JP2012053266A - 光走査装置および画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】コリメータレンズ62aを保持する水平部63aと、半導体レーザー61を保持する垂直部63bとからなる第1ホルダー63が、装置筐体の基底部50a上に、コリメータレンズ62aの光軸AYの周りに回転可能に保持される。
【選択図】図12
Description
このような光走査装置は、ポリゴンミラーの1つの反射面でn本のレーザービームを同時に偏向するので、1本のレーザービームを用いる構成に比べて、n倍の速さで像担持体上に静電潜像を形成することができ、画像形成に要する時間を短縮して、画像形成の生産性を大幅に向上することができる。
鏡筒をコリメータレンズの光軸周りに回転させることにより、半導体レーザーも光軸周りに一緒に回転して、半導体レーザーから発せられる2本のレーザービームの像担持体上における副走査方向の間隔(ビームピッチ)を所定の間隔、例えば解像度が600dpiの場合、約42ミクロンに調整することができる。調整後には、鏡筒の回転方向の位置がずれないように鏡筒が装置筐体の側壁にネジで固定される。
すなわち、装置周辺の環境変動、具体的に温湿度が変動すると、樹脂や金属等からなる装置筐体に微小とはいえ変形が生じ、特に装置筐体の側壁は、基底部から垂直に立っている垂直姿勢から倒れる傾倒姿勢に変化し易い。側壁が傾倒姿勢になると、鏡筒も側壁と一緒に倒れる姿勢になり、光源ユニットから発せられる2本のレーザービームの光路が変動前の光路に対してずれることになる。
例えば、2本のレーザービームのビームピッチが本来の値よりも狭くなった場合、ポリゴンミラーの第1の反射面で偏向されて像担持体上を同時に走査される2本のレーザービームの走査ラインL1とL2のビームピッチは本来の値よりも狭くなる。同様に、次の第2の反射面で偏向されて像担持体上を同時に走査される2本のレーザービームの走査ラインL3とL4のビームピッチも同様に本来の値よりも狭くなる。
ビームピッチに粗密が生じると、像担持体上における静電潜像の走査位置が設計値に対して走査ライン毎に変化して、再現画像の画質劣化に繋がることになる。
さらに、前記発光素子から前記偏向器までの光ビームの光路途中において、前記コリメータレンズから前記偏向器までの間にのみ、前記複数の光ビームを通過させてそれぞれを副走査方向に集光するシリンドリカルレンズが配置され、前記シリンドリカルレンズが前記ホルダーとは別の支持部材を介して前記装置筐体に支持されていることを特徴とする。
ここで、前記側壁の外側の面には、前記側壁の透孔を中心にその回りを取り囲むように筒状の壁部が設けられており、前記第2部分は、前記筒状の壁部に覆われるように前記筒状の壁部の内側に位置しており、前記筒状の壁部の内面と、前記第2部分の、前記筒状の壁部の内面と対向する面との間に、これら両方の面の隙間を埋めるためのシール部材が介在されていることを特徴とする。
さらに、前記ホルダーは、前記装置筐体の基底部に2点支持されていることを特徴とする。
ここで、前記ホルダーの、前記基底部に対向する側には、前記光軸に直交する横断面が円弧状の底部が形成されており、前記基底部の、前記ホルダーに対向する側には、横断面がV字状の溝が前記光軸方向に形成されており、前記ホルダーの円弧状の底部が前記基底部のV字状の溝に嵌り込むことにより、前記二点支持が行われることを特徴とする。
ここで、前記規制手段は、前記ホルダーと前記基底部のうち、一方に設けられたピンと、他方に設けられ、前記ピンが嵌り込む長孔または切り欠きからなり、前記長孔または切り欠きが前記光軸に直交する方向に延伸されており、前記ピンが前記長孔または切り欠きに嵌り込んだ状態で前記ホルダーの前記光軸方向への移動が規制されると共に、前記ホルダーの前記光軸周りの回転が許容されるように前記ピンと、長孔または切り欠きの大きさが設定されていることを特徴とする。
