obtained.

得られた積層体において、穴開き基板の穴がない部分に対応する成形体部分を標準として、穴開き基板の穴がある部分に対応する成形体部分の上面の凹みの程度を測定した。なお、凹凸の計測は、表面粗さ計(商品名「SJ−301」、ミツトヨ社製)により行った。   In the obtained laminate, the degree of dents on the upper surface of the molded body portion corresponding to the holed portion of the perforated substrate was measured using the molded body portion corresponding to the holeless substrate as a standard. The unevenness was measured with a surface roughness meter (trade name “SJ-301”, manufactured by Mitutoyo Corporation).

穴開き基板の穴がある部分に対応する成形体部分25箇所中、凹みが無い箇所と、凹みがあるものの、穴の中心線上の凹みの深さが1μm以内である箇所との合計数T1を数えて、埋め込み性1を下記の判定基準で判定した。合計数T1が多いほど、穴に対する埋め込み性が優れていることを示す。   Of the 25 parts of the molded body corresponding to the holed portion of the perforated substrate, the total number T1 of the places where there is no dent and the places where there is a dent but the depth of the dent on the center line of the hole is within 1 μm The embedding property 1 was determined according to the following criteria. The larger the total number T1, the better the embedding in the hole.

[埋め込み性1の判定基準]
A:合計数T1が25
B:合計数T1が23〜24
C:合計数T1が20〜22
D:合計数T1が0〜19
[Criteria for Embedding 1]
A: Total number T1 is 25
B: Total number T1 is 23-24
C: Total number T1 is 20-22
D: Total number T1 is 0 to 19

(2)埋め込み性2
銅張り積層板(厚さ150μmのガラスエポキシ基板と厚さ25μmの銅箔との積層体)を用意した。銅箔をエッチング処理し、L/Sが50μm/50μm及び長さが1cmである銅パターンを26本作製し、凹凸基板を得た。
(2) Embeddability 2
A copper-clad laminate (a laminate of a 150 μm thick glass epoxy substrate and a 25 μm thick copper foil) was prepared. The copper foil was etched to produce 26 copper patterns having an L / S of 50 μm / 50 μm and a length of 1 cm to obtain an uneven substrate.

実施例及び比較例で得られた成形体(厚さ50μm)と凹凸基板とを重ねて、名機製作所製真空加圧式ラミネーター機(型番MVLP−500)を用い、ラミネート圧0.4MPaで20秒、プレス圧力0.8MPaで20秒、ラミネート及びプレスの温度90℃で加熱加圧した。常温で冷却した後、ポリエチレンテレフタレート製フィルムを剥離した。このようにして、凹凸基板上に成形体が積層されている積層体を得た。   The molded bodies (thickness: 50 μm) obtained in the examples and comparative examples were stacked with the concavo-convex substrate, and a vacuum pressurization laminator machine (model number MVLP-500) manufactured by Meiki Seisakusho was used for 20 seconds at a laminating pressure of 0.4 MPa. The laminate was heated and pressed at a pressing pressure of 0.8 MPa for 20 seconds and at a laminating and pressing temperature of 90 ° C. After cooling at room temperature, the polyethylene terephthalate film was peeled off. Thus, the laminated body by which the molded object was laminated | stacked on the uneven substrate was obtained.

得られた積層体において、凹凸基板の銅パターンがある部分に対応する成形体部分を標準として、凹凸基板の銅パターン間の銅パターンがない部分に対応する成形体部分の上面の凹みの程度を測定した。なお、凹凸の計測は、表面粗さ計(商品名「SJ−301」、ミツトヨ社製)により行った。   In the obtained laminate, the degree of the depression on the upper surface of the molded part corresponding to the part where there is no copper pattern between the copper patterns of the concave and convex board, with the molded part corresponding to the part with the copper pattern of the concave and convex board as a standard. It was measured. The unevenness was measured with a surface roughness meter (trade name “SJ-301”, manufactured by Mitutoyo Corporation).

凹凸基板の銅パターンがない部分に対応する成形体部分25箇所中、凹みが無い箇所と、凹みがあるものの、銅パターン間の中央線上の凹みの深さが1μm以内である箇所との合計数T2を数えて、埋め込み性2を下記の判定基準で判定した。合計数T2が多いほど、凹凸に対する埋め込み性が優れていることを示す。   The total number of places where there are no dents and 25 places where the depth of the dent on the center line between the copper patterns is within 1 μm among the 25 parts of the molded body corresponding to the part where there is no copper pattern on the uneven substrate T2 was counted, and embedding property 2 was determined according to the following criteria. The larger the total number T2, the better the embedding with respect to the unevenness.

[埋め込み性2の判定基準]
A:合計数T2が25
B:合計数T2が23〜24
C:合計数T2が20〜22
D:合計数T2が0〜19
[Evaluation criteria for embedding 2]
A: Total number T2 is 25
B: Total number T2 is 23-24
C: Total number T2 is 20-22
D: Total number T2 is 0 to 19

(3)保存安定性
粘弾性測定装置(ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン社製「AR2000ex」)を用いて、得られた直後の成形体の80℃における粘度η*を測定した。
(3) Storage stability Using a viscoelasticity measuring apparatus ("AR2000ex" manufactured by TA Instruments Japan Co., Ltd.), the viscosity η * at 80 ° C of the molded article immediately after it was obtained was measured.

