JP2012033978A

JP2012033978A - 半導体製造装置、クラスタツール及び半導体製造装置の制御方法

Info

Publication number: JP2012033978A
Application number: JP2011249032A
Authority: JP
Inventors: Tomoyuki Ishii; 智之石井; Masahiro Numakura; 雅博沼倉
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2011-11-14
Filing date: 2011-11-14
Publication date: 2012-02-16
Anticipated expiration: 2021-03-22
Also published as: JP5415513B2

Abstract

【課題】プロセスシップをローダモジュールに連結することなく、プロセスシップおよびローダモジュールの動作確認を行う。
【解決手段】複数のユニットからなる半導体製造装置において、前記ユニットに対してそれぞれ設けられ、前記ユニットを制御するためのユニット制御手段と、前記ユニット制御手段が前記ユニットに所定の動作をさせるための指示を前記ユニット制御手段に出力する統括制御手段とを備え、前記ユニットが対応する前記ユニット制御手段のみに基づいて制御可能であることを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、半導体製造装置、クラスタツール、半導体製造装置の制御方法およびクラスタツールのメンテナンス方法に関する。

従来の半導体製造装置では、ウェハのプロセス処理や待機を行うための複数のプロセスシップを、ウェハの収容や搬送などを行うためのローダモジュールに連結した状態で、半導体装置の製造を行うものがあり、このようなタイプの半導体製造装置では、プロセスシップの増設が可能となっている。

ここで、プロセスシップが増設する場合、プロセスシップの動作確認を行うために、増設対象となるプロセスシップをローダモジュールに連結し、装置全体を動かすことが行われていた。また、プロセスシップのメンテナンスを行う場合、装置全体の電断を行い、装置全体を停止させることが行われていた。

しかしながら、プロセスシップの動作確認を行うために、装置全体を動かす方法では、全モジュールおよびパーツを揃え、これらを正常に接続する必要があるため、装置の立ち上げまでに時間がかかるという問題があった。

一方、装置全体を動かすために、治具モジュール（ダミーモジュール）を接続する方法もあるが、この方法では、リードタイムを短縮するために、装置の生産台数に合わせて治具モジュールも増産する必要があり、コスト増になるという問題があった。

また、プロセスシップのメンテナンスを行う場合に、装置全体を停止させる方法では、他のプロセスシップも稼働できなくなり、生産効率が悪化するという問題があった。

そこで、本発明の第１の目的は、装置の一部を独立に制御することが可能な半導体製造装置およびその制御方法を提供することである。

また、本発明の第２の目的は、装置全体を停止させることなく、装置の一部をメンテナンスすることが可能なクラスタツールおよびそのメンテナンス方法を提供することである。

上述した課題を解決するために、請求項１記載の発明によれば、互いに連結されたプロセス室とロードロック室とを有するプロセスシップと、前記プロセスシップをローダモジュールと連結することなく、前記プロセスシップの動作を行わせる独立制御手段とを備えることを特徴とする。

これにより、プロセスシップを単独で動作させることが可能となり、プロセスシップの動作確認を行うために、クラスタツール全体を動作させる必要がなくなることから、プロセスシップの立ち上げを効率よく行うことが可能となる。

また、請求項２記載の発明によれば、処理対象の収容、位置合わせおよび搬送を行うローダモジュールと、前記ローダモジュールをプロセスシップと連結することなく、前記ローダモジュールの動作を行わせる独立制御手段とを備えることを特徴とする。

これにより、ローダモジュールを単独で動作させることが可能となり、ローダモジュールの動作確認を行うために、クラスタツール全体を動作させる必要がなくなることから、ローダモジュールの立ち上げを効率よく行うことが可能となる。

また、請求項３記載の発明によれば、処理対象のプロセス処理を行う複数のプロセス室と、前記プロセス室にそれぞれ連結され、前記プロセス室に前記処理対象を搬送するロードロック室と、前記ロードロック室に連結され、前記ロードロック室に前記処理対象を搬送するローダモジュールと、メンテナンス対象となるユニットをそれぞれ独立して制御する独立制御手段とを備えることを特徴とする。

これにより、メンテナンス対象以外のユニットを動作させたまま、メンテナンス対象となるユニットを停止させることが可能となり、メンテナンス対象以外のユニットを用いて生産を続けながら、メンテナンスを行うことが可能となるため、生産効率を向上させることができる。