ここで、前記ホルダーの、前記鏡筒を支持する部分には、前記光軸に直交する断面がV字形状の溝が前記光軸方向に沿って形成されており、前記鏡筒が前記V字形状の溝に嵌り込むことにより、前記鏡筒が前記V字形状の溝に二点支持されていることを特徴とする。
本発明に係る画像形成装置は、上記の光走査装置を備えることを特徴とする。
<プリンタの概略構成>
図1は、プリンタ1の構成を説明するための模式図である。
プリンタ1は、ネットワーク(例えばLAN)を介して外部の端末装置等から入力される画像データ等に基づいて、周知の電子写真方式により、フルカラー画像を記録用紙等の記録シートに形成する。
給紙部20は、記録シートSが内部に収容された給紙カセット30を備えており、給紙カセット30内の記録シートSが画像形成部10に供給される
画像形成部10は、プリンタ1のほぼ中央部において一対のベルト周回ローラ22および23に水平状態で巻き掛けられて周回移動可能になった中間転写ベルト21を備えている。中間転写ベルト21は、図示しないモータによって、矢印Hで示す方向に周回移動するようになっている。中間転写ベルト21の下方には、プロセスユニット10Y、10M、10C、10Kが設けられている。
プロセスユニット10Y、10M、10C、10Kの下側には、光走査装置18が設けられている。光走査装置18は、感光体ドラム11Y、11M、11C、11Kに対して、それぞれ2本のレーザービーム(以下、「レーザービーム群」という。)LY、LM、LC、LKを発し、感光体ドラム11Y、11M、11C、11Kを主走査方向(紙面垂直方向)に走査して、感光体ドラム11Y、11M、11C、11K上に静電潜像を形成する。光走査装置18の構成については、後述する。なお、同図および後述する別の図においても、2本のレーザービームを1本の直線で示している。
プロセスユニット10Yに設けられた感光体ドラム11Yは、同図に示す矢印の方向に回転されるようになっており、光走査装置18から発せられるレーザービーム群LY(図3等参照)が下方から照射されることによって露光される。感光体ドラム11Yにおけるレーザービーム群LYの露光位置よりも感光体ドラム11Yの回転方向上流側には、感光体ドラム11Yの表面を、レーザービーム群LYにより照射される前に一様に帯電する帯電器12Yが、感光体ドラム11Yに対向して配置されている。
なお、トナー像が1次転写された後の感光体ドラム11Yの表面は、プロセスユニット10Yに設けられたクリーニング部材15Yによってクリーニングされる。他のプロセスユニット10M、10C、10Kにおいても同様である。
中間転写ベルト21上に転写された各色のトナー像は、2次転写ローラ35と中間転写ベルト21との間の電界の作用により、記録シートSが転写ニップを通過する際に記録シートSに2次転写される。
<光走査装置の構成>
図2は、光走査装置18における主要部の構成を説明するための上面図であり、図3は、図2におけるA−A線に沿った矢視断面図であり、図3は、図2におけるB−B線に沿った矢視概略断面図であり、図5は、下面図であり、図6は、側面図である。
装置筐体50は、平板状であり平面視で略矩形状をした基底部50aと、基底部50aの端辺から垂直方向に上方に向かって立てられるように設けられた側壁(外周壁)50bとを有する樹脂または金属製の部材であり、上方が開放されてなる。
なお、装置筐体50が開放状態のままであれば、外部から埃や塵などが装置筐体50内部に侵入し、侵入した埃などが光学素子に付着して、付着した埃などで光路が乱されて画質が低下するおそれが生じるので、埃などの侵入を防止するために、薄板状の蓋181(図1)が開口を被うように側壁50bに取り付けられるようになっている。
基底部50aは、装置本体フレーム(不図示)に固定支持されており、図4に示すように第1底部50cと、第1底部50cと連続しており、第1底部50cよりも段差により高くなった第2底部50dとを有する。
