JP2012059859A - 半導体デバイス - Google Patents
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Abstract
【課題】発熱による損失を低減可能な半導体デバイスを提供する。
【解決手段】基材19と該基材19上に形成された回路素子15とを備える半導体デバイス17であって、該基材19は、四角形の四隅に切り落とし部71が形成された形状であることを特徴とする。これによって、半導体デバイス17は、四角形の四隅に切り落とし部72が形成されているため、高電圧が印可されても電界が集中することがなく、発熱による損失を低減することができる
。発熱問題を低減することによって、実装の小型化も可能になり、パワー半導体デバイスの応用範囲もひろげられる。
【選択図】図5
【解決手段】基材19と該基材19上に形成された回路素子15とを備える半導体デバイス17であって、該基材19は、四角形の四隅に切り落とし部71が形成された形状であることを特徴とする。これによって、半導体デバイス17は、四角形の四隅に切り落とし部72が形成されているため、高電圧が印可されても電界が集中することがなく、発熱による損失を低減することができる
。発熱問題を低減することによって、実装の小型化も可能になり、パワー半導体デバイスの応用範囲もひろげられる。
【選択図】図5
Description
本発明は、基材と該基材上に形成された回路素子とを備える半導体デバイスに関する。
半導体デバイスの製造プロセスでは、例えばシリコンからなるウエーハ上に分割予定ラインが格子状に形成され、分割予定ラインで区画された各領域にICやLSI等の回路素子が形成される。
その後、回路素子が形成されたウエーハを分割予定ラインに沿って分割することで半導体デバイスを製造している。このようにして製造された半導体デバイスは種々の電気機器に広く利用されている。
電気機器は、供給された電気エネルギーを動力エネルギー、熱エネルギー、光エネルギー等に変換するためのトランジスタやダイオード等、パワーデバイスと呼ばれる半導体デバイスを備えている。
近年、電気機器の省エネルギー化のためにもパワーデバイスの電力損失を抑えることが重要な課題となっている。そこで、従来のシリコンに代わって高耐圧、低損失、高温動作を可能とし、ワイドバンドギャップを有するGaN(窒化ガリウム)やSiC(炭化シリコン)をパワーデバイスに利用すべく、研究開発が進められている(特表2002−519851号公報参照)。
ところが、GaNやSiC等のバンドギャップが大きい材質からなるパワーデバイスでは、従来のシリコンからなるパワーデバイスに比べて高電圧が印加される。そのため、従来のパワーデバイスのように、格子状に形成された分割予定ラインに沿って分割した四角形の形状では、角に電界が集中し易くなる。電界集中による素子内部の発熱は、電子の移動度低下や電流低下を引き起こし、結果的に素子の動作速度の低下を招くという問題が生じる。
例えば、電荷Qを持った半径Rの導体球の表面での電界の強さEは、以下の式で計算できる。ここで、Vは導体球の電位、ε0は真空中での誘電率である。
E=Q/(4πε0R2)・・・・・・(1)
V=Q/(4πε0R)・・・・・・(2)
(1)式と(2)式から、E=V/R
即ち、半径Rが大きいほど電界Eが弱いことが分かる。
V=Q/(4πε0R)・・・・・・(2)
(1)式と(2)式から、E=V/R
即ち、半径Rが大きいほど電界Eが弱いことが分かる。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、発熱による損失を低減可能な半導体デバイスを提供することである。
本発明によると、基材と該基材上に形成された回路素子とを備える半導体デバイスであって、該基材は、四角形の四隅に切り落とし部が形成された形状であることを特徴とする半導体デバイスが提供される。
好ましくは、回路素子は電力用回路素子から構成される。
本発明の半導体デバイスは、四角形の四隅に切り落とし部が形成されているため、高電圧が印加されても電界が角に集中することがなく、発熱による損失を低減することができる。発熱問題を低減することによって、実装の小型化も可能になり、パワー半導体デバイスの応用範囲も広げられる。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明の加工方法を実施するのに適したレーザ加工装置の外観斜視図が示されている。レーザ加工装置2は、静止基台4上にX軸方向に移動可能に搭載された第1スライドブロック6を含んでいる。