また、請求項４記載の発明によれば、クラスタツールの増設対象となるユニットを連結することなく、各ユニットを独立させて搬送制御することを特徴とする。

これにより、プロセスシップおよびローダモジュールの動作確認をそれぞれ別個に行うことが可能となり、プロセスシップの増設を行うために、装置全体を動作させる必要がなくなることから、装置の立ち上げを効率よく行うことができる。

また、請求項５記載の発明によれば、ローダモジュールに複数のプロセスシップが連結されるクラスタツールのメンテナンス方法において、メンテナンス対象となるユニットのみを停止させてメンテナンスを行うことを特徴とする。

これにより、クラスタツールの一部のユニットを用いて生産を続けながら、それ以外のユニットのメンテナンスを行うことができ、生産効率を向上させることができる。

第１の発明によれば、プロセスシップをローダモジュールに連結することなく、プロセスシップおよびローダモジュールの動作確認を行うことが可能となる。また、第２の発明によれば、装置全体を停止させることなく、任意のプロセスシップのメンテナンスを行うことが可能となる。

本発明の一実施形態に係わるクラスタツールの電源系の概略構成を示すブロック図である。本発明の一実施形態に係わるクラスタツールの動作モードの遷移方法を示すブロック図である。本発明の一実施形態に係わるクラスタツールおよび制御系の概略構成を示すブロック図である。本発明の一実施形態に係わるプロセスシップの独立制御の構成を示すブロック図である。本発明の一実施形態に係わるローダモジュールの独立制御の構成を示すブロック図である。本発明の第１実施形態に係わる独立メンテナンス方法を示すフローチャートである。本発明の第２実施形態に係わる独立メンテナンス方法を示すフローチャートである。

以下、本発明の実施形態に係わるクラスタツールについて図面を参照しながら説明する。

図１は、本発明の一実施形態に係わるクラスタツールおよび制御系の概略構成を示すブロック図である。図１において、ローダモジュールＬＭには、ロードポートＬＰ１〜ＬＰ３、搬送室ＴＲおよびオリエンタＯＲが設けられ、このローダモジュールＬＭには、ロードロックドアＬＤ１、ＬＤ２を介してプロセスシップＰＳ１、ＰＳ２が連結されている。搬送室ＴＲには、オリエンタＯＲが連結されるとともに、ロードポートドアＣＤ１〜ＣＤ３を介してロードポートＬＰ１〜ＬＰ３が連結され、ロードポートＬＰ１〜ＬＰ３には、未処理のウェハＷおよび処理済みのウェハＷを収容するカセットＣＳ１〜ＣＳ３が設置される。

搬送室ＴＲには、２段構成のローダアームＬＡ１、ＬＡ２が設けられ、このローダアームＬＡ１、ＬＡ２は、ロードポートＬＰ１〜ＬＰ３とロードロック室ＬＬ１、ＬＬ２との間でのウェハＷの搬送を行う。ここで、ローダアームＬＡ１、ＬＡ２を２段構成とすることにより、一方のローダアームＬＡ１、ＬＡ２でウェハＷの搬入を行いつつ、他方のローダアームＬＡ１、ＬＡ２でウェハＷの搬出を行うことが可能となり、ウェハＷの入れ替えを効率よく行うことが可能となる。

プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２には、ロードロック室ＬＬ１、ＬＬ２およびプロセス室ＰＭ１、ＰＭ２が設けられ、ロードロック室ＬＬ１、ＬＬ２とプロセス室ＰＭ１、ＰＭ２は、プロセスゲートＰＧ１、ＰＧ２を介して互いに連結されている。ロードロック室ＬＬ１、ＬＬ２には、ウェハ載置台Ｂ１１、Ｂ１２、Ｂ２１、Ｂ２２およびロードロックアームＬＲ１、ＬＲ２がそれぞれ設けられ、ウェハ載置台Ｂ１２、Ｂ２２には、ローダモジュールＬＭから搬入されたウェハＷが載置されるとともに、ロードロック室ＬＬ１、ＬＬ２から搬出されるウェハＷが載置される。また、ウェハ載置台Ｂ１１、Ｂ２１には、プロセス室ＰＭ１、ＰＭ２に搬入されるウェハＷが載置される。また、ロードロックアームＬＲ１、ＬＲ２は、ロードロック室ＬＬ１、ＬＬ２とプロセス室ＰＭ１、ＰＭ２との間でのウェハＷの搬送を行う。ここで、ロードロック室ＬＬ１、ＬＬ２は大気開放されるとともに、コンタミネーションを防止するため、プロセス室ＰＭ１、ＰＭ２は所定の真空度に維持される。このため、ロードロック室ＬＬ１、ＬＬ２では、搬送室ＴＲとの間での搬送、またはプロセス室ＰＭ１、ＰＭ２との間での搬送の際に、それぞれの真空度に対応するように給排気が行われる。

各プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２には、各プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２のハードウェアを独自に制御するためのＰＳ制御部（プロセスシップマシンコントローラ）ＭＣ１、ＭＣ２が設けられるとともに、ローダモジュールＬＭには、ローダモジュールＬＭのハードウェアを独自に制御するためのＬＭ制御部（ローダモジュールマシンコントローラ）ＭＣ３が設けられている。そして、これらのＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２およびＬＭ制御部ＭＣ３は、データやアドレスの入出力を行うＩ／ＯボードＩＯ１〜ＩＯ３を介して、各プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭに接続されている。

また、ＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２およびＬＭ制御部ＭＣ３は、ハブＨＢ１を介して統括制御部（イクイップメントコントローラ）ＥＣに接続されるとともに、統括制御部ＥＣは表示部Ｄ１に接続されている。ここで、統括制御部ＥＣは、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭが協調して動作するように、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭを制御する。そして、表示部Ｄ１から統括制御部ＥＣに指示を与えることにより、装置全体を協調させて動作させることができる。

また、ローダモジュールＬＭには、装置全体のインターロックを管理するシステムインターロックボードＳＬが設けられ、インターロック信号を受信すると、装置全体の動作を停止させる。

なお、ＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２およびＬＭ制御部ＭＣ３は、例えば、ＣＰＵ、調整値やパラメータを格納するＳＲＡＭ、ＣＰＵを動作させるためのプログラムを格納するメモリなどからなるコントローラで構成することができる。そして、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭを制御するプログラムを、各ＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２およびＬＭ制御部ＭＣ３に設けられたメモリにそれぞれインストールすることにより、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭの各ハードウェアをそれぞれ独自に動作させることができる。

また、統括制御部ＥＣは、例えば、装置コントローラ、またはパソコンで構成することができ、装置全体の制御を行うプログラムをパソコンにインストールすることにより、装置全体の制御を行うことができる。

図２は、本発明の一実施形態に係わるクラスタツールの電源系の概略構成を示すブロック図である。図２において、電力ラインＬ４からの電力を各プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭに供給する共通電源ＣＢが設けられている。ここで、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭに電力を供給する電力ラインＬ１〜Ｌ３には、電力を遮断するブレーカＢ１〜Ｂ３がそれぞれ別個に設けられ、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭの給電をそれぞれ独立して行うことができる。また、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭには、ハードワイヤインターロック機構が設けられ、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭの非連結状態では、端子Ｔ１〜Ｔ３を開として、ハードワイヤインターロックをかけることができる。すなわち、電力ラインＬ４には、ブレーカＢ４が設けられ、マグネットコンダクタＭＣが、ハードワイヤインターロック信号を受信すると、ブレーカＢ４をオフにし、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭへの給電を遮断する。このため、装置稼働中に、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２の取り外しまたは結合が行われた場合、装置全体の電断を発生させることができる。

図３は、本発明の一実施形態に係わるクラスタツールの動作モードの遷移方法を示すブロック図である。図３において、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭが結合した状態で装置全体を動作させる通常モードＭ１と、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭが結合されていない状態でプロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭそれぞれ独立して動作させる独立モードＭ４が設けられ、通常モードＭ１および独立モードＭ４には、通常搬送モードＭ２、Ｍ５およびメンテナンスモードＭ３、Ｍ６がそれぞれ設けられている。

このため、通常モードＭ１および独立モードＭ４のいずれの場合においても、通常搬送およびメンテナンスを同等の操作で行うことができ、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭの独立制御を行う場合においても、独立制御を意識することなく操作を行うことが可能となる。