光源部51は、感光体ドラム11Y、11M、11C、11Kを走査するためのレーザービーム群LY、LM、LC、LKを発する光源ユニット51Y、51M、51C、51Kを備える。光源ユニット51Y、51M、51C、51Kの近傍には、光源ユニットに駆動用の電力を供給し、発光タイミングおよび光量を制御するための駆動基板65Y、65M、65C、65Kが取り付けられている。光源ユニット51Y〜51Kの構成については、後述する。なお、第2底部50dは、それぞれ光源ユニット51Y、51M、51C、51K毎に異なる高さ位置になっている。ここで、各光源ユニット51Y、51M、51C、51K毎に高さ位置が異なるように第2底部50dに段差を設けても良く、後述するV字状の溝50g(図10)の深さを変えても良い。
ビーム合成器52Mは、例えば二つの研磨したプリズムを貼り合わせてなるビームスプリッターからなり、反射ミラー52Yにより反射された後のレーザービーム群LYを90°偏向させると共に、光源ユニット51Mから発せられたレーザービーム群LMをそのまま通過させて、レーザービーム群LYとLMの進行方向を揃える。
シリンドリカルレンズ53aは、レーザービーム群LY、LMを副走査方向に集光して偏向器54に導くレンズであり、支持部材59aにより基底部50aに支持される。
ビーム合成器52Cは、ビーム合成器52Mと同じ構成のものであり、反射ミラー52Kにより反射された後のレーザービーム群LKを90°偏向させると共に、光源ユニット51Cから発せられたレーザービーム群LCをそのまま通過させて、レーザービーム群LCとLKの進行方向を揃える。
シリンドリカルレンズ53bは、レーザービーム群LC、LKを副走査方向に集光して偏向器54に導くレンズであり、支持部材59bにより基底部50aに支持される。
本実施の形態では、ポリゴンミラー54aの回転軸を含み、かつB−B線(主走査方向に平行な直線)を含む仮想平面を挟んで一方の側にレーザービーム群LY、LMが入射される第1入射位置が設けられ、他方の側にレーザービーム群LC、LKが入射される第2入射位置が設けられている。
走査レンズ55aと55bは、ポリゴンミラー54aを挟んで対向配置されており、それぞれが第1fθレンズ群からなり、レーザービーム群LC〜LKを折り返しミラー群56、第2fθレンズ群57を介して感光体ドラム11Y〜11Kに導く。
レーザービーム群LMは、走査レンズ55aを通過した後、折り返しミラー56bで反射され、第2fθレンズ57bを通過する際に副走査方向に集光され、折り返しミラー56cで反射された後、感光体ドラム11M上に結像される。
レーザービーム群LKは、走査レンズ55bを通過した後、折り返しミラー56fで反射され、第2fθレンズ57dを通過する際に副走査方向に集光されて、感光体ドラム11K上に結像される。
図7と図8は、光源ユニット51Yの構成を示す斜視図であり、図9は、光源ユニット51Yの構成を示す平面図である。図10は、図9における矢印Cで示す方向から光源ユニット51Yを見たときの図であり、図11は、図9におけるD−D線に沿った矢視断面図であり、図12は、図9におけるE−E線に沿った矢視断面図である。また、図13は、図9における矢印Fで示す方向から光源ユニット51Yを見たときの図であり、図14は、図9における矢印Gで示す方向から光源ユニット51Yを見たときの斜視図である。図15は、光源ユニット51Yの第1ホルダー63の平面図である。
また、相互に直交するX、Y、Z軸を矢印で示しており、矢印Xに沿う方向がレーザービームの進行方向に相当する。以下、レーザービームの進行方向を特定する場合に、矢印Xに沿う方向をビーム進行方向という場合がある。
第1ホルダー63は、例えば樹脂製の部材であり、X軸方向を長手方向とする水平部63a(第1部分)と、水平部63aのビーム進行方向上流側の端部から第2底部50dとは反対方向にZ軸に沿って延伸された垂直部63b(第2部分)とを有する(図15)。