第1スライドブロック6は、ボールねじ8及びパルスモータ10から構成される加工送り手段12により一対のガイドレール14に沿って加工送り方向、即ちX軸方向に移動される。
第1スライドブロック6上には第2スライドブロック16がY軸方向に移動可能に搭載されている。すなわち、第2スライドブロック16はボールねじ18及びパルスモータ20から構成される割り出し送り手段22により一対のガイドレール24に沿って割り出し方向、すなわちY軸方向に移動される。
第2スライドブロック16上には円筒支持部材26を介してチャックテーブル28が搭載されており、チャックテーブル28は加工送り手段12及び割り出し送り手段22によりX軸方向及びY軸方向に移動可能である。チャックテーブル28には、チャックテーブル28に吸引保持された半導体ウエーハをクランプするクランプ30が設けられている。
静止基台4にはコラム32が立設されており、このコラム32にレーザビーム照射ユニット34が取り付けられている。レーザビーム照射ユニット34は、ケーシング33中に収容された図2に示すレーザビーム発生ユニット35と、ケーシング33の先端に取り付けられた集光器37とを含んでいる。
レーザビーム発生ユニット35は、図2に示すように、YAGレーザ又はYVO4レーザを発振するレーザ発振器62と、繰り返し周波数設定手段64と、パルス幅調整手段66と、パワー調整手段68とを含んでいる。
ケーシング33の先端部には、集光器37とX軸方向に整列してレーザ加工すべき加工領域を検出する撮像手段39が配設されている。撮像手段39は、可視光によって半導体ウエーハの加工領域を撮像する通常のCCD等の撮像素子を含んでいる。
撮像手段39は更に、半導体ウエーハに赤外線を照射する赤外線照射手段と、赤外線照射手段によって照射された赤外線を捕らえる光学系と、この光学系によって捕らえられた赤外線に対応した電気信号を出力する赤外線CCD等の赤外線撮像素子から構成される赤外線撮像手段を含んでおり、撮像した画像信号はコントローラ(制御手段)40に送信される。
コントローラ40はコンピュータによって構成されており、制御プログラムに従って演算処理する中央処理装置(CPU)42と、制御プログラム等を格納するリードオンリーメモリ(ROM)44と、演算結果等を格納する読み書き可能なランダムアクセスメモリ(RAM)46と、カウンタ48と、入力インターフェイス50と、出力インターフェイス52とを備えている。
56は案内レール14に沿って配設されたリニアスケール54と、第1スライドブロック6に配設された図示しない読み取りヘッドとから構成される加工送り量検出手段であり、加工送り量検出手段56の検出信号はコントローラ40の入力エンターフェイス50に入力される。
60はガイドレール24に沿って配設されたリニアスケール58と第2スライドブロック16に配設された図示しない読み取りヘッドとから構成される割り出し送り量検出手段であり、割り出し送り量検出手段60の検出信号はコントローラ40の入力インターフェイス50に入力される。
撮像手段39で撮像した画像信号もコントローラ40の入力インターフェイス50に入力される。一方、コントローラ40の出力インターフェイス52からはパルスモータ10、パルスモータ20、レーザビーム照射ユニット34等に制御信号が出力される。
次に、図3を参照して、上述したレーザ加工装置2を使用した第1実施形態の加工方法について説明する。半導体ウエーハ11は例えばSiC(炭化シリコン)からなり、その表面には格子状に複数の分割予定ライン(ストリート)13が形成されており、ストリート13によって区画された各領域に電力用等の回路素子15が形成されている。
半導体ウエーハ11は粘着テープであるダイシングテープTに貼着され、ダイシングテープTの外周部は環状フレームFに貼着されている。これにより、半導体ウエーハ11はダイシングテープTを介して環状フレームFで支持されたことになる。
第1実施形態の加工方法では、図3に示すように、レーザ加工装置2のチャックテーブル28上にウエーハ11を載置し、チャックテーブル28でダイシングテープTを介してウエーハ11を吸引保持する。図3では省略されているが、環状フレームFをクランプ30でクランプして固定する。