メンテナンスモードＭ３、Ｍ６には、装置全体を停止させることなく、装置の一部のみを独立してメンテナンスすることができる独立メンテナンスモードＭ７が設けられ、この独立メンテナンスモードＭ７には、グループパワーオフモードＧＰおよびモジュールパワーオフモードＭＰが設けられている。ここで、グループパワーオフモードＧＰでは、指定されたグループ（プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２またはローダモジュールＬＭ）に関する全ての電源をオフ可能な状態にすることができる。これにより、装置全体の稼働中に、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２の一方のみを停止させることができ、残りのプロセスシップＰＳ１、ＰＳ２およびローダモジュールＬＭを稼働させたまま、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２のメンテナンスを行うことが可能となる。

モジュールパワーオフモードＭＰでは、指定されたモジュールに関する電源のみをオフ可能な状態にすることができる。これにより、例えば、Ｉ／ＯボードＩＯ１〜ＩＯ３に接続される通信回線を物理的／電気的に遮断して、Ｉ／ＯボードＩＯ１〜ＩＯ３の部品を交換でき、取り付けの後の動的な再接続を行うことができる。

図４は、本発明の一実施形態に係わるプロセスシップの独立制御の構成を示すブロック図である。図４において、例えば、プロセスシップＰＳ１を単体で動作させる場合、図１のクラスタツールの全パワーオフ時に、図１のクラスタツールからプロセスシップＰＳ１を物理的に取り外す。そして、ＧＵＩ（グラフカルユーザインターフェース）機能を提供し、搬送手順の指示などを行うパソコンＰＣ１または装置コントローラを、ハブＨＢ２を介してＰＳ制御部ＭＣ１に接続する。また、プロセスシップＰＳ１に電力を供給するためのＰＳ１用電源を接続するとともに、プロセスシップＰＳ１を独立して動作させるために解除が必要となるインターロックをエミュレートする治具Ｉ／ＬボードＪＬを取り付ける。さらに、危険防止用の治具カバーＣＶ１を取り付けるとともに、「空気」および「Ｎ_２」用の擬似的なプレッシャースイッチＳＷを介して、「空気」および「Ｎ_２」を供給する。そして、プロセスシップＰＳ１から出力される緊急停止信号およびハードワイヤインターロック信号を、治具Ｉ／ＬボードＪＬに供給するとともに、治具カバーＣＶ１から出力されるドア開閉禁止信号を供給し、さらに、プレッシャースイッチＳＷから出力されるガスバルブ閉信号およびソレノイドバルブ電源オフ信号を供給する。

ここで、ＰＳ制御部ＭＣ１には、ロードロックアームＬＲ１を動かしたり、バルブを開閉したりするなどのプロセスシップＰＳ１をハード的に動作させるための全ての機能が備わっている。このため、パソコンＰＣ１が、ＰＳ制御部ＭＣ１に搬送手順を指示することにより、プロセスシップＰＳ１があたかもローダモジュールＬＭに連結されているかのような状態で、プロセスシップＰＳ１を単独で動作させることが可能となり、オペレータは独立制御を意識することなく、プロセスシップＰＳ１を操作することが可能となる。

このため、オペレータは、表示部Ｄ２からパソコンＰＣ１に指示を与えることにより、プロセスシップＰＳ１単体での動作確認および調整（ロードロックアームＬＲ１のティーチングなど）が可能となるとともに、プロセス評価を行うことが可能となり、リードタイム（装置発注から納入までの時間）を短縮することができる。

図５は、本発明の一実施形態に係わるローダモジュールの独立制御の構成を示すブロック図である。図５において、ローダモジュールＬＭを単体で動作させる場合、図１のクラスタツールの全パワーオフ時に、図１のクラスタツールからローダモジュールＬＭを物理的に取り外す。そして、ＧＵＩ（グラフカルユーザインターフェース）機能を提供し、搬送手順の指示などを行うパソコンＰＣ２または装置コントローラを、ハブＨＢ３を介してＬＭ制御部ＭＣ３に接続する。また、ローダモジュールＬＭに電力を供給するためのＬＭ用電源をブレーカＢ５を介して接続するとともに、ローダアームＬＡ１、ＬＡ２がウェハを一時的に置くことのできる機能を持った治具カバーＣＶ２、ＣＶ３を取り付け、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２から来るインターロック要因を全てチェックすることができるファシリティチェック治具ＦＣを取り付ける。そして、ファシリティチェック治具ＦＣから出力されるインターロック信号を、システムインターロックボードＳＬに供給するとともに、治具カバーＣＶ２、ＣＶ３から出力されるロードロック室ドア非開信号、およびローダアームＬＡ１、ＬＡ２がロードロック室ＬＬ１、ＬＬ２伸びることを禁止するインターロックを解除する信号を供給する。