本体部63pの内周面側がコリメータレンズ部62を保持する側になり、外周面側(基底部50aに対向する側)が装置筐体50の第2底部50dに保持される側になっている。本体部63pの外周面は、X軸に直交する断面形状が円弧状になっている。
突出片63q、63rのそれぞれには、Y方向に長い長孔63f、63gが設けられており、長孔63f、63gには、第2底部50dにZ方向に立てられたピン81、82が嵌め込まれている。長孔63f、63gのY方向長さは、ピン81、82の径よりも長く、長孔63f、63gの幅は、ピン81、82の径よりもやや小さくなっている。
コリメータレンズ部62は、コリメータレンズ62a(図12)と、コリメータレンズ62aを保持する鏡筒62bを備える。
鏡筒62bは、X軸方向に長く、横断面が円筒状である。鏡筒62bの、レーザービームの進行方向上流側の端部にコリメータレンズ62aが保持され、レーザービームの進行方向下流側の端部は、Y方向に長い長孔62cが設けられた蓋で閉じられている。
なお、突条部62dの幅(Y軸方向の厚み)は、長孔63hの幅よりもやや狭くなっているが、Y軸方向へのがたつきが生じないように両者の幅の大きさが決められている。また、長孔63hは、本体部63pを貫通する貫通孔になっており、突条部62dが長孔63hに嵌合した状態で、突条部62dの突出端が本体部63pを貫通することがないように、突条部62dの高さ(Z軸方向長さ)と長孔63hの深さが決められる。
本実施の形態では、レンズ保持部63d、63eは、図10と図11に示すように、コリメータレンズ62aの光軸AYとZ軸を含む仮想平面を挟んで対称な状態で配置されており、当該仮想平面に対して所定の傾斜角をもって傾斜して、光軸に直交する断面で見るとV字状の溝のような形状になっている。
半導体レーザー61は、複数、ここでは2つの発光点を有する発光素子であり、発光部側の面61a(図12)上に間隔をおいて設けられた2つの発光点のそれぞれからレーザービームを発する。この2本のレーザービームがレーザービーム群LYを構成する。
半導体レーザー61は、発光部側の面61aがコリメータレンズ62aの方を向く姿勢になるように、第2ホルダー64の中央に設けられた透孔64zに嵌合されている。
第1ホルダー63の垂直部63bと装置筐体50の側壁50bとの間には、図12に示すように、垂直部63bと側壁50bの隙間を埋めるためのシール部材66が介在されている。シール部材66は、装置筐体50の外部から側壁50bの透孔50mを介して装置筐体50の内部に塵や埃などが侵入するのを防止するための防塵用の部材である。
半導体レーザー61とコリメータレンズ62aは、第1ホルダー63に保持されており、第1ホルダー63は、装置筐体50の第2底部50dに支持されている。
すなわち、装置筐体50は、基底部50aと側壁50bとから構成され、上方が開口されてなり、基底部50aの一部である第2底部50dは、側壁50bと連続しており、自由端になる部分がないが、側壁50bは、基底部50aとは反対側の上端が自由端になる。また、第2底部50d(基底部50a)は、装置本体フレームに固定支持されている。
このように偏向器54と同様に、半導体レーザー61を基底部50aに支持する構成をとることにより、環境変動によるレーザービームの光路の変位を極力少なくして、2本のレーザービームの光路が本来の位置からずれ難く、感光体ドラム11Y上のビームピッチの変動が生じ難くなり、ビームピッチの粗密による画質劣化を抑制することができる。
駆動基板65Yは、プリント基板であり、本実施の形態では、図8や図12に示すように、平面視で矩形状の形状をしている。なお、第1ホルダー63と半導体レーザー61との位置関係を判り易くするため、一部の図面では駆動基板65Yが省略されている。
なお、本実施の形態の構成では、製造時において駆動基板65Yの装置筐体50への取り付けが、上記の調芯工程からビームピッチ調整までの全工程の終了後に行われる。
<調芯工程について>