半導体ウエーハ11を吸引保持したチャックテーブル28は、加工送り手段12によって撮像手段39の直下に位置づけられる。そして、撮像手段39によって半導体ウエーハ11のレーザ加工すべき加工領域を検出するアライメントを実施する。
即ち、撮像手段39及び制御手段40は、半導体ウエーハ11の第1の方向に伸長している分割予定ライン13と、分割予定ライン13に沿ってレーザビームを照射するレーザビーム照射ユニット34の集光器37との位置合わせを行うためのパターンマッチング等の画像処理を実行し、レーザビーム照射位置のアライメントを遂行する。
次いで、第1の方向に伸長する分割予定ライン13に対して直交する第2の方向に伸長する分割予定ライン13に対しても、同様にレーザビーム照射位置のアライメントを遂行する。
アライメント実施後、ウエーハ11の表面側からウエーハ11に対して吸収性を有する波長のレーザビームを分割予定ライン13に沿って照射して、アブレーションによりレーザ加工溝70を形成する。このレーザ加工溝70はウエーハ11をフルカットする深さを有しているのが好ましい。
第1の方向に伸長する全ての分割予定ライン13に沿ってレーザ加工溝70を形成してから、チャックテーブル28を90度回転し、第2の方向に伸長する全ての分割予定ライン13に沿って同様なレーザ加工溝70を形成する。
次いで、チャックテーブル28を45度回転し、各回路素子15を有する半導体デバイス17の角部を例えば100μm程度切り落として各半導体デバイス17の角部に切り落とし部72を形成するレーザビームの間欠照射を実施する。尚、半導体デバイス17は各角部には回路が形成されないようにパターニングされている。
このレーザビームの間欠照射は、ウエーハ11を一定の加工送り速度で送りながら半導体デバイス17の角部にのみレーザビームを照射することにより実施する。各半導体デバイス17の対向する角部について切り落とし部72を形成した後、チャックテーブル28を90度回転し、他の対角線上に対向する半導体デバイス17の角部についてもレーザビームの間欠照射で切り落とし部72を形成する。
レーザ加工溝形成ステップ及びレーザビームの間欠照射ステップにおける加工条件は、例えば次のように設定されている。
光源 :LD励起Qスイッチ Nd:YAGパルスレーザ
波長 :355nm(YAGレーザの第3高調波)
繰り返し周波数 :10kHz
平均出力 :7W
送り速度 :50mm/秒
波長 :355nm(YAGレーザの第3高調波)
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第1の実施形態で加工された半導体ウエーハ11の平面図が図4に示されている。図4に示された加工後の半導体ウエーハ11では、分割予定ライン13に沿ってレーザ加工溝70が形成されているとともに、各半導体デバイス17の四隅にレーザビームの間欠照射により形成された切り落とし部72が形成されている。
図5(A)を参照すると、このようにして形成された半導体デバイス17の斜視図が示されている。図5(B)はその平面図である。半導体デバイス17はSiC、GaN等の基材19上に回路素子15が形成されており、その四隅には切り落とし部72が形成されている。図5(B)で切り落としの長さS1は10μm以上必要であり、本実施形態ではS1は100μmとした。
上述した実施形態では、分割予定ライン13に沿った加工溝70の形成をレーザ加工装置2で実施しているが、分割予定ライン13に沿っての分割は切削装置によるダイシングで実施し、半導体デバイス17の角部の切り落としをレーザ加工装置2によるレーザビームの間欠照射で実施するようにしてもよい。
次に、図6乃至図8を参照して、本発明第2実施形態の加工方法について説明する。この実施形態の加工方法では、まず図6に示すように、レーザ加工装置2のチャックテーブル28でダイシングテープTを介してウエーハ11を吸引保持し、ウエーハ11の表面に格子状に形成された分割予定ライン13の交点に集光器37からウエーハ11に対して吸収性を有する波長のレーザビームを照射し、細孔74を穿孔する。細孔74の直径は、各回路素子14の角部にかかるように設定して、角部に面取り部74aを形成するようにする。