ここで、ＬＭ制御部ＭＣ３には、ローダアームＬＡ１、ＬＡ２を動かしたり、バルブを開閉したりするなどのローダモジュールＬＭをハード的に動作させるための全ての機能が備わっている。このため、パソコンＰＣ２が、ＬＭ制御部ＭＣ３に搬送手順を指示することにより、ローダモジュールＬＭにプロセスシップＰＳ１があたかも連結されているかのような状態で、ローダモジュールＬＭを単独で動作させることが可能となり、オペレータは独立制御を意識することなく、ローダモジュールＬＭを操作することが可能となる。

図６は、本発明の第１実施形態に係わる独立メンテナンス方法を示すフローチャートである。なお、この第１実施形態は、図３のグループパワーオフモードＧＰで独立メンテナンスを行うようにしたものである。このグループパワーオフモードＧＰでは、指定されたグループに関する全ての電源をオフ可能な状態とすることができる。また、そのグループに供給されている全ての用力（水・空気など）も遮断可能となるとともに、そのグループのＣＰＵも電断可能となる。

図６において、オペレータは、図１の表示部Ｄ１の画面上で、メンテナンスするグループのメンテナンス画面に移行し（Ｓ１）、グループパワーオフモードＧＰの実行要求を行う（Ｓ２）。ここで、メンテナンスするグループとしては、例えば、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２またはローダモジュールＬＭを指定することができる。

グループパワーオフモードＧＰの実行要求が行われると、i）該当グループのＩ／ＯボードＩＯ１〜ＩＯ３の初期化が行われ、ii）該当グループのＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２またはＬＭ制御部ＭＣ３と、統括制御部ＥＣとのイーサネット（登録商標）回線の遮断が行われる（Ｓ３）。これにより、例えば、該当グループとしてプロセスシップＰＳ１が選択された場合には、そのプロセスシップＰＳ１のみのＣＰＵを含む全ハードウェアに対するアクセスを停止した状態とすることができ、プロセスシップＰＳ２およびローダモジュールＬＭを動作させたまま、プロセスシップＰＳ１に関する全ての用力電断とＣＰＵ電断が可能となる。

グループパワーオフモードＧＰへの移行が完了すると、この移行完了メッセージが表示部Ｄ１に表示される（Ｓ４）。そして、オペレータは、グループパワーオフモードＧＰへの移行を確認すると、該当グループのブレーカＢ１〜Ｂ３を落とすことにより、ＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２またはＬＭ制御部ＭＣ３の電源をオフし（Ｓ５）、該当グループのメンテナンス作業を行うことができる（Ｓ６）。このメンテナンス作業により、正常なプロセスシップＰＳ１、ＰＳ２を用いて生産を続行しながら、異常なプロセスシップＰＳ１、ＰＳ２のパーツ交換や改造などを行うことができ、装置全体のダウン時間を短縮することができる。

メンテナンス作業が終了すると、オペレータは、該当グループのＩ／ＯボードＩＯ１〜ＩＯ３や電源などのハードウェアを正常に接続し（Ｓ７）、該当グループのＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２またはＬＭ制御部ＭＣ３の電源をオンする（Ｓ８）。

該当グループの電源がオンされると、i）リンクが確立され、ii）ＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２またはＬＭ制御部ＭＣ３を制御するためのプログラムが該当グループにダウンロードされ、iii）該当グループのＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２またはＬＭ制御部ＭＣ３に格納されているデータと、統括制御部ＥＣのデータとの整合が図られ、iv）Ｉ／Ｏの自己診断が行われ、v）該当グループのＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２またはＬＭ制御部ＭＣ３から各Ｉ／Ｏに対し、使用／不使用の設定が行われ、vi）Ｉ／Ｏの初期化が行われ、vii）該当グループがメンテナンス状態で起動されることにより、該当グループの復帰が行われる（Ｓ９）。そして、該当グループの復帰が完了すると、この復帰完了メッセージを表示部Ｄ１に表示される（Ｓ１０）。