次に、成形体を24℃で3日間放置した。放置後の成形体の80℃における粘度η*を測定した。   Next, the molded body was left at 24 ° C. for 3 days. The viscosity η * at 80 ° C. of the molded product after standing was measured.

得られた粘度η*の測定値から、保存安定性を下記の判定基準で判定した。   From the measured value of the obtained viscosity η *, the storage stability was determined according to the following criteria.

[保存安定性の判定基準]
A:得られた直後の成形体の粘度η*に対して、放置後の成形体の粘度η*の変化が5%以下
B:得られた直後の成形体の粘度η*に対して、放置後の成形体の粘度η*の変化が5%を超える
[Criteria for storage stability]
A: Change in viscosity η * of the molded body after standing is 5% or less with respect to the viscosity η * of the molded body immediately after being obtained. B: Standing with respect to the viscosity η * of the molded body immediately after being obtained. The change in the viscosity η * of the molded body after that exceeds 5%

(4)算術平均粗さRa(表面粗さ)
〔樹脂シートの未硬化物の作製〕
離型処理された透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(商品名「PET5011 550」、厚み50μm、リンテック社製)を用意した。このPETフィルム上にアプリケーターを用いて、乾燥後の厚みが50μmとなるように、得られた実施例及び比較例の樹脂組成物を塗工した。次に、100℃のギアオーブン内で12分間乾燥して、200mm×200mmの面積を有する厚み50μmの樹脂シートの未硬化物を作製した。作製した樹脂シートの未硬化物を用いて、以下の半硬化体A1を有する積層体A及び半硬化体A2を作製した。
(4) Arithmetic average roughness Ra (surface roughness)
[Preparation of uncured resin sheet]
A release-treated transparent polyethylene terephthalate (PET) film (trade name “PET5011 550”, thickness 50 μm, manufactured by Lintec Corporation) was prepared. Using the applicator on this PET film, the obtained resin compositions of Examples and Comparative Examples were applied so that the thickness after drying was 50 μm. Next, it was dried in a gear oven at 100 ° C. for 12 minutes to prepare an uncured product of a resin sheet having an area of 200 mm × 200 mm and a thickness of 50 μm. A laminate A and a semi-cured body A2 having the following semi-cured bodies A1 were produced using the uncured product of the produced resin sheet.

〔半硬化体A1を有する積層体Aの作製〕
ガラスエポキシ基板上に、銅厚みが25μm、パターン長が3cm、かつL/S=75μm/75μmのパターンが10本形成された回路基板を用意した。この回路基板上に、得られた樹脂シートの未硬化物を、真空ラミネートした。真空ラミネートに際し、真空ラミネータ(名機製作所社製、MVLP−500)を用いて、90℃、0.6MPa、真空40秒及び加圧40秒のラミネート条件によりラミネートした。なお、後述の真空ラミネートの際にも、同様の条件によりラミネートした。その後、樹脂シートの未硬化物を150℃で1時間予備硬化させ、樹脂シートの未硬化物が半硬化した半硬化体A1と回路基板とからなる積層体Aを得た。
[Preparation of laminate A having semi-cured product A1]
A circuit board was prepared on a glass epoxy substrate having a copper thickness of 25 μm, a pattern length of 3 cm, and 10 patterns of L / S = 75 μm / 75 μm. An uncured product of the obtained resin sheet was vacuum laminated on the circuit board. At the time of vacuum lamination, lamination was performed using a vacuum laminator (MVLP-500, manufactured by Meiki Seisakusho Co., Ltd.) under lamination conditions of 90 ° C., 0.6 MPa, vacuum 40 seconds, and pressure 40 seconds. It should be noted that lamination was performed under the same conditions when vacuum laminating described later. Thereafter, the uncured product of the resin sheet was precured at 150 ° C. for 1 hour to obtain a laminate A composed of a semi-cured product A1 and a circuit board obtained by semi-curing the uncured product of the resin sheet.

その後、得られた積層体Aの半硬化体A1の表面を、下記の(a)膨潤処理をした後、下記の(b)過マンガン酸塩処理すなわち粗化処理をした。   Thereafter, the surface of the semi-cured body A1 of the obtained laminate A was subjected to the following (a) swelling treatment, and then the following (b) permanganate treatment, that is, roughening treatment.

(a)膨潤処理:
得られた積層体Aを80℃の膨潤液(スウェリングディップセキュリガントP、アトテックジャパン社製)に入れて、10分間揺動した。その後、純水で洗浄した。
(A) Swelling treatment:
The obtained laminate A was placed in a swelling liquid at 80 ° C. (Swelling Dip Securigant P, manufactured by Atotech Japan) and rocked for 10 minutes. Thereafter, it was washed with pure water.