照射されるレーザビームの直径はφ20μm程度であるため、分割予定ライン13の交点へのレーザビームの照射と同時に、チャックテーブル28をX軸方向及びY軸方向に制御された割合で同時に移動して細孔74を形成する。一つの細孔74の穿孔が終了すると、チャックテーブル28を図6でX1方向に分割予定ライン13の1ピッチだけ移動して、次の分割予定ライン13の交点に細孔74を穿孔する。
全ての分割予定ライン13の交点に細孔74の形成が終了すると、切削装置によるダイシングによりウエーハ11を図8に示すような半導体デバイス17Aに分割する。このダイシングについて図7を参照して説明する。尚、図6及び図7においては、分割予定ライン13の幅及び細孔74の大きさは誇張して描かれていることに注意されたい。
図7において、切削装置の切削ユニット76は、スピンドルハウジング78中に回転可能に収容されたスピンドル80を有しており、スピンドル80の先端部には切削ブレード82が装着されている。
切削装置の図示しないチャックテーブルでダイシングテープTを介してウエーハ11を吸引保持し、切削加工(ダイシング加工)すべき分割予定ライン13を検出するよく知られたアライメントを実施する。
アライメント終了後、切削ブレード82を高速回転(例えば30000rpm)させながらウエーハ11の第1の方向に伸長する分割予定ライン13に切り込ませ、チャックテーブルをX1方向に加工送りすることにより、分割予定ライン13にダイシングテープTに達する切削溝84を形成する。
切削ユニット76をY軸方向に割り出し送りしながら第1の方向に伸長する全ての分割予定ライン13に同様な切削溝84を形成する。次いで、チャックテーブルを90度回転してから、第1の方向に直交する第2の方向に伸長する分割予定ライン13を切削する。
第2の方向に伸長する全ての分割予定ライン13の切削が終了すると、ウエーハ11は図8に示すような個々の半導体デバイス17Aに分割される。この加工方法により製造した半導体デバイス17Aは、四隅に円弧状の切り落とし部74aが形成されている。
半導体デバイス17Aは基材19をSiC又はGaNから形成した好ましくは電力用のパワーデバイスであり、四角形の四隅に切り落とし部74aが形成されているため、半導体デバイス17Aに高電圧が印加されても電界が角部に集中することがなく、発熱による損失を低減することができる。
本実施形態の加工方法の変形例として、切削装置によるダイシングに替えて、レーザビームの照射によるグルービング加工やレーザビームの照射によりウエーハ内部に改質層を形成後、ブレーキング装置でウエーハ11を分割予定ライン13に沿って個々の半導体デバイス17Aに分割するようにしてもよい。
図9を参照すると、他の実施形態の半導体デバイス17Bの平面図が示されている。この半導体デバイス17Bでは、四隅にR形状の切り落とし部86を有している。このような形状の切り落とし部86を有する半導体デバイス17Bでも、上述した実施形態の半導体デバイス17,17Aと同様な効果を有している。
尚、上述した実施形態では半導体ウエーハ11をSiCウエーハから形成した例について説明したが、本発明の半導体ウエーハはこれに限定されるものではなく、GaNウエーハやサファイア基板上にGaN層をエピタキシャル成長させたサファイアウエーハにも同様に適用可能である。
2 レーザ加工装置
11 半導体ウエーハ
13 分割予定ライン(ストリート)
15 回路素子
17,17A,17B 半導体デバイス
28 チャックテーブル
37 集光器
70 レーザ加工溝
72 切り落とし部
74 細孔
74a 切り落とし部
84 切削溝
11 半導体ウエーハ
13 分割予定ライン(ストリート)
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28 チャックテーブル
37 集光器
70 レーザ加工溝
72 切り落とし部
74 細孔
74a 切り落とし部
84 切削溝
Claims (2)
- 基材と該基材上に形成された回路素子とを備える半導体デバイスであって、
該基材は、四角形の四隅に切り落とし部が形成された形状であることを特徴とする半導体デバイス。 - 前記回路素子は電力用回路素子である請求項1記載の半導体デバイス。
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