JP2012032232A - 分析装置のカバー開閉機構 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】開口部を有する筐体と、水平方向の回転軸周りに回転して開口部を開閉するカバーと、基端部が前記筐体に、先端部がカバーに取り付けられたガススプリングを備える分析装置のカバー開閉機構であって、回転軸に垂直な面において、カバーの回転中心とカバーの全閉位置における重心位置を通る直線と、回転中心とカバーの全開位置における重心位置を通る直線で挟まれる領域のうち、回転中心の直下位置を含む領域内に基端部固定位置を、回転中心を基点として重心位置を通る半直線の略直線上に先端部固定位置を設け、カバーの自重によるトルク値とガススプリングの弾性反力によるトルク値との合計値を、伸縮双方向に働くガススプリングの静摩擦力によるトルク値の範囲内になるよう設定する。
【選択図】図4
Description
a) 分析装置の筐体の開口部を覆い、水平方向の回転軸を中心とする回転により該開口部を開閉するカバーと、
b) 基端部が前記筐体に、先端部が前記カバーに取り付けられ、伸縮に対して所定の弾性反力特性を有し、伸縮の双方向の外力に対して所定の静摩擦力を有するガススプリングと、
を備え、
前記回転軸に垂直な面において、
前記カバーの回転中心と前記カバーの全閉位置における重心位置を通る直線と、前記回転中心と前記カバーの全開位置における重心位置を通る直線と、により挟まれる領域のうち、前記回転中心の直下位置を含む領域内に前記ガススプリングの基端部固定位置を有し、
前記回転中心を基点とし、前記カバーの重心位置を通る半直線の略直線上に前記ガススプリングの先端部固定位置を有するものであり、
前記カバーの回転に伴って変化する、カバーの自重に起因して生じる前記回転軸周りのカバートルク値と、前記ガススプリングの弾性反力により生じる前記回転軸周りのガススプリングトルク値との合計値が、前記ガススプリングの伸縮の双方向の外力に対する前記ガススプリングの静摩擦力から求められる前記回転軸周りの静止トルク値の範囲内となるように設定されている
ことを特徴とする。
c) 前記基端部の固定位置を変化させる機構
を備えてもよい。
この構成によれば、経時変化等によりガススプリングの弾性反力特性や静止摩擦特性が変化した場合に、前記ガススプリングの基端部固定位置を変更することにより、前記カバートルク値と、前記ガススプリングの弾性反力特性により生じる前記回転軸周りのガススプリングトルク値との合計値が、前記ガススプリングの伸縮の双方向の外力に対する前記回転軸周りの前記ガススプリングの静摩擦力から求められる静止トルク値の範囲内である状態が維持されるように、ガススプリングの基端部の固定位置を再調整することが可能である。
Tc=R*Fc=|R||Fc|sin(90°+θ)=|R||Fc|cosθ、
Tb=r*Fb=|r||Fb|sin{270°+(θ+α)}=-|r||Fb|cos(θ+α)
となり、θ>90度の範囲では、θの増加と共にαも増加し、
Tc=R*Fc=|R||Fc|sin(90°+θ)=|R||Fc|cosθ、
Tb=r*Fb=|r||Fb|sin{θ-(90°+α)}=-|r||Fb|cos(θ-α)
となる。θ=90度の時、即ち開閉カバー22が図3(b)で示した位置にある時には、Tc、Tbの値は共に0となる。なお、上式中の*はベクトルの外積を示す。
Tc=|R|M|g|cosθ
となる。従って、開閉カバートルクTcの値は開閉カバーの開閉角のみに依存して変化し、cos曲線を描く。
Tf+=r*f+=-|r||f|cos(θ+α)、
Tf-=r*f-=|r||f|cos(θ+α)
となり、θ>90度の範囲では、
Tf+=r*f+=-|r||f|cos(θ-α)、
Tf-=r*f-=|r||f|cos(θ-α)
となる。
11…シリンダ
12…気体
13…ピストン
14…オリフィス
15…オイル
16…ロッド
17…フリーピストン
20…分析装置のカバー開閉機構
21…筐体
22…開閉カバー
24…基端部固定可能範囲
Claims (5)
- a) 分析装置の筐体の開口部を覆い、水平方向の回転軸を中心とする回転により該開口部を開閉するカバーと、
b) 基端部が前記筐体に、先端部が前記カバーに取り付けられ、伸縮に対して所定の弾性反力特性を有し、伸縮の双方向の外力に対して所定の静摩擦力を有するガススプリングと、
を備え、
前記回転軸に垂直な面において、
前記カバーの回転中心と前記カバーの全閉位置における重心位置を通る直線と、前記回転中心と前記カバーの全開位置における重心位置を通る直線と、により挟まれる領域のうち、前記回転中心の直下位置を含む領域内に前記ガススプリングの基端部固定位置を有し、
前記回転中心を基点とし、前記カバーの重心位置を通る半直線の略直線上に前記ガススプリングの先端部固定位置を有するものであり、
前記カバーの回転に伴って変化する、カバーの自重に起因して生じる前記回転軸周りのカバートルク値と、前記ガススプリングの弾性反力により生じる前記回転軸周りのガススプリングトルク値との合計値が、前記ガススプリングの伸縮の双方向の外力に対する前記ガススプリングの静摩擦力から求められる前記回転軸周りの静止トルク値の範囲内となるように設定されている
ことを特徴とする分析装置のカバー開閉機構。 - 更に、
c) 前記基端部の固定位置を変化させる機構、
を備えることを特徴とする、請求項1に記載の分析装置のカバー開閉機構。 - 更に、
d) 前記先端部の固定位置を変化させる機構、
を備えることを特徴とする、請求項1又は2に記載の分析装置のカバー開閉機構。 - 更に、
e) 前記開閉カバーの回転に対する静摩擦力を生じさせる静止補助機構、
を備えることを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の分析装置のカバー開閉機構。 - 前記ガススプリング基端部の固定位置が、前記開閉カバーの回転中心を通る鉛直線上の下方位置であることを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載の分析装置のカバー開閉機構。
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JP2010170866A JP5434841B2 (ja) | 2010-07-29 | 2010-07-29 | 分析装置のカバー開閉機構 |
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