(1)第2ホルダー64(図14)を第1ホルダー63の垂直部63bにネジ69、169で仮締めした状態で、調芯治具98(図14において破線で示す)に設けられた2本の棒状部材99、199の先端部を第2ホルダー64の透孔64a、64bに嵌め込む。当該治具98は、光軸AYに直交する平面、すなわちY−Z平面上を移動可能になっている。なお、コリメータレンズ62aのフォーカス調整は、次の工程で行うが、調芯工程では、フォーカスがある程度、大まかに調整された状態で実行され、フォーカスは、次の工程で微調整されるようになっている。
<フォーカス調整について>
フォーカス調整は、調芯工程が終了した後、次の手順で実行される。
(2)結像しているビームスポットの焦点が合っているか否かを光電センサにより検出されるビーム強度分布から算出されるビーム径から判断する。
(3)ビームスポットの焦点が合っていないことが検出されると、焦点が合っていることが検出されるまで、鏡筒62bを第1ホルダー63の水平部63aに対して光軸AYの方向に沿って少しずつ移動させる。
<ビームピッチ調整について>
ビームピッチ調整は、フォーカス調整が終了した後に、次の手順で実行される。
(2)結像している2つのビームスポットの、検出面上における副走査方向に相当する方向のビームピッチ(間隔)を、2つのビームスポットのビーム強度分布から求める。
(3)ビームピッチが所定の値になっていないことが検出されると、ビームピッチが所定値になったことが検出されるまで、第1ホルダー63の水平部63aを装置筐体50の第2底部50dに対して光軸周りに少しずつ回転させる。
なお、第1ホルダー63の、装置筐体50の第2底部50dに対する光軸周りの回転量が、ビームピッチ調整を行うのに十分な量になるように、第2底部50dに設けられたピン81、82の、第1ホルダー63に設けられた長孔63f、63gに対する遊びの量が予め決められている。
例えば、シリンドリカルレンズも第1ホルダー63に支持する構成をとった場合、第1ホルダー63を光軸周りに回転させると、シリンドリカルレンズも一緒に同方向に同じ量だけ回転する。シリンドリカルレンズが回転すると、シリンドリカルレンズにより直線状に集光された後のレーザービームのその直線の、ポリゴンミラー54aの回転軸に対する傾斜角が正規の角度に対して変動することになる。この傾斜角が正規の角度から変動すると、偏向後のレーザービームによる感光体ドラム11Y上での走査ビームにねじれが発生して、画質劣化に繋がる。従って、ビームピッチ調整の際に、ビームピッチと同時にシリンドリカルレンズ53aの回転方向の位置合わせも行う必要があり、調整に手間がかかる場合が生じる。
なお、上記では第1ホルダー63の垂直部63bと側壁50bの隙間をシール部材66で塞ぎ、外部から塵などが装置筐体50の内部に入るのを防止する構成をとったが、この構成に限られない。例えば、図16と図17に示す構成をとることもできる。
この筒状の壁部201の内周面と、垂直部63bの外周面(壁部201の内周面と対向する面)との間に、両方の面に密着するようにシール部材202が介在され、壁部201と垂直部63bとの隙間を埋めるようになっている。垂直部63bと側壁50bの間には、上記のシール部材66が設けられていない。
(変形例)
以上、本発明を実施の形態に基づいて説明してきたが、本発明は、上述の実施の形態に限定されないのは勿論であり、以下のような変形例が考えられる。
また、上記では、装置筐体の基底部50aに保持される第1ホルダー63を介して半導体レーザー61とコリメータレンズ62aを保持する構成としたが、これに限られず、例えばコリメータレンズを第1ホルダー63とは別の部材で装置筐体に保持する構成をとることもできる。さらに、上記では第1ホルダー63と第2ホルダー64が別体であり、ネジ止め固定するとしたが、これらを一体にして、1つのホルダーで構成し、この1つのホルダーが少なくとも半導体レーザー(発光素子)を保持した状態で、基底部50aに保持される構成をとるとしても良い。1つのホルダーに半導体レーザーを保持する保持部を設け、その保持部において調芯を可能な構成をとることができる。