図７は、本発明の第２実施形態に係わる独立メンテナンス方法を示すフローチャートである。なお、この第２実施形態は、図３のモジュールパワーオフモードＭＰで独立メンテナンスを行うようにしたものである。このモジュールパワーオフモードＭＰでは、指定されたモジュールに関する電源だけをオフ可能な状態とすることができ、ＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２またはＬＭ制御部ＭＣ３のＣＰＵは電断の対象とはならない。このため、メンテナンス作業後にプログラムのダウンロードなどのソフトウェアの再起動が不要となり、メンテナンス作業後の装置の復帰時間をより短縮することができる。

図７において、オペレータは、図１の表示部Ｄ１の画面上で、メンテナンスするモジュールのメンテナンス画面に移行し（Ｓ２１）、モジュールパワーオフモードＭＰの実行要求を行う（Ｓ２２）。ここで、メンテナンスするモジュールとしては、例えば、Ｉ／ＯボードＩＯ１〜ＩＯ３などを指定することができる。

モジュールパワーオフモードＭＰの実行要求が行われると、i）該当グループのＩ／ＯボードＩＯ１〜ＩＯ３が初期化され、ii）全ての入出力データＤＩＯおよび入出力アドレスＡＩＯのアクセスが停止され、iii）該当グループのＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２またはＬＭ制御部ＭＣ３と、外部機器との通信が停止され、iv）該当グループのＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２またはＬＭ制御部ＭＣ３と、Ｉ／ＯボードＩＯ１〜ＩＯ３との通信回線が遮断される（Ｓ２３）。これにより、ＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２またはＬＭ制御部ＭＣ３のＣＰＵを除いたハードウェアに対するアクセスを停止した状態とすることができ、必要最小限の部分的な電断を行うだけで、Ｉ／ＯボードＩＯ１〜ＩＯ３の交換など行うことが可能となる。

モジュールパワーオフモードＭＰへの移行が完了すると、この移行完了メッセージが表示部Ｄ１に表示される（Ｓ２４）。そして、オペレータは、モジュールパワーオフモードＭＰへの移行を確認すると、メンテナンス対象となるＩ／ＯボードＩＯ１〜ＩＯ３の電断が可能となり（Ｓ２５）、該当モジュールのメンテナンス作業を行うことができる（Ｓ２６）。このメンテナンス作業により、ＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２またはＬＭ制御部ＭＣ３のＣＰＵを動作させたまま、Ｉ／ＯボードＩＯ１〜ＩＯ３の交換などを行うことができ、メンテナンス作業後の装置の復帰時間を短縮することができる。

メンテナンス作業が終了すると、オペレータは、該当グループのＩ／ＯボードＩＯ１〜ＩＯ３や電源などのハードウェアを正常に接続し（Ｓ２７）、表示部Ｄ１の画面上で該当モジュールの復帰要求を行う（Ｓ２８）。

該当モジュールの復帰要求が行われると、i）統括制御部ＥＣとＩ／ＯボードＩＯ１〜ＩＯ３間のイーサネット（登録商標）回線が接続され、ii）該当グループのＰＳ制御部ＭＣ１、ＭＣ２またはＬＭ制御部ＭＣ３と、外部機器との通信が開始され、iii）Ｉ／Ｏの自己診断が行われ、iv）Ｉ／ＯボードＩＯ１〜ＩＯ３の初期化が行われ、v）全ての入出力データＤＩＯおよび入出力アドレスＡＩＯのアクセスが開始され、vi）該当グループがメンテナンス状態で起動されることにより、該当グループの復帰が行われる（Ｓ２９）。そして、該当モジュールの復帰が完了すると、この復帰完了メッセージを表示部Ｄ１に表示される（Ｓ３０）。

なお、上述した実施形態では、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２が２台、ロードポートＬＰ１〜ＬＰ３が３台、オリエンタが１台だけ設けられている場合について説明したが、プロセスシップＰＳ１、ＰＳ２は２台以上ならば何台でもよく、ロードポートＬＰ１〜ＬＰ３は１台以上あれば何台でもよく、オリエンタは搬送室ＴＲの両側に２台設けるようにしてもよい。また、各ロードロック室ＬＬ１、ＬＬ２には、ウェハ載置台Ｂ１１、Ｂ１２、Ｂ２１、Ｂ２２が２台ずつ設けられている場合について説明したが、ウェハ載置台は１台ずつ設けてもよい。また、ローダアームＬＡ１、ＬＡ２は２段構成の場合について説明したが、１段でもよい。