(b)過マンガン酸塩処理(粗化処理):
膨潤処理された積層体Aを80℃の過マンガン酸カリウム(コンセントレートコンパクトCP、アトテックジャパン社製)粗化水溶液に入れて、10分間揺動した。その後、25℃の洗浄液(リダクションセキュリガントP、アトテックジャパン社製)により2分間洗浄し、純水でさらに洗浄した。表面が粗化処理された半硬化体A2を得た。
(B) Permanganate treatment (roughening treatment):
The swelled laminate A was placed in a 80 ° C. potassium permanganate (concentrate compact CP, manufactured by Atotech Japan) roughened aqueous solution and rocked for 10 minutes. Then, it wash | cleaned for 2 minutes with the washing | cleaning liquid (Reduction securigant P, the Atotech Japan company make) of 25 degreeC, and also wash | cleaned further with the pure water. A semi-cured product A2 having a roughened surface was obtained.

〔算術平均粗さRaの測定〕
非接触式の表面粗さ計(商品名「WYKO」、ビーコ社製)を用いて、表面が粗化処理された上記半硬化体A2の表面の算術平均粗さRaを測定した。算術平均粗さRaはJIS B 0601−1994に従った。
[Measurement of arithmetic average roughness Ra]
Using a non-contact type surface roughness meter (trade name “WYKO”, manufactured by Beiko Co., Ltd.), the arithmetic average roughness Ra of the surface of the semi-cured product A2 whose surface was roughened was measured. Arithmetic mean roughness Ra conformed to JIS B 0601-1994.

結果を下記の表1に示す。   The results are shown in Table 1 below.

Figure 2011178858
Figure 2011178858

なお、樹脂組成物にかえて該樹脂組成物をシート状に成形した成形体を用いて、上記半硬化体A2を作製した場合でも、実施例及び比較例における算術平均粗さRaの大きさについては、同様の傾向が見られた。   In addition, even when the semi-cured body A2 is produced using a molded body obtained by molding the resin composition into a sheet shape instead of the resin composition, the arithmetic average roughness Ra in Examples and Comparative Examples A similar trend was seen.

Claims (10)

エポキシ樹脂と、
シアネート化合物と、
平均粒子径が0.1μm以上、10μm以下の第1のシリカと、
平均粒子径が1nm以上、100nm未満の第2のシリカとを含み、
前記第1のシリカ100重量部に対する前記第2のシリカの含有量が0.7〜30重量部である、樹脂組成物。
Epoxy resin,
A cyanate compound;
A first silica having an average particle size of 0.1 μm or more and 10 μm or less;
A second silica having an average particle diameter of 1 nm or more and less than 100 nm,
The resin composition whose content of the said 2nd silica with respect to 100 weight part of said 1st silicas is 0.7-30 weight part.
樹脂組成物100重量%(樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、前記第1,第2のシリカの合計の含有量が25〜80重量%であり、
樹脂組成物に含まれている樹脂成分の合計100重量部に対して、前記第2のシリカの含有量が0.45〜24.5重量部である、請求項1に記載の樹脂組成物。
In 100% by weight of the resin composition (excluding the solvent when the resin composition contains a solvent), the total content of the first and second silicas is 25 to 80% by weight,
2. The resin composition according to claim 1, wherein the content of the second silica is 0.45 to 24.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total resin components contained in the resin composition.
樹脂組成物100重量%(樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、前記第1,第2のシリカの合計の含有量が45〜75重量%である、請求項2に記載の樹脂組成物。   The total content of the first and second silicas is 45 to 75% by weight in 100% by weight of the resin composition (excluding the solvent when the resin composition includes a solvent). Resin composition. 樹脂組成物に含まれている樹脂成分の合計100重量部に対して、前記第2のシリカの含有量が4〜18重量部である、請求項2又は3に記載の樹脂組成物。   The resin composition of Claim 2 or 3 whose content of a said 2nd silica is 4-18 weight part with respect to a total of 100 weight part of the resin component contained in the resin composition. 前記第1のシリカ100重量部に対して、前記第2のシリカの含有量が0.1〜15重量部である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein a content of the second silica is 0.1 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the first silica. 前記第1のシリカ100重量部に対して、前記第2のシリカの含有量が1〜15重量部である、請求項5に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 5, wherein the content of the second silica is 1 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the first silica. 前記第1,第2のシリカが、シランカップリング剤により処理されている、請求項1〜6のいずれか1項に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the first and second silicas are treated with a silane coupling agent. 前記第1,第2のシリカの内の少なくとも一方が、エポキシシランカップリング剤により処理されている、請求項7に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 7, wherein at least one of the first and second silicas is treated with an epoxy silane coupling agent. 請求項1〜8のいずれか1項に記載の樹脂組成物がシート状に成形された成形体。   The molded object in which the resin composition of any one of Claims 1-8 was shape | molded in the sheet form. 厚さが5〜100μmである、請求項9に記載の成形体。   The molded object of Claim 9 whose thickness is 5-100 micrometers.
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