(2)上記実施の形態では、第1ホルダー63の水平部63aの外周面を断面円弧状に形成し、第2底部50dの、第1ホルダー63の水平部63aに対向する面に断面V字状の溝を形成するとしたが、水平部63aにV字状の溝を、第2底部50dを円弧状に形成するとしても良い。鏡筒62bと第1ホルダー63の支持構成についても同様である。
第1ホルダー63を第2底部50dに対して光軸周りに回転自在に保持し、鏡筒62bを第1ホルダー63に対して光軸に沿って移動自在に保持する構成であれば良い。
(3)上記実施の形態では、第1ホルダー63の装置筐体50に対する光軸方向への移動を規制し、光軸周りの回転を許容する構成として、第1ホルダー63の突出片63q、63rのそれぞれに、光軸に直交する方向に沿って長い長孔63f、63gを設け、第2底部50dには、垂直に立てられたピン81、82を設け、ピン81、82を長孔63f、63gに嵌め込む構成をとったが、これに限られることはない。例えば、規制手段としては長孔63f、63gの外側の縁部を開口(開放)して平面視で、U字形状などの切り欠きを設ける構成をとるとしても良い。また、ピンを第1ホルダー側に、長孔を基底部側に設けるとしても良い。
11Y、11M、11C、11K 感光体ドラム
18 光走査装置
50 装置筐体
50a 基底部
50b 側壁
50c、50d 基底部の一部
50g V字状の溝
50m 側壁の透孔
51Y、51M、51C、51K 光源ユニット
53a、53b シリンドリカルレンズ
54 偏向器
59a、59b シリンドリカルレンズの支持部材
61 半導体レーザー
62a コリメータレンズ
62b 鏡筒
63 第1ホルダー
63a 水平部(第1部分)
63b 垂直部(第2部分)
63d、63e レンズ保持部(第1保持部)
63f、63g、63h 長孔
63p 断面円弧状の本体部
63q、63r 突出片
64 第2ホルダー(第2保持部)
65Y、65M、65C、65K 駆動基板
65a、65b、65c、65d 駆動基板の支持部材
66、202 シール部材
81、82 ピン
201 筒状の壁部
AY コリメータレンズの光軸
Claims (16)
- 複数の光ビームを発する発光素子とコリメータレンズと偏向器とが装置筐体に収容されており、前記発光素子から発せられた複数の光ビームを前記コリメータレンズを通過させて平行光にして、平行光にされた後の複数の光ビームを前記偏向器で偏向し、偏向後の複数の光ビームで同時に、画像形成装置の同一の像担持体を走査する光走査装置であって、
前記発光素子を保持するホルダーを備え、
前記ホルダーは、前記装置筐体の基底部に、前記コリメータレンズの光軸周りに回転自在に支持されていることを特徴とする光走査装置。 - 前記ホルダーは、前記発光素子に加えて、前記コリメータレンズも保持することを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。
- 前記発光素子から前記偏向器までの光ビームの光路途中において、前記コリメータレンズから前記偏向器までの間にのみ、前記複数の光ビームを通過させてそれぞれを副走査方向に集光するシリンドリカルレンズが配置され、
前記シリンドリカルレンズが前記ホルダーとは別の支持部材を介して前記装置筐体に支持されていることを特徴とする請求項2に記載の光走査装置。 - 前記装置筐体の側壁には、透孔が設けられており、
前記ホルダーは、
光軸方向を長手方向に第1保持部で前記コリメータレンズを保持し、第1保持部よりも光ビーム進行方向上流側の第2保持部で前記発光素子を保持し、
前記側壁の透孔を前記側壁とは非接触の状態で前記光軸方向に沿って貫通しており、
前記側壁に対して、前記コリメータレンズを保持する第1保持部が装置筐体の内側に位置すると共に前記発光素子を保持する第2保持部が装置筐体の外側に位置し、