以上説明したように、第１の発明によれば、プロセスシップをローダモジュールに連結することなく、プロセスシップおよびローダモジュールの動作確認を行うことが可能となる。

また、第２の発明によれば、装置全体を停止させることなく、任意のプロセスシップのメンテナンスを行うことが可能となる。

ＬＭ……ローダモジュール
ＬＰ１〜ＬＰ３……ロードポート
ＣＳ１〜ＣＳ３……カセット
ＴＲ……搬送室
ＯＲ……オリエンタ
ＣＤ１〜ＣＤ３……ロードポートドア
ＬＡ１、ＬＡ２……ローダアーム
ＰＳ１、ＰＳ２……プロセスシップ
ＬＤ１、ＬＤ２……ロードロックドア
ＬＬ１、ＬＬ２……ロードロック室
Ｂ１１、Ｂ１２、Ｂ２１、Ｂ２２……ウェハ載置台
ＬＲ１、ＬＲ２……ロードロックアーム
ＰＧ１、ＰＧ２……プロセスゲート
ＰＭ１、ＰＭ２……プロセス室
ＥＣ……統括制御部
ＭＣ１、ＭＣ２……ＰＳ制御部
ＭＣ３……ＬＭ制御部
ＨＢ１〜ＨＢ３……ハブ
ＩＯ１〜ＩＯ３……Ｉ／Ｏボード
Ｄ１〜Ｄ３……表示部
ＳＬ……システムインターロックボード
ＰＣ１、ＰＣ２……パソコン。

上述した課題を解決するために、請求項１記載の発明によれば、互いに連結されたプロセス室とロードロック室とを有するプロセスユニットと、前記プロセスユニットを制御するプロセスユニット制御部と、前記ロードロック室と連結するローダユニットと、前記ローダユニットを制御するローダユニット制御部と、前記プロセスユニット制御部と前記ローダユニット制御部を接続し、装置全体の制御をする統括制御部と、前記装置全体を停止するシステムインターロック部と、を備え、前記システムインターロック部から前記プロセスユニット及び前記ローダモユニットをそれぞれ独立してエミュレートして、前記プロセスユニット及び前記ローダユニットの動作をそれぞれ独立して制御することを特徴とする。

また、請求項２記載の発明によれば、処理対象のプロセス処理を行う複数のプロセス室と、前記プロセス室にそれぞれ連結され、前記プロセス室に前記処理対象を搬送するロードロック室と、前記プロセス室及び前記ロードロック室を制御するプロセスユニット制御部と、前記ロードロック室に連結され、前記ロードロック室に前記処理対象を搬送するローダユニットと、前記ローダユニットを制御するローダユニット制御部と、前記プロセスユニット制御部と前記ローダユニット制御部を接続し、装置全体の制御をする統括制御部と、前記装置全体を停止するシステムインターロック部と、を備え、前記プロセス室、前記ロードロック室及び前記ローダユニットの少なくとも１つを独立に制御してメンテナンスを実行可能とされたことを特徴とする。

また、請求項３記載の発明によれば、互いに連結されたプロセス室とロードロック室とを有するプロセスユニットと、前記プロセスユニットを制御するプロセスユニット制御部と、前記ロードロック室と連結するローダユニットと、前記ローダユニットを制御するローダユニット制御部と、前記プロセスユニット制御部と前記ローダユニット制御部を接続し、装置全体の制御をする統括制御部と、を備えるクラスタツールにおいて、前記クラスタツールの増設対象となるユニットを連結することなく、各ユニットを独立させて搬送制御することを特徴とする。

Claims

複数のユニットからなる半導体製造装置において、
前記ユニットに対してそれぞれ設けられ、前記ユニットを制御するためのユニット制御手段と、
前記ユニット制御手段が前記ユニットに所定の動作をさせるための指示を前記ユニット制御手段に出力する統括制御手段とを備え、
前記ユニットが対応する前記ユニット制御手段のみに基づいて制御可能であることを特徴とする半導体製造装置。
請求項１記載の半導体製造装置において、
複数の前記ユニットが、処理対象に処理を施すための１以上のプロセスユニットと、前記処理対象を搬送するためのローダユニットとからなることを特徴とする半導体製造装置。
請求項２記載の半導体製造装置において、
前記プロセスユニットが、プロセス室とロードロック室とを具備したことを特徴とする半導体製造装置。