前記発光素子からの複数の光ビームが前記側壁の透孔を通過して前記コリメータレンズに至るように構成されていることを特徴とする請求項2または3に記載の光走査装置。 - 前記ホルダーは、
前記光軸方向に沿って長尺状であり、前記側壁の透孔を貫通した状態で前記基底部に保持される第1部分と、
前記第1部分の、前記側壁に対して装置筐体の外側に存する部分から前記基底部とは反対方向に前記側壁に沿って延伸されている第2部分と、を有し、
前記第1部分のうち、前記側壁に対して装置筐体の内側の位置に前記第1保持部が設けられ、前記第2部分に前記第2保持部が設けられていることを特徴とする請求項4に記載の光走査装置。 - 前記側壁の外側の面における前記透孔の周囲の部分と、前記第2の部分との間に、これら両方の部分の隙間を埋めるためのシール部材が介在されていることを特徴とする請求項5に記載の光走査装置。
- 前記側壁の外側の面には、
前記側壁の透孔を中心にその回りを取り囲むように筒状の壁部が設けられており、
前記第2部分は、
前記筒状の壁部に覆われるように前記筒状の壁部の内側に位置しており、
前記筒状の壁部の内面と、前記第2部分の、前記筒状の壁部の内面と対向する面との間に、これら両方の面の隙間を埋めるためのシール部材が介在されていることを特徴とする請求項5に記載の光走査装置。 - 前記第2保持部は、
前記発光素子が前記光軸に直交する方向に移動自在になるように、前記第2部分に支持されていることを特徴とする請求項4〜7のいずれか1項に記載の光走査装置。 - 前記ホルダーは、
前記装置筐体の基底部に2点支持されていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の光走査装置。 - 前記ホルダーの、前記基底部に対向する側には、
前記光軸に直交する横断面が円弧状の底部が形成されており、
前記基底部の、前記ホルダーに対向する側には、
横断面がV字状の溝が前記光軸方向に形成されており、
前記ホルダーの円弧状の底部が前記基底部のV字状の溝に嵌り込むことにより、前記二点支持が行われることを特徴とする請求項9に記載の光走査装置。 - 前記ホルダーが前記基底部に対して前記光軸方向に移動するのを規制する規制手段を備えることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の光走査装置。
- 前記規制手段は、
前記ホルダーと前記基底部のうち、一方に設けられたピンと、他方に設けられ、前記ピンが嵌り込む長孔または切り欠きからなり、
前記長孔または切り欠きが前記光軸に直交する方向に延伸されており、
前記ピンが前記長孔または切り欠きに嵌り込んだ状態で前記ホルダーの前記光軸方向への移動が規制されると共に、前記ホルダーの前記光軸周りの回転が許容されるように前記ピンと、長孔または切り欠きの大きさが設定されていることを特徴とする請求項11に記載の光走査装置。 - 前記コリメータレンズを保持する鏡筒を備え、
前記コリメータレンズは、
前記鏡筒を介して前記ホルダーに前記光軸方向に沿って移動自在に支持されることを特徴とする請求項2〜8のいずれか1項に記載の光走査装置。 - 前記ホルダーの、前記鏡筒を支持する部分には、
前記光軸に直交する断面がV字形状の溝が前記光軸方向に沿って形成されており、
前記鏡筒が前記V字形状の溝に嵌り込むことにより、前記鏡筒が前記V字形状の溝に二点支持されていることを特徴とする請求項13に記載の光走査装置。 - 前記装置筐体の外側に配され、前記発光素子に駆動電力を供給し、発光タイミングおよび光量を制御する駆動基板と、
前記駆動基板を前記装置筐体に支持する1以上の支持部材と、を備え、
前記支持部材の少なくとも1つが前記装置筐体の基底部に取り付けられていることを特徴とする請求項1〜14のいずれか1項に記載の光走査装置。 - 請求項1〜15のいずれか1項に記載の光走査装置を備えることを特徴とする画像形成装置